Abstract:
본 발명은 향상된 내염소성을 가지는 폴리아미드 역삼투막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 기존의 계면중합을 통한 폴리아미드 역삼투막 활성층 제조공정에 탄소나노튜브를 도입함으로써 제조되는 향상된 내염소성을 가지는 폴리아미드 역삼투막 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리아미드 역삼투막은, 탄소나노튜브를 극성용매에 분산시킴으로써 계면중합 시 탄소나노튜브가 계면에 삽입되게 하여 역삼투막 활성층의 내염소성을 강화시켜 준다. 또한, 탄소나노튜브의 1차원적 구조 특성으로 인해 계면중합된 고분자와 물리적으로 얽혀 고분자의 내구성이 강화되고, 탄소나노튜브가 가진 높은 화학적 비활성으로 인해 내화학성이 증대되는 효과를 가질 뿐만 아니라, 기존의 공법에 추가되는 공정이 간단하고, 시판 중인 탄소나노튜브를 그대로 사용할 수 있어 공정의 편의성이 매우 높다는 장점이 있다.
Abstract:
태양전지 제조방법 및 이에 의해 제조되는 태양전지가 개시된다. 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 기판 상에 고분자층을 형성하고, 고분자층 상에 복수의 비드를 도포한다. 그리고 고분자층을 유리전이온도 이상으로 가열하여, 비드의 일부분을 고분자층에 침전시킨다. 본 발명에 따르면, 기판 상에 건식식각 공정 없이 요철이 형성된 태양전지를 제조할 수 있어 건식식각 공정에 따른 제반 문제가 발생하지 않는다. 그리고 본 발명에서는 스핀코팅과 같은 간단한 공정을 통한 박막 형성공정과 저온 열처리 공정만이 이용되므로 시간과 비용을 크게 절감할 수 있다. 태양전지, 유리전이온도, 고분자, texturing, RIE
Abstract:
PURPOSE: A negative-tone electron beam lithography resist composition is provided to be economically manufactured, to easily control a crosslinked part by controlling a synthesis ratio, to easily control the thickness of the electron beam resist, and to be applied to a lithography process. CONSTITUTION: A negative-tone electron beam lithography resist composition includes a polystyrene random copolymer including an azide functional group. The dose of the electron beam resist is 40 μC/cm^2 - 116 μC/cm^2. The polystyrene random copolymer is synthesized by polymerizing a styrene monomer and 1-(chloromethyl)-4-vinylbenzene through a RAFT(reversible addition-fragmentation chain transfer) method.
Abstract translation:目的:为了经济地制造负色电子束光刻抗蚀剂组合物,通过控制合成比容易控制交联部分,容易控制电子束抗蚀剂的厚度,并适用于光刻工艺。 构成:负电子束光刻抗蚀剂组合物包括包含叠氮官能团的聚苯乙烯无规共聚物。 电子束抗蚀剂的剂量为40μC/ cm 2〜116μC/ cm ^ 2。 聚苯乙烯无规共聚物是通过RAFT(可逆加成 - 断裂链转移)法聚合苯乙烯单体和1-(氯甲基)-4-乙烯基苯来合成的。
Abstract:
PURPOSE: A coating composition is provided to be used for manufacturing a poly(arylene ether sulfone)-based reverse osmosis membrane having a cross-linked structure and to obtain high durability and excellent salt rejection coefficient compared with a conventional polyamide-based reverse osmosis membrane. CONSTITUTION: A coating composition used for manufacturing a reverse osmosis membrane comprises: 20-50 weight% of poly(arylene ether sulfone) copolymers; 0.5-5 weight% of an epoxy resin; and an organic solvent. A method for manufacturing the reverse osmosis membrane for seawater desalting comprises: a step(S110) of manufacturing the coating composition including the poly(arylene ether sulfone) copolymers; a step(S120) of forming a mixed solution by dispersing inorganic particles on the coating composition; a step(S130) of spreading the mixed solution on the surface of a material to be coated; a step(S140) of forming a membrane by drying the mixed solution; and a step(S150) of crosslinking the inorganic particles and the poly(arylene ether sulfone) copolymers within the dried membrane.
Abstract:
발광다이오드 제조방법 및 이에 의해 제조되는 발광다이오드가 개시된다. 본 발명에 따른 발광다이오드 제조방법의 일 실시예는 기판의 상면에 고분자층을 형성하고, 고분자층의 상면에 복수의 비드를 도포한다. 그리고 고분자층을 유리전이온도 이상으로 가열하여, 비드의 일부분을 고분자층에 침전시킨다. 본 발명에 따른 발광다이오드 제조방법의 다른 실시예는 기판의 상면에 고분자층을 형성하고, 고분자층의 상면에 복수의 비드를 도포한다. 그리고 비드가 식각되는 속도보다 고분자층이 식각되는 속도가 큰 식각가스를 이용하여, 비드, 고분자층 및 기판의 상면을 건식식각한다. 본 발명에 따르면, 식각 공정이 없이 또는 식각 공정이 있더라도 사진식각 공정이 없이 굴곡 있는 패턴을 가진 발광다이오드를 제조할 수 있어 시간과 비용을 크게 절감할 수 있다. LED, 외부광추출효율, 내부 전반사, 유리전이온도, 고분자
Abstract:
PURPOSE: A light emitting diode and a method for manufacturing the same are provided to reduce a time and a cost using a thermal process with a low temperature and a thin film forming process through a spin coating process. CONSTITUTION: A polymer layer is formed in an upper side of a substrate(S110). The ultraviolet ray is irradiated to the polymer layer. A plurality of beads are coated in the upper side of the polymer layer(S120). A part of beads is immersed in the polymer layer by heating the polymer layer above a glass transition temperature(S130).
Abstract:
A method for manufacturing a solar cell is provided to improve photoelectric conversion efficiency because plural nano scale grooves perpendicular to a surface are formed uniformly. A method for manufacturing a solar cell includes the steps of: (a) laminating a surface modified layer onto a quartz substrate(110) to form a neutral brush(130) by using a random copolymer(120) of polystyrene and polymethyl methacrylate; (b) performing phase separation by laminating a block copolymer layer(140) of polystyrene and polymethyl methacrylate onto the upper surface of the neutral brush and then to anneal the block copolymer layer; (c) forming a nano-template with a nano pattern by removing an area of the polymethyl methacrylate of the phase separated block copolymer layer; (d) attaching a light emitting surface of a solar cell(150) and the bottom surface of the quartz substrate in which the nano-template is formed; (e) etching the quartz substrate by using the nano-template; and (f) etching the light emitting surface of the solar cell by using the quartz substrate.
Abstract:
본발명에의한나노리쏘그래피(nanolithography) 공정에서블록공중합체와중성의성형중합체(star polymer)를블록공중합체박막에도입하여블록공중합체의미세구조가기판과수직한방향으로배향된블록공중합체박막을제조하여추가의기판표면의개질공정없이마이크로도메인의배향을조절할수 있으며, 기판의종류에관계없이블록공중합체패턴을다양하게실시할수 있다.