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    전자 방출 소자 및 그 제조방법
    41.
    发明公开
    전자 방출 소자 및 그 제조방법 无效
    电子发射装置及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020060019847A

    公开(公告)日：2006-03-06

    申请号：KR1020040068521

    申请日：2004-08-30

    Applicant: 삼성에스디아이 주식회사

    Inventor： 황성연

    IPC: H01J1/30 ,  C01B31/02

    CPC classification number: H01J1/304 ,  H01J3/025 ,  H01J2201/30446

    Abstract: 본 발명의 목적은 집속전극을 구비한 전자 방출 소자에서 박막 증착 방식과 후막 형성 방식을 적절히 적용하여 양산성 저하를 방지하면서 고해상도 및 고화질의 소자 특성을 용이하게 확보하는 것이다.
    본 발명의 목적은 기판 위에 캐소드 전극을 형성하는 단계; 캐소드 전극을 덮도록 기판 위에 후막 형성 방식에 의해 제 1 절연층을 형성하는 단계; 제 1 절연층 위에 박막 증착 방식에 의해 게이트 전극을 형성하는 단계; 게이트 전극에 개구부를 형성하는 단계; 게이트 전극을 덮도록 제 1 절연층 위에 후막 형성 방식에 의해 제 2 절연층을 형성하는 단계; 제 2 절연층 위에 박막 증착 방식에 의해 집속 전극을 형성하는 단계; 집속 전극에 게이트 전극의 개구부에 대응하는 개구부를 형성하는 단계; 집속 전극의 개구부에 의해 노출된 제 2 절연층과 제 1 절연층을 순차적으로 식각하여 제 2 절연층과 제 1 절연층에 개구부를 각각 형성하여 캐소드 전극을 노출시키는 단계; 및 노출된 캐소드 전극 위에 전자 방출부를 형성하는 단계를 포함하는 전자 방출 소자의 제조방법에 의해 달성될 수 있다.
    전자 방출 소자, 집속 전극, 박막 증착 방식, 후막 형성 방식, 절연층

    박막 제조를 위한 가상 음극 증착 장치 및 방법
    42.
    发明公开
    박막 제조를 위한 가상 음극 증착 장치 및 방법 审中-实审
    虚拟阴极沉积装置和用于薄膜制造的方法

    公开(公告)号：KR1020170058397A

    公开(公告)日：2017-05-26

    申请号：KR1020177010126

    申请日：2015-09-18

    Applicant: 플라즈마 앱 리미티드

    Inventor： 야모리치드머티

    IPC: C23C14/34 ,  C23C14/32 ,  H01J37/34 ,  H01J37/32

    CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/32 ,  H01J3/025 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32596 ,  H01J37/32816 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3467 ,  H01J2237/06366 ,  H01J2237/3137 ,  H01J2237/332

    Abstract: 가상음극증착장치는고체타겟을삭마하기위한고밀도전자빔을생성하기위해가상플라즈마음극을이용한다. 고전압전기펄스는가스를이온화하여전면에일시적으로나타나고타겟의근방에서가상플라즈마음극으로서의역할을하는플라즈마를생성한다. 그리고이러한플라즈마는사라져서플라즈마플룸의형태인삭마된타겟재료가기판을향해전파되게한다. 병렬적으로동작하는여러가상음극들이균일한플라즈마로합해지는플룸들을제공하고, 이것은인접한기판상에서농축되면균일한두께의박막의광역증착을야기한다.

    Abstract translation: 虚拟阴极沉积设备使用虚拟等离子体阴极来产生用于消融固体靶的高密度电子束。 高压电脉冲使气体电离，产生暂时出现在前表面上的等离子体，并充当目标附近的虚拟等离子体阴极。 然后去除该等离子体，使等离子体羽流形式的烧蚀目标材料向基板传播。 平行操作的若干虚阴极提供羽流，羽流结合成均匀的等离子体，当在相邻基板上富集时，引起均匀厚度的薄膜的广泛沉积。

    전자 방출 소자
    43.
    发明公开
    전자 방출 소자 无效

    公开(公告)号：KR1020060019855A

    公开(公告)日：2006-03-06

    申请号：KR1020040068529

    申请日：2004-08-30

    Applicant: 삼성에스디아이 주식회사

    Inventor： 홍수봉 ,  안상혁 ,  이상조

    IPC: H01J1/30 ,  G09G3/22 ,  C01B31/02

    CPC classification number: H01J1/304 ,  G09G3/22 ,  H01J3/025

    Abstract: 본 발명은 스페이서 차징에 의한 전자빔 경로 왜곡을 억제하고, 전자들을 집속시켜 화면의 색재현율을 높일 수 있는 전자 방출 소자에 관한 것으로서,
    제1 기판 및 제2 기판과; 제1 기판 위에 형성되는 게이트 전극들과; 게이트 전극들을 덮으면서 제1 기판 위에 형성되는 절연층과; 절연층 위에서 제1 기판의 일 방향을 따라 형성되는 라인부들 및 각 라인부의 일측단으로부터 라인부와 교차하는 방향을 따라 연장된 다수의 연장부들을 포함하는 캐소드 전극들과; 연장부와 접촉하면서 라인부와 교차하는 방향을 따라 형성되는 전자 방출부들과; 제1 기판과 제2 기판 사이에 설치되며, 라인부와 교차하는 방향을 따라 전자 방출부와 이격되어 위치하는 스페이서들을 포함하는 전자 방출 소자를 제공한다.
    스페이서, 전자차징, 캐소드전극, 게이트전극, 전자방출부, 애노드전극, 형광막, 풋싱전극

    APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF FLEXIBLE SUBSTRATES HAVING A LARGE WIDTH USING AN ELECTRON BEAM
    48.
    发明申请
    APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF FLEXIBLE SUBSTRATES HAVING A LARGE WIDTH USING AN ELECTRON BEAM 审中-公开
    用于处理使用电子束的大幅宽度的柔性基板的装置和方法

    公开(公告)号：WO2016070940A1

    公开(公告)日：2016-05-12

    申请号：PCT/EP2014/074087

    申请日：2014-11-07

    Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  KLEMM, Günter ,  HACKER, Volker ,  TRASSL, Roland

    Inventor： KLEMM, Günter ,  HACKER, Volker ,  TRASSL, Roland

    IPC: H01J3/02 ,  H01J37/077 ,  G21K5/10

    CPC classification number: H01J3/025 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01J37/077

    Abstract: According to the present disclosure, a charged particle device for treatment of a substrate and method for increasing the extraction efficiency of a charged particle device are provided. The charged particle device includes: a housing providing a first electrode, the housing having a back wall and a front wall; a slit opening in the housing; and a second electrode being arranged within the housing and having a first side facing the slit opening. The second electrode includes one or more beam shaping extension that protrude from the second electrode in a direction towards the front wall of the housing for guiding the charged particle beam through the slit opening.

    Abstract translation: 根据本公开，提供了一种用于处理基板的带电粒子装置和用于提高带电粒子装置的提取效率的方法。 所述带电粒子装置包括：提供第一电极的壳体，所述壳体具有后壁和前壁; 壳体中的狭缝开口; 并且第二电极布置在壳体内并且具有面向狭缝开口的第一侧。 第二电极包括一个或多个光束成形延伸部，其沿着朝向壳体的前壁的方向从第二电极突出，用于引导带电粒子束穿过狭缝开口。

    DEVICE FOR GENERATING PLASMA AND FOR DIRECTING AN FLOW OF ELECTRONS TOWARDS A TARGET
    50.
    发明申请
    DEVICE FOR GENERATING PLASMA AND FOR DIRECTING AN FLOW OF ELECTRONS TOWARDS A TARGET 审中-公开
    用于产生等离子体并指导电子流向目标的装置

    公开(公告)号：WO2010109297A3

    公开(公告)日：2010-11-25

    申请号：PCT/IB2010000644

    申请日：2010-03-23

    Applicant: ORGANIC SPINTRONICS S R L ,  LOTTI RICCARDO ,  NOZAR PETR ,  TALIANI CARLO

    Inventor： LOTTI RICCARDO ,  NOZAR PETR ,  TALIANI CARLO

    IPC: H01J3/02 ,  H01J37/077

    CPC classification number: H01J3/025

    Abstract: Device (1) for generating plasma and for directing an flow of electrons towards a specific target (3); the device (1) comprises a hollow cathode (5); a main electrode (7) at least partially placed inside the cathode (5); a resistor (12), electrically earthing the main electrode (7); a substantially dielectric tubular element (21) extending through a wall (22) of the cathode; a ring-shaped anode (25) placed around the tubular element (21) and earthed; and an activation group (11) which is electrically connected to the cathode (5) and is able to reduce the electric potential of the cathode (5) of at least 8 kV in about 10 ns.

    Abstract translation: 用于产生等离子体并用于将电子流导向特定目标（3）的装置（1）; 该装置（1）包括空心阴极（5）; 至少部分地放置在阴极（5）内部的主电极（7）; 电阻器（12），电连接主电极（7）; 延伸穿过阴极的壁（22）的基本上介电的管状元件（21） 放置在管状元件（21）周围并接地的环形阳极（25） 和电连接到阴极（5）并且能够在约10ns内将阴极（5）的电势降低至少8kV的激活组（11）。

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