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公开(公告)号:CN104602717B
公开(公告)日:2019-01-15
申请号:CN201380030830.2
申请日:2013-03-15
Applicant: 伊莱克创工控股有限责任公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/24 , H01J37/30 , H01J2237/06366 , H01J2237/182 , H01J2237/2002 , H01J2237/202 , H01J2237/31
Abstract: 本文中公开了低能电子灭菌器以及使用低能电子进行灭菌的方法。使用低能电子对器械进行灭菌的示例方法可以包括产生一个或多个低能电子、使所述器械维持在真空中以及用所述低能电子来照射所述器械。所述低能电子可以具有小于或等于25keV的能量,并且所述真空可以足够低以防止所述一个或多个电子产生等离子。
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公开(公告)号:CN107231818A
公开(公告)日:2017-10-03
申请号:CN201580050192.X
申请日:2015-09-18
Applicant: 等离子体应用有限公司
Inventor: 德米特里·亚莫利奇
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/32 , H01J3/025 , H01J37/32055 , H01J37/3233 , H01J37/32422 , H01J37/32449 , H01J37/32596 , H01J37/32816 , H01J37/34 , H01J37/3467 , H01J2237/06366 , H01J2237/3137 , H01J2237/332
Abstract: 一种虚拟阴极沉积装置,利用虚拟等离子体阴极产生高密度电子束以消融固体靶材。高压电脉冲电离气体产生的等离子体短时间出现在靶材前方,作为靶材附近的虚拟等离子体阴极。然后这种等离子体消失,允许被消融的靶材以等离子体羽流的形式流向衬底。多个虚拟阴极同时提供羽流以汇合成一个均匀的等离子体羽流,该等离子体羽流在附近的衬底上冷凝以导致大范围的均匀厚度薄膜的沉积。
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公开(公告)号:CN104538273A
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201410799769.4
申请日:2014-12-19
Applicant: 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所
IPC: H01J37/077 , H01J37/04
CPC classification number: H01J37/04 , H01J37/077 , H01J2237/06366
Abstract: 本发明提供了一种高电压冷阴极气体放电电子枪的电源装置及其控制方法,该电源装置包括:高压电源、高压采样电路、电离电源、电离电压采样电路、电压控制与调节电路、束流采样电阻和束流控制与调节电路。本发明技术方案将高压采样电路、电离电压采样电路和束流采样电阻的采样信号作为反馈量,与给定值进行比较,闭环控制高压电源、电离电源和气体流量控制器,使高压电源、电离电源和电子束流输出稳定。上述技术方案可以提高冷阴极气体放电电子枪的工作电压,获得长寿命新型电子束源。
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公开(公告)号:CN103748970A
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN201280041424.1
申请日:2012-10-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05H1/24 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/3233 , H01J2237/06366
Abstract: 依赖电子束作为等离子体源的等离子体反应器在电子束源中使用剖面式电子束析取网格以改良均匀性。
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公开(公告)号:CN101849275B
公开(公告)日:2012-06-13
申请号:CN200880115028.2
申请日:2008-11-06
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/077 , H01J3/00 , H01J37/02 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/026 , H01J37/3171 , H01J2237/0041 , H01J2237/06366
Abstract: 一种等离子体电子流系统,包括构造为包含气体的壳体,并包括位于其中的细长引出缝、阴极和多个阳极,并且其中所述细长引出缝与离子注入机直接连通,所述阴极丝发射电子,所述电子通过所述阴极和多个阳极之间的电势差被吸引至所述多个阳极,其中所述电子通过所述细长引出缝被释放,作为电子带用于中和在离子注入机内行进的带状离子束。
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公开(公告)号:CN104602717A
公开(公告)日:2015-05-06
申请号:CN201380030830.2
申请日:2013-03-15
Applicant: 伊莱克创工控股有限责任公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/24 , H01J37/30 , H01J2237/06366 , H01J2237/182 , H01J2237/2002 , H01J2237/202 , H01J2237/31
Abstract: 本文中公开了低能电子灭菌器以及使用低能电子进行灭菌的方法。使用低能电子对器械进行灭菌的示例方法可以包括产生一个或多个低能电子、使所述器械维持在真空中以及用所述低能电子来照射所述器械。所述低能电子可以具有小于或等于25keV的能量,并且所述真空可以足够低以防止所述一个或多个电子产生等离子。
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公开(公告)号:CN101903970A
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200880121971.4
申请日:2008-10-22
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor: 威廉·狄贝尔吉利欧
IPC: H01J37/08
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/16 , H01J37/077 , H01J2237/06366 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
Abstract: 一种离子源(100)包括第一等离子体腔(102)和第二等离子体腔(116)。第一等离子体腔(102)包括等离子体产生部件(104)和用于接收第一气体的第一进气口(122),以使等离子体产生部件(104)与第一气体相互作用以在第一等离子体腔(102)中产生第一等离子体,其中第一等离子体腔(102)还限定了用于从第一等离子体引出电子的孔(114);第二等离子体腔(116)包括用于接收第二气体的第二进气口(118),其中第二等离子体腔(116)还限定了实质上与第一等离子体腔(102)的孔(112)对准的、用于接收从其中引出的电子的孔(117),以使电子与第二气体相互作用,以在第二等离子体腔(116)中产生第二等离子体,且第二等离子体腔(116)还限定了用于从第二等离子体引出离子的引出孔(120)。
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公开(公告)号:CN101849275A
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200880115028.2
申请日:2008-11-06
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/077 , H01J3/00 , H01J37/02 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/026 , H01J37/3171 , H01J2237/0041 , H01J2237/06366
Abstract: 一种等离子体电子流系统,包括构造为包含气体的壳体,并包括位于其中的细长引出缝、阴极和多个阳极,并且其中所述细长引出缝与离子注入机直接连通,所述阴极丝发射电子,所述电子通过所述阴极和多个阳极之间的电势差被吸引至所述多个阳极,其中所述电子通过所述细长引出缝被释放,作为电子带用于中和在离子注入机内行进的带状离子束。
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公开(公告)号:EP2836242A4
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:EP13775703
申请日:2013-03-15
Applicant: ELECTRONWORKS HOLDINGS LLC
Inventor: GORZEN DANIEL F , KIRK RANDOL E
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/24 , H01J37/30 , H01J2237/06366 , H01J2237/182 , H01J2237/2002 , H01J2237/202 , H01J2237/31
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10.E-BEAM PLASMA SOURCE WITH PROFILED E-BEAM EXTRACTION GRID FOR UNIFORM PLASMA GENERATION 审中-公开
Title translation: E-BEAM等离子体源,具有用于均匀等离子体生成的分布式电子束提取网公开(公告)号:WO2013059093A1
公开(公告)日:2013-04-25
申请号:PCT/US2012/060018
申请日:2012-10-12
Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. , DORF, Leonid , RAUF, Shahid , COLLINS, Kenneth S. , MISRA, Nipun , CARDUCCI, James D. , LERAY, Gary , RAMASWAMY, Kartik
Inventor: DORF, Leonid , RAUF, Shahid , COLLINS, Kenneth S. , MISRA, Nipun , CARDUCCI, James D. , LERAY, Gary , RAMASWAMY, Kartik
IPC: H05H1/24 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/3233 , H01J2237/06366
Abstract: A plasma reactor that relies on an electron beam as a plasma source employs a profiled electron beam extraction grid in an electron beam source to improve uniformity.
Abstract translation: 依靠电子束作为等离子体源的等离子体反应器采用电子束源中的成型电子束提取栅格来改善均匀性。
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