-
公开(公告)号：CN115125498A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202110312735.8
申请日：2021-03-24
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 本发明公开一种磁控溅射源以及溅射成膜装置，其中，一种磁控溅射源，包括：被驱动围绕一转动轴线旋转的旋转靶材；设置在所述旋转靶材内部的磁体组件；用于调节至少部分所述磁体组件相对于所述转动轴线的位置的磁场调整机构。该磁控溅射源及其溅射成膜装置能够在成膜过程中能够根据基板的形状使得膜的沉积可被控制，以此在基板的表面获得均一的膜厚。
-
公开(公告)号：CN114144542B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202080006975.9
申请日：2020-07-30
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 为了提供一种可确保成膜品质的稳定性、生产率高、小型且廉价的成膜装置，其具备：旋转体(21)，其为能够旋转的旋转体(21)，沿着该旋转体(21)的外周部设置有保持部(212)，应移载的对象物(3)以能够装卸的方式保持于该保持部(212)；以及移载机构(22)，其具有能够把持以及释放上述对象物(3)的把持机构(223)，将保持于规定设备(111)的对象物(3)移载到上述旋转体(21)的保持部(212)，并且将保持于上述旋转体(21)的其他对象物(3)移载到上述规定设备(111)。
-
-
公开(公告)号：CN106256927B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201510711369.8
申请日：2015-10-28
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。本发明的方法是下述成膜方法：通过将施加有电压的多个基板依次导入成膜区域内的规定位置，成膜区域是利用溅射放电的溅射等离子体从靶材释放出的溅射粒子所到达的区域，由此使溅射粒子到达基板的表面并堆积，并进行使溅射等离子体中的离子撞击基板或溅射粒子的堆积物的等离子体处理，形成薄膜，其中，在形成于具有排气系统的真空容器内的成膜区域内，进行溅射粒子的堆积和基于溅射等离子体的等离子体处理而形成中间薄膜，然后通过使基板保持器旋转而使基板移动至被配置成与成膜区域在空间上分离的反应区域内，进行使溅射等离子体之外的其他等离子体中的离子撞击中间薄膜的等离子体再处理，形成薄膜。
-
公开(公告)号：CN105307784B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201580000240.4
申请日：2015-05-01
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: B05B17/04 , B05B9/04 , B05B13/0221 , B05B14/20 , B05B16/60 , B05D1/02 , B05D3/0493 , B05D5/083 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/15
Abstract: 本发明提供一种以低成本成膜出具备耐久性的薄膜的方法。该成膜方法使用成膜装置(1)。该装置(1)包括：基板(100)配置于内部下方的真空容器(11)、对该容器(11)内进行排气的真空泵(15)、设置于容器(11)外部且储藏成膜剂溶液(21)的储藏容器(23)、一端具有成为可排出成膜剂溶液(21)的排出部(19)的喷嘴(17)、加压储藏容器(23)内所储藏的成膜剂溶液(21)的液面的加压单元(气体供给源(29)等)。使用由2种以上材料构成的溶液作为成膜剂溶液(21)，所述溶液包含第1材料(S1)和具有高于该S1的蒸汽压(P1)的蒸汽压(P2)的第2材料(S2)，且第1材料的浓度为0.01重量％以上。对于该成膜剂溶液(21)，在P2以上的压力(其中，不包括高于P2一个数量级以上的压力)的气氛下，以0.05～0.3MPa的排出压将其排出至基板上。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105324513B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201580000971.9
申请日：2015-06-02
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 提供能够通过简单的作业实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜的可搬型旋转装置及成膜装置。可搬型旋转装置(11)由如下部分构成：旋转拱顶(21)，其通过设置于真空蒸镀装置(1)的伺服马达(M)进行旋转；基板支架(12)，其以能够旋转的方式被支承在旋转拱顶(21)上，被成膜基板(14)载置于该基板支架(12)；内框(11a)，其经公转齿轮用轴承而被安装在旋转拱顶(21)上；外框(24)，其配设在内框(11a)的外侧，形成为与基板支架(12)的外周侧啮合；以及连结臂(41)，其将内框(11a)和外框(24)连结起来。旋转拱顶行旋转，基板支架(12)由旋转拱顶(21)保持在公转轴线(R1)的周围并被支承成能够以行星齿轮机构的自转轴线(R2)为中心进行旋转。(21)以行星齿轮机构的公转轴线(R1)为中心进
-
公开(公告)号：CN104350380B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201280073844.8
申请日：2012-09-10
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: G01B11/0633 , C23C14/30 , C23C14/54 , G01N21/8422
Abstract: 表示的光学特性值，该测量装置同时测量多个所提供一种能够实现更高速的测量并能够获 述光学特性值。得更高精度的测量结果的装置，来作为对薄膜的光学特性值和光学膜厚值中的至少一个值进行测量的测量装置。对形成于监视基板(Sm)的薄膜的包括光学特性值和光学膜厚值中的至少一方的值进行测量的测量装置(101)具备：光信号产生机构(10)，其将多个LED单元(11a～11f)利用光学滤光镜所生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率，并发出多个光信号；照射机构(20)，其对该多个光信号进行复用而生成复用信号，并通过光纤将复用信号向监视基板(Sm)照射；检测机构(30)，其通过光纤检测由监视基板(Sm)反射的复用信号并输出电信号；信号分离机构(50)，其对检测机构(30)所输出的电信号实施带通滤波器的滤波处理，从该电信号中将每个设定频率的成分信号分离出来；以及计(56)对比文件JP 特开2005-55407 A,2005.03.03,CN 1707307 A,2005.12.14,CN 1877298 A,2006.12.13,CN 2763776 Y,2006.03.08,CN 100477955 C,2009.04.15,JP 特开2009-222527 A,2009.10.01,
-
公开(公告)号：CN105324513A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201580000971.9
申请日：2015-06-02
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 提供能够通过简单的作业实现借助于行星齿轮旋转的基板成膜的可搬型旋转装置及成膜装置。可搬型旋转装置(11)由如下部分构成：旋转拱顶(21)，其通过设置于真空蒸镀装置(1)的伺服马达(M)进行旋转；基板支架(12)，其以能够旋转的方式被支承在旋转拱顶(21)上，被成膜基板(14)载置于该基板支架(12)；内框(11a)，其经公转齿轮用轴承而被安装在旋转拱顶(21)上；外框(24)，其配设在内框(11a)的外侧，形成为与基板支架(12)的外周侧啮合；以及连结臂(41)，其将内框(11a)和外框(24)连结起来。旋转拱顶(21)以行星齿轮机构的公转轴线(R1)为中心进行旋转，基板支架(12)由旋转拱顶(21)保持在公转轴线(R1)的周围并被支承成能够以行星齿轮机构的自转轴线(R2)为中心进行旋转。
-
公开(公告)号：CN102137951B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN200980134065.2
申请日：2009-09-14
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/0078 , C03C17/001 , C03C2218/31 , H01J37/32082
Abstract: 本发明提供一种滤光器的制造方法，该制造方法通过在薄膜形成前除去因清洗而附着于基板表面的异物来制造具有良好膜质的滤光器。通过进行使用含有水分的溶液对基板S进行清洗的清洗工序P1、利用氧气的等离子体对经清洗工序P1进行清洗的基板S的表面进行等离子体处理的前处理工序P3、以及在经前处理工序P3进行了等离子体处理的基板S的表面形成薄膜的薄膜形成工序(P4、P5)，能够有效除去附着在基板表面的异物。另外，在前处理工序P3中，向产生等离子体的区域仅导入氧气，且使所导入的氧气流量多于在薄膜形成工序中所导入的氧气流量，从而在薄膜形成工序(P4、P5)之前有效去除在清洗工序中通过OH基键附着在基板S表面的异物、防止脱膜部的发生。
-
公开(公告)号：CN103014617B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201210327850.3
申请日：2012-09-06
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/04 , C23C16/042 , C23C16/4584
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置，其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化，从而能够缩短薄膜形成时的作业时间，减少成膜作业的费用。薄膜形成装置（100）具备的基板保持机构（3）具有：基板保持部件（10～40），保持多个基板（S），使得基板（S）的非成膜部分（S2）的一部分与其他基板（S）重合，而成膜部分（S1）露出；支撑部件（50），支撑基板保持部件（10～40）；旋转部件（60），使支撑部件（50）旋转，基板保持部件（10～40）具有：多个保持面（11d），保持多个基板（S），配置在成膜源（4）与多个基板（S）之间；多个阶差部（11e），形成在多个保持面（11d）之间，分别与多个基板（S）的端部抵接；多个开口部（11f），在基板（S）的端部抵接在多个阶差部（11e）的状态时，形成在与成膜部分（S1）相应的部分的保持面（11d）上。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
105
records
(took 0.04 seconds)
