公开(公告)号：CN116417312A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202111638914.7

申请日：2021-12-29

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  青山贵昭 ,  宫内充祐 ,  松本繁治 ,  斋藤大嗣

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/147 ,  H01J9/14

Abstract: 本申请实施例提供一种离子引出栅极、离子源以及离子引出栅极的制造方法。所述离子引出栅极的截面呈弧状，在离子引出栅极上设置有贯穿离子引出栅极且中心轴线为直线的多个孔部；其中，多个孔部中的至少一部分孔部的中心轴线与孔部周围的离子引出栅极的表面的切线不垂直，和/或，离子引出栅极的厚度根据孔部的大小和相邻孔部之间的间隔被确定。由此，离子能够高效地通过离子引出栅极的孔部，从而进一步提升离子源的效率；此外，可以在提高栅极的离子束引出效率从而加大离子束密度的同时，兼顾地提高栅极的机械强度和延长使用寿命。

公开(公告)号：CN109207932A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201710524216.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  高坂佳弘 ,  青山贵昭 ,  远藤光人

IPC: C23C14/26

Abstract: 本发明公开一种成膜装置，包括：容器，其内部能容置基板；能将所述容器内部排气至真空状态的排气机构；储藏溶液的储藏机构；能将所述溶液排出至所述基板上的喷嘴；加热机构，其能对所述喷嘴和/或所述容器内部加热。本发明提供的成膜装置能够减少或消除基板在成膜过程中形成的液迹。

公开(公告)号：CN119343475A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202380028002.9

申请日：2023-05-18

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长谷川友和 ,  渡边健 ,  门肋亘成 ,  庄司善纪 ,  青山贵昭 ,  宫内充祐 ,  山口刚

IPC: C23C14/24

Abstract: 为了相对于炉床内衬的收纳体积供给适当的量的材料，成膜装置具有：成膜腔室(2)，其至少设置有成膜材料(M)和被成膜物(S)，并且该成膜腔室(2)能够设定为规定的成膜气氛；炉床内衬(23)，其设置于所述成膜腔室的内部，并收纳所述成膜材料；加热源(24)，其设置于所述成膜腔室的内部，并对收纳于所述炉床内衬的成膜材料进行加热；材料供给器(3)，其向所述炉床内衬供给所述成膜材料；以及高度测定器(4)，其测定收纳于所述炉床内衬的成膜材料的溶融面的高度；以及控制器(6)，其根据由所述高度测定器测定出的溶融面的高度来运算应供给的成膜材料的质量，并对所述材料供给器进行控制以将该运算出的质量的成膜材料供给至所述炉床内衬。

公开(公告)号：CN112779507B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN201911094854.X

申请日：2019-11-11

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 盐田有广 ,  青山贵昭 ,  远藤光人 ,  长江亦周

IPC: C23C14/34

Abstract: 本申请提供一种成膜装置，包括：真空容器；绕垂直轴线转动的基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板；可拆卸地安装于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开。本申请提供的成膜装置能够改善成膜质量。

公开(公告)号：CN108690963A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201710228584.1

申请日：2017-04-10

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  菅原卓哉 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明公开一种成膜装置，该成膜装置包括：真空容器；与所述真空容器内部连通的排气机构；基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板；位于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开；所述隔离单元被配置为将所述成膜区域与所述成膜区域的外部连通。

公开(公告)号：CN119012488A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202310568713.7

申请日：2023-05-19

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  青山贵昭 ,  冈田胜久 ,  渡边健

IPC: H05H1/46 ,  H01F5/00 ,  H01F38/14

Abstract: 本申请实施例提供一种等离子体发生装置的线圈和等离子体发生装置，该线圈包括至少一个由导线卷绕而成的螺旋部，对于所述线圈的至少一个所述螺旋部，所述导线的投影面积Sa与所述螺旋部的外缘所包围的区域的投影面积S的比值为0.07～0.5。本申请的线圈能够改善该线圈导入的电磁场所产生的等离子体的均匀性。

公开(公告)号：CN114375346A

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN202180005205.7

申请日：2021-02-10

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 大胡嘉规 ,  宫内充祐 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/54

Abstract: 具备：成膜室(11)，其中，在基板(S)形成膜；减压装置(19)，其使上述成膜室内为减压气氛；圆盘状的基板架(12)，其可旋转地设置于上述成膜室内，在一个主表面具有可自转地保持上述基板的基板保持部(14)；驱动装置(13)，其使上述基板架旋转；成膜工艺区(R1)，其形成于上述成膜室内的与上述基板架的外周区域对应的空间，设有溅射电极(16)；反应工艺区(R2)，其形成于上述成膜室内的与上述基板架的中心区域对应的空间，设有等离子体产生装置(17)；和气体导入装置(18)，其向上述成膜室内导入放电气体和反应气体。

公开(公告)号：CN114144542A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202080006975.9

申请日：2020-07-30

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 大胡嘉规 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56

Abstract: 为了提供一种可确保成膜品质的稳定性、生产率高、小型且廉价的成膜装置，其具备：旋转体(21)，其为能够旋转的旋转体(21)，沿着该旋转体(21)的外周部设置有保持部(212)，应移载的对象物(3)以能够装卸的方式保持于该保持部(212)；以及移载机构(22)，其具有能够把持以及释放上述对象物(3)的把持机构(223)，将保持于规定设备(111)的对象物(3)移载到上述旋转体(21)的保持部(212)，并且将保持于上述旋转体(21)的其他对象物(3)移载到上述规定设备(111)。

公开(公告)号：CN114144542B

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202080006975.9

申请日：2020-07-30

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 大胡嘉规 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56

Abstract: 为了提供一种可确保成膜品质的稳定性、生产率高、小型且廉价的成膜装置，其具备：旋转体(21)，其为能够旋转的旋转体(21)，沿着该旋转体(21)的外周部设置有保持部(212)，应移载的对象物(3)以能够装卸的方式保持于该保持部(212)；以及移载机构(22)，其具有能够把持以及释放上述对象物(3)的把持机构(223)，将保持于规定设备(111)的对象物(3)移载到上述旋转体(21)的保持部(212)，并且将保持于上述旋转体(21)的其他对象物(3)移载到上述规定设备(111)。

公开(公告)号：CN108690963B

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：CN201710228584.1

申请日：2017-04-10

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  菅原卓哉 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明公开一种成膜装置，该成膜装置包括：真空容器；与所述真空容器内部连通的排气机构；基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射粒子到达所述基板；位于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开；所述隔离单元被配置为将所述成膜区域与所述成膜区域的外部连通。