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公开(公告)号：KR101679687B1
公开(公告)日：2016-11-28
申请号：KR1020110023656
申请日：2011-03-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 반사형 EUV 마스크는마스크기판, 반사층및 흡수층패턴을포함한다. 마스크기판은노광영역과주변영역을갖는다. 상기주변영역은상기주변영역으로입사되는광을산란시켜서상기주변영역의반사도를낮추기위한결정부(crystalline portion)를갖는다. 반사층은상기마스크기판상에형성되고, 상기결정부를노출시키는제 1 개구부를갖는다. 흡수층패턴은상기반사층상에형성되고, 상기제 1 개구부와연통된제 2 개구부를갖는다. 따라서, 노광영역으로부터반사된광이주변영역으로부터반사되는광과간섭되는정도가줄어들게되므로, 원하는포토레지스트패턴을정확하게형성할수가있게된다.
Abstract translation: 反射型EUV掩模及其制造方法，所述反射型EUV掩模包括具有曝光区域和外围区域的掩模基板，所述掩模基板包括散射入射到所述周边区域的光并且降低反射率的光散射结晶部分 的周边地区; 在所述掩模基板的上表面上的反射层，所述反射层具有暴露所述结晶部分的第一开口; 以及在所述反射层的上表面上的吸收层图案，所述吸收层图案具有与所述第一开口流体连通的第二开口。
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公开(公告)号：KR101656456B1
公开(公告)日：2016-09-12
申请号：KR1020090104504
申请日：2009-10-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F1/32 , G03F1/26 , H01L21/027
Abstract: 본발명은하프톤형위상반전블랭크포토마스크와하프톤형위상반전포토마스크및 그의제조방법에관한것이다. 하프톤형위상반전포토마스크는, 노광광에대하여투과성을가지는투명기판, 상기투명기판상에형성되고, 중앙의패턴영역(P)과주변의블라인드영역(B)으로구분되며, 상기블라인드영역(B)의두께가상기패턴영역(P)의두께보다더 두꺼우며, 상기패턴영역(P)을통해서노광광을위상반전시키는시프트패턴및 상기블라인영역(B)의시프트패턴상에형성되고, 노광광에대하여차광성을가지는차광패턴을포함한다.
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公开(公告)号：KR1020160064524A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020140168230
申请日：2014-11-28
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: B65G47/5122 , B65G17/20 , B65G47/28 , Y10S209/937
Abstract: 컨베이어장치가개시된다. 개시된컨베이어장치는폐곡선을이루는레일; 상기레일을따라이동하는체인컨베이어; 상기체인컨베이어를구동하는구동부; 및상기체인컨베이어의적어도 2 부분의길이를상대적으로가변하여, 상기체인컨베이어가이동하는중에상기체인컨베이어의일부구간이미리설정된시간만큼제자리를유지하는제1 및제2 가변컨베이어부;를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种传送装置。 所公开的输送装置包括：形成为闭合曲线的轨道; 沿着轨道移动的链条输送机; 驱动链式输送机的驱动部件; 以及第一和第二可变输送机部件，其通过相对改变链式输送机的两个或更多个部分的长度来维持链式输送机的一部分的原始位置预定时间，同时链式输送机被移动。
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公开(公告)号：KR1020150104712A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：KR1020140026377
申请日：2014-03-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/203
CPC classification number: H01L21/76871 , C23C14/185 , C23C14/3464 , H01L21/2855 , H01L21/76802 , H01L21/76807 , H01L21/76831 , H01L21/76832 , H01L21/76843 , H01L21/76873 , H01L21/76879 , H01L23/481 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 막 증착 시스템은 RF 스퍼터링 공정이 수행되는 제1 증착 챔버, DC 스퍼터링 공정이 수행되는 제2 증착 챔버, 제1 증착 챔버 및 제2 증착 챔버 사이에서 기판을 전달하는 이송 챔버, 제1 증착 챔버 내부에 배치된 제1 타겟에 RF 파워를 인가하는 RF 파워 공급부 및 제2 증착 챔버 내부에 배치된 제2 타겟에 DC 파워를 인가하는 DC 파워 공급부를 포함한다. RF 스퍼터링 공정 및 DC 스퍼터링 공정을 조합하여 균일한 프로파일의 도전막을 형성할 수 있다.
Abstract translation: 层沉积系统包括：用于执行RF溅射工艺的第一沉积室; 用于进行DC溅射工艺的第二沉积室; 输送室，其在第一和第二沉积室之间输送基板; 将RF功率施加到布置在第一淀积室中的第一靶的RF电源部; 以及将直流电力施加到布置在第二沉积室中的第二靶的直流电源部。 可以通过组合RF溅射工艺和DC溅射工艺来形成均匀轮廓的导电层。
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公开(公告)号：KR1020150016060A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：KR1020130152888
申请日：2013-12-10
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04M1/72533 , H04L12/282 , H04L12/2834 , H04L63/0492 , H04L63/08 , H04L63/18 , H04L2012/2841 , H04L2012/285 , H04M1/7253 , H04W4/20 , H04W4/80 , H04W4/90
Abstract: 통신기기를 검색하고; 상기 통신기기를 인증하고, 상기 인증된 통신기기를 등록하고, 상기 등록된 통신기기로부터 음성 데이터를 수신하고, 상기 수신된 음성 데이터에 대응하는 음성 신호를 사용자에게 출력하고, 상기 사용자로부터 음성 신호를 수신하고, 상기 수신한 음성 신호에 대응하는 음성 데이터를 상기 통신기기로 전송하는 것을 포함하는 음성 통신 시스템의 제어방법에 의하면 사용자가 가정에서 통신기기를 분실하더라도 냉장고 등의 가전기기를 이용하여 통화가 가능하다.
Abstract translation: 根据包括搜索通信设备的语音通信系统的控制方法，认证通信设备，注册认证的通信设备，从注册的通信设备接收语音数据，将与接收到的语音数据相对应的语音信号输出给用户 从用户接收语音信号，并将对应于所接收到的语音信号的语音数据发送到通信设备，即使用户将通信设备丢失，也可以通过使用诸如冰箱的家用电器进行呼叫 屋。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101377368B1
公开(公告)日：2014-03-24
申请号：KR1020070077005
申请日：2007-07-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04B10/00 , H04B10/29 , H04B10/2507
Abstract: 본발명에따른시간지연장치는광신호가입력되는입력단및 광신호가출력되는출력단과, 상기입력단및 출력단각각에연결된루프로서상기입력단으로부터입력된광신호를시간지연시켜서상기출력단으로출력하는광 선로와, 상기광 선로에서시간지연된상기광신호의파장을선택해서상기출력단측으로투과시키기위한가변대역투과필터와, 상기광선로상에위치되며입력된광신호의파장을변환시키기위한파장변환기를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020120105929A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020110023656
申请日：2011-03-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L21/0275 , H01L21/0337
Abstract: PURPOSE: A reflective extreme ultraviolet mask and a manufacturing method thereof are provided to accurately form a photoresist pattern by forming a crystalline section scattering light on a mask substrate. CONSTITUTION: A mask substrate(110) includes a crystalline section(112) for reducing reflectivity. A reflecting layer(120) with a first opening(126) exposes the crystalline section. The reflecting layer is formed on the upper part of the mask substrate. A reflective extreme ultraviolet mask includes an absorption layer pattern(130) with a second opening(138). The reflective extreme ultraviolet mask is formed on the reflecting layer and connected to the first opening. [Reference numerals] (AA) Peripheral area; (BB) Light exposing area; (CC) Peripheral area
Abstract translation: 目的：提供一种反射性极紫外线掩模及其制造方法，以通过在掩模基板上形成结晶部分散射光来精确地形成光致抗蚀剂图案。 构成：掩模基板（110）包括用于降低反射率的结晶部分（112）。 具有第一开口（126）的反射层（120）露出结晶部分。 反射层形成在掩模基板的上部。 反射性极紫外线掩模包括具有第二开口（138）的吸收层图案（130）。 反射性极紫外线掩模形成在反射层上并连接到第一开口。 （附图标记）（AA）外围区域; （BB）曝光区域; （CC）周边区域
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公开(公告)号：KR101085600B1
公开(公告)日：2011-11-22
申请号：KR1020050085266
申请日：2005-09-13
IPC: H04B7/26
Abstract: 본 발명은 셀룰러 기반의 MC-CDMA(Multi-Carrier Code Division Multiple Access) 시스템에서 기지국이 복수의 이동국들 중 제1이동국에 대하여, 이전 타임 슬롯에서의 전체 주파수 대역에 대한 SNR(Signal to Noise Ratio)의 최대값, 현재 타임 슬롯에서의 상기 전체 주파수 대역에 대한 SNR의 평균값, 상기 제1이동국의 딜레이 바운드 및 상기 제1이동국에게 전송될 패킷이 전송되지 않고 딜레이되고 있는 시간을 이용하여, SNR 문턱값을 계산하고, 상기 현재 타임 슬롯에서, 상기 제1이동국에 대한, 상기 전체 주파수 대역에 포함되는 각 주파수 대역에서 측정된 SNR을 상기 SNR 문턱값과 비교하고, 상기 전체 주파수 대역 중 상기 측정된 SNR이 상기 SNR 문턱값보다 크게 나타나는 제1주파수 대역을 상기 제1이동국에게 할당하고, 상기 제1주파수 대역을 할당 받은 상기 제1이동국에게, 상기 제1주파수 대역에 포함되는 서브 밴드의 수, 상기 제1이동국에게 할당된 서브 밴드의 수, 상기 패킷이 저장되어 있는 큐의 길이, 상기 제1이동국의 딜레이 바운드 및 상기 제1이동국에게 할당된 서브 밴드에서 상기 제1이동국에 대해 측정된 SNR과 BER(Bit Error Ratio)을 고려한 상기 기지국이 전송할 수 있는 최대 비트 수를 이용하여, 상기 코드를 할당한다.
MC-CDMA, 주파수 대역 할당, 코드 할당-
公开(公告)号：KR1020110039021A
公开(公告)日：2011-04-15
申请号：KR1020090096277
申请日：2009-10-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G03F1/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/32 , G03F1/54 , G03F1/82 , G03F1/0046
Abstract: PURPOSE: A phase shift mask and a method for manufacturing the same are provided to prevent the change of a phase and the transmittance by completely eliminating impurities on the phase shift mask. CONSTITUTION: A substrate(100) is prepared. A phase shift mask is formed on the substrate. A light-blocking film is formed. A hard mask film is formed. A photosensitive film mask is formed. A hard mask pattern is formed using the photosensitive film mask. A light-blocking pattern and a phase shift film pattern(115) are formed using the hard mask film. A phase shift pattern(118) is formed by partially etching the light-blocking pattern and etching partially exposed substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种相移掩模及其制造方法，以通过完全消除相移掩模上的杂质来防止相位和透射率的变化。 构成：制备基材（100）。 在基板上形成相移掩模。 形成遮光膜。 形成硬掩模膜。 形成感光膜掩模。 使用感光膜掩模形成硬掩模图案。 使用硬掩模膜形成遮光图案和相移膜图案（115）。 通过部分蚀刻遮光图案并蚀刻部分曝光的基板来形成相移图案（118）。
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公开(公告)号：KR1020100106812A
公开(公告)日：2010-10-04
申请号：KR1020090025023
申请日：2009-03-24
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: An inline coating system is provided to obtain a work target object on which depositing and coating are completely made within short time. CONSTITUTION: An inline coating system includes the following units. A depositing device(4) deposits metal on a work target object. A coating device(5,7) coats paint on the work target object. The coating device and the depositing device are arranged in series. A pre-processing device(1) removes foreign materials from the surface of the work target object. A primer coating device(2) forms primer coating.
Abstract translation: 目的：提供在线涂层系统，以获得在短时间内完全沉积和涂层的工作目标物体。 构成：在线涂装系统包括以下单元。 沉积设备（4）将金属沉积在工件目标物体上。 涂覆装置（5,7）在工件目标物体上涂漆。 涂布装置和沉积装置串联布置。 预处理装置（1）从工作目标物体的表面去除异物。 底漆涂布装置（2）形成底漆涂层。
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