公开(公告)号：KR100525798B1

公开(公告)日：2005-11-22

申请号：KR1020030056953

申请日：2003-08-18

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 김성일 ,  김용태 ,  김영환 ,  김춘근

IPC: H01L21/20

Abstract: 본 발명은 반도체 기판에 다양한 크기를 갖는 산화막이 없는 영역을 형성한 후 그 산화막이 없는 영역에 선택적 에피택셜 성장법을 이용하여 삼각형 구조의 에피택셜층을 성장시켜서 단일 반도체 기판에 여러 가지 크기의 양자세선을 형성하는 것이다. 이와 같은 구조를 광소자 제작에 응용하면 한 기판에 다양한 파장을 갖는 광소자를 한 번에 제작할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100275783B1

公开(公告)日：2001-04-02

申请号：KR1019970045606

申请日：1997-09-03

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 김영환 ,  조운조 ,  한택상

IPC: H01L21/20

Abstract: PURPOSE: A rotary type substrate heating device of vacuum equipment for manufacturing a thin film is provided to manufacture a good quality and uniform thin film by heating a substrate while rotating it under oxygen atmosphere and enabling uniform temperature distribution. CONSTITUTION: A heater(10) consists of a main body(11) having a receiving space(12), an insulating member(15) and a heating body. A shaft hole(14) for inserting a rotating shaft is formed in the center of the main body(11). A plurality of heating body supporting grooves(16) having top surfaces open are formed on the insulating member(15), which is inserted into the receiving space(12) and has a central shaft through hole(18a). The heating body is inserted into the supporting grooves(16). A rotary disk(20) is fixed to a top end of the rotating shaft(30) to be rotated over a heating surface of the heater.

Abstract translation: 目的：提供用于制造薄膜的真空设备的旋转式基板加热装置，通过在氧气氛下旋转基板的同时加热基板来制造质量好且均匀的薄膜，并且能够均匀地进行温度分布。 构成：加热器（10）由具有容纳空间（12）的主体（11），绝缘构件（15）和加热体构成。 在主体（11）的中心形成有用于插入旋转轴的轴孔（14）。 在绝缘构件（15）上形成有多个具有开口的加热体支撑槽（16），该绝缘构件（15）插入容纳空间（12）并具有中心轴通孔（18a）。 加热体插入支撑槽（16）中。 旋转盘（20）固定在旋转轴（30）的顶端，以旋转加热器的加热面。

公开(公告)号：KR100162871B1

公开(公告)日：1999-05-01

申请号：KR1019950049978

申请日：1995-12-14

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 조운조 ,  김영환 ,  한택상 ,  최상삼

IPC: G01L7/00

Abstract: 본 발명은 박막제조용 진공장치의 산소분압 측정 방법 및 장치에 관한 것으로, 일반적인 산소분압 측정방법은 종래 진공장치가 진공챔버(1) 내부의 각 위치마다 산소분압이 균일하지 않아 종래의 측정되는 산소분압은 진공장치 내부의 평균적인 산소분압일 뿐이고, 박막이 증착되는 가열판(8) 상측에 대한 실제의 산소분압과는 오차가 발생되는 문제가 있었다. 따라서 산소분압에 따라 전기저항이 변화되는 비화학양론적인 반도체 산화물에 열전대와 전기저항 측정용 전선을 부착한 소자를 기판이부착되는 가열판에 부착하여 가열판 주변의 부분적인 산소 분압을 측정하도록 한 본 발명에 의한 박막제조용 진공장치의 산소분압 측정 방법 및 소자(10)와, 소자(10)의 온도를 측정하는 열전대(11)와, 소자(10)의 전기저항을 측정하는 전선(12)과, 전공챔버(1)의 진공을 유지함과 아울러 소자(10)의 온도와 저항에서 발생되는 전기신호를 진공챔버(1)의 외부로 인출하는 피드 쓰루(feed through)(13)와, 상기 피드 쓰루(13)를 통해서 출력되는 전기신호 중 소자의 온도를 읽어주는 온도지시기(14) 및 소자의 저항을 읽어주는 멀티 미터(15)로 구성되는 산소분압 측정 장치가 제공됨으로써 가열판 주위의 산소분압을 정확하게 측정할 � �� 있게 되는 것이다.