公开(公告)号：KR101729683B1

公开(公告)日：2017-04-25

申请号：KR1020150131007

申请日：2015-09-16

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 정준호 ,  최준혁 ,  최대근 ,  전소희 ,  이지혜 ,  정주연 ,  황순형 ,  성상근

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3058

Abstract: 선격자편광자의제조방법은, 일면에나노구조체를가지는스탬프를준비하고상기일면에이방성진공증착으로마스크층을형성하는단계와, 기판위에금속막을형성하는단계와, 마스크층가운데나노구조체상부의마스크층을금속막위로전사하는단계와, 금속막가운데마스크층으로덮이지않은부위를건식식각으로제거하여금속막을금속선들로패터닝하는단계를포함한다.

Abstract translation: 制造线栅偏振器中，制备戳与在一侧上的纳米结构，和相位，并且在形成在形成在沉积在表面上的各向异性真空的掩模层的金属膜的纳米结构顶部上的掩模的掩模层的方法，所述衬底 将该层转移到金属膜上，并且通过干法蚀刻除去未被掩模层覆盖的金属膜的部分，以用金属线图案化金属膜。

公开(公告)号：KR101510217B1

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：KR1020130029674

申请日：2013-03-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 정유진 ,  이지혜 ,  정준호 ,  최대근 ,  최준혁 ,  정주연 ,  이응숙

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/336

Abstract: 본발명은비진공저온상태에서나노구조를제조할수 있는나노임프린트를이용한고결정성나노구조제조방법및 이를이용한트랜지스터의제조방법및 센서의제조방법에관한것으로, 기판을준비하는준비단계; 상기기판상에용액상태의박막을형성하는박막형성단계; 패턴이형성된스탬프를상기박막에임프린팅하여상기스탬프의패턴에대응되는형상을가지는나노구조를형성하는임프린팅단계; 상기나노구조의결정성장을향상시키도록상기임프린팅단계를통해형성된상기나노구조에잔류하는잔류물을제거하는잔류물제거단계; 상기잔류물제거단계를통해잔류물이제거된상기나노구조를수열공정을통해성장시키는성장단계;를포함하며, 상기임프린팅단계는패턴이형성된스탬프를상기용액상태의박막에접촉시키되모세관현상을통해상기스탬프의패턴내부로상기용액상태의박막을충진시키는스탬프접촉단계; 상기스탬프의상측으로자외선을조사하여상기용액상태의박막을경화시키는경화단계; 상기경화단계를통해경화된박막으로부터상기스탬프를제거하는스탬프제거단계;를포함하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR1020140136320A

公开(公告)日：2014-11-28

申请号：KR1020130056696

申请日：2013-05-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 최대근 ,  정준호 ,  최준혁 ,  이지혜 ,  이응숙 ,  정주연

IPC: C09D4/00 ,  C09D7/12 ,  B29C59/02

CPC classification number: C09D4/00 ,  B29C59/02 ,  C09D5/00 ,  C09D201/00

Abstract: 금속산화박막 패턴형성용 코팅제 및 나노임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성방법에 관한 것으로서, 경화시간을 단축시키고 임프린트를 가능하게 하는 최적의 코팅제를 사용하는 것으로, 본 발명의 일 구현예에 따른 지르코닐 2-에틸헥사노에이트(Zirconyl 2-ethylhexanoate) 및 지르코늄 카복시 에틸 아크릴레이트 (Zirconium caboxyethyl acrylate)로 이루어진 산화지르코늄 전구체, 개시제, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제 및 이를 이용한 나노 임프린트를 이용한 금속산화박막 패턴형성 방법이 제공된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于金属氧化物薄膜图案化的涂层剂和使用纳米压印的金属氧化物薄膜图案化方法，该方法使用最佳涂层剂来减少固化时间并实现印迹。 本发明提供了一种金属氧化物薄膜用涂布剂，其特征在于，包括：由本发明的实施方式的2-乙基己酸氧锆和丙烯酸羧乙酯锆构成的氧化锆前体; 引发剂和溶剂; 以及使用纳米压印的金属氧化物薄膜图案化方法。

公开(公告)号：KR1020140073622A

公开(公告)日：2014-06-17

申请号：KR1020120137154

申请日：2012-11-29

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 임형섭 ,  전소희 ,  김사라 ,  최준혁 ,  최대근 ,  이지혜 ,  정주연 ,  이응숙 ,  정준호 ,  윤재륜

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/56

CPC classification number: H01L51/502 ,  H01L51/504 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/56

Abstract: A method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: forming a first photonic crystal layer having a photonic crystal structure with a nano-structure pattern on a substrate; forming a second photonic crystal layer having the photonic crystal structure with the nano-structure pattern on the first photonic crystal layer; and forming a first electrode layer, a light emitting layer, and a second electrode layer sequentially on the second photonic crystal layer.

Abstract translation: 根据本发明实施例的制造发光器件的方法包括以下步骤：在衬底上形成具有纳米结构图案的光子晶体结构的第一光子晶体层; 在第一光子晶体层上形成具有纳米结构图案的具有光子晶体结构的第二光子晶体层; 以及在所述第二光子晶体层上依次形成第一电极层，发光层和第二电极层。

公开(公告)号：KR101404159B1

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：KR1020120014864

申请日：2012-02-14

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 최대근 ,  이지혜 ,  최준혁 ,  정주연 ,  정준호 ,  이응숙

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/56

CPC classification number: H01L27/3244 ,  H01L27/3258 ,  H01L51/5268 ,  H01L51/5275

Abstract: 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치는 기판, 기판 위에 위치하는 입자층, 입자층 위에 위치하는 제1 전극, 제1 전극 위에 형성되어 있는 발광층, 발광층 위에 형성되어 있는 제2 전극을 포함하고, 입자층은 복수의 입자 부재, 입자 부재 사이를 채우는 채움 부재를 포함하고, 입자 부재와 채움 부재는 서로 다른 굴절율을 가진다.

Abstract translation: 目的：提供一种有机发光二极管显示器及其制造方法，以通过在没有附加工艺的情况下形成颗粒层来简化制造工艺。 构成：颗粒层（300）位于基板（111）上。 第一电极（710）位于颗粒层上。 发光层（720）位于第一电极上。 第二电极（730）位于发光层上。 颗粒层包括填充颗粒构件之间的空间的多个颗粒构件（32）和填充构件（34）。 粒子层的折射率与填充部件的折射率不同。

公开(公告)号：KR101399440B1

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：KR1020120066177

申请日：2012-06-20

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 이응숙 ,  정주연 ,  최준혁 ,  한재원

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  B29C33/42

CPC classification number: B32B37/26 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0152 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/2004

Abstract: 본 발명은 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법에 관한 것이며, 본 발명의 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법은 기판 상에 플라즈모닉 공명(plasmonic resonance) 특성을 갖는 소재로 마련되는 금속패턴을 형성하는 금속패턴 형성단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴의 외면에 소수성 박막을 코팅하여 소수성 처리하는 소수성 처리단계; 상기 금속패턴의 외면만 선택적으로 친수성 처리하는 친수성 처리단계; 상기 기판 및 상기 금속패턴 상에 버퍼층을 적층하는 버퍼층 적층단계; 상기 금속패턴 및 버퍼층을 상기 기판으로부터 광투과성 소재의 베이스 측으로 전사시켜 결합시키는 결합단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 표면 플라즈몬 에너지를 이용하여 광회절의 한계를 극복하고 미세패턴을 형성할 수 있는 플라즈모닉 나노리소그래피 장치용 스탬프 제조방법 및 플라즈모닉스 나노리소그래피 장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR101387950B1

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：KR1020120044864

申请日：2012-04-27

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 최준혁 ,  이응숙 ,  정준호 ,  최대근 ,  이지혜 ,  정주연

IPC: G03F7/26 ,  B29C59/02 ,  G03F7/20

Abstract: 본 발명은 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치는 기판 상에 증착되는 레지스트를 패터닝하는 임프린트 장치에 있어서, 일부가 분리가능한 형태로 마련되어 개폐 가능하게 마련되는 하나의 챔버; 진공상태가 되도록 상기 챔버 내부의 공기를 배출시키는 진공형성부; 임프린팅 스탬프를 상기 레지스트로부터 상측으로 이격되도록 거치하되, 임프린팅 작업시에는 상기 임프린팅 스탬프가 상기 레지스트 측으로 자유낙하 하도록 거치해제하는 거치부; 상기 챔버의 내부에 배치되며, 진공 상태의 상기 챔버 내에서 상기 기판을 상측으로 가압하고, 상기 레지스트가 상기 임프린팅 스탬프의 패턴 내로 충진될 수 있도록 상기 레지스트가 증착된 기판을 상하로 이동시키는 승강부;를 포함하며, 상기 승강부가 상측으로 소정 간격 이동하여 상기 기판을 상기 임프린팅 스탬프에 근접시킨 뒤, 상기 거치부가 상기 임프린팅 스탬프를 거치해제하여 상기 임프린팅 스탬프를 상기 레지스트 상에 안착시키는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여, 진공상태에서 캐비티가 형성되는 현상없이 고품질의 나노 임프린팅 공정이 가능한 진공 챔버형 대면적 나노 임프린트 장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR1020140030512A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：KR1020120096184

申请日：2012-08-31

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 최대근 ,  이수한 ,  김한중 ,  이지혜 ,  정주연 ,  최준혁 ,  정준호

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

Abstract: Disclosed are a device for manufacturing a colloid photonic crystal film and a method of manufacturing a colloid photonic crystal film using the same. The device for manufacturing a colloid photonic crystal film according to one embodiment of the present invention includes a housing having an open upper portion; a substrate mounting frame disposed in the housing; and a height adjusting part coupled with the substrate mounting frame to adjust the height of the substrate mounting frame.

Abstract translation: 公开了一种用于制造胶体光子晶体膜的装置以及使用其制造胶体光子晶体膜的方法。 根据本发明的一个实施例的用于制造胶体光子晶体膜的装置包括具有敞开的上部的壳体; 设置在所述壳体中的基板安装框架; 以及与基板安装框架连接的高度调节部件，以调整基板安装框架的高度。

公开(公告)号：KR101321104B1

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：KR1020100132656

申请日：2010-12-22

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 최대근 ,  이기중 ,  최준혁 ,  정준호 ,  김기돈 ,  이지혜 ,  정주연

IPC: B82B3/00 ,  B29C33/38

Abstract: 나노 임프린트용 스탬프의 제조 방법에 관한 것으로서, 이 방법은 나노미터 스케일의 미세 패턴이 형성된 고분자 층을 갖는 기재를 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표현되는 모노머 또는 폴리머로 처리하는 공정을 포함한다.
[화학식 1]
ABD
[화학식 2]
AD
상기 화학식 1 또는 화학식 2에서, A는 플루오로카본기 또는 하이드로카본기이고, B는 하이드로카본기 또는 Si(R
1 )
2 -O-[Si(R
1 )
2 -O-]
n -Si(R
1 )
2 -R
2 (여기서, R
1 은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, R
2 는 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기이고, n은 1 내지 100의 정수임)이고, D는 아크릴레이트기, 메타아크릴레이트기, 비닐 에테르기, 아민기(NR
3
2 , 여기에서 R
3 는 H, CH
3 또는 C
6 H
5 임), 에폭시기, 글리시딜기, 글리시딜 에테르기, 이소시아네이트기(NCO), 에스테르기(COOR
4 , 여기에서, R
4 는 H 또는 CH
3 임), 또는 티올기(SH)이다.

公开(公告)号：KR102116033B1

公开(公告)日：2020-05-27

申请号：KR1020180063573

申请日：2018-06-01

Applicant: 한국기계연구원

Inventor： 장원석 ,  정현 ,  정주연 ,  전소희 ,  정준호

IPC: H01L31/109 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/032 ,  H01L31/0352 ,  H01L27/146