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公开(公告)号：KR1020070044665A
公开(公告)日：2007-04-30
申请号：KR1020050100827
申请日：2005-10-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 외부 진동에 형상을 받지않는 기판 검사 장치에서, 상기 장치는 다이들의 전기적인 특성들을 테스트하기 위한 테스터부와 상기 전기적인 신호들을 각각의 다이에 형성된 전극 패드들에 전달하기 위한 프로버 스테이션과 상기 테스터부, 프로버 스테이션을 수용하는 몸체 및 상기 몸체의 저면에 일체형으로 체결되고, 상기 다이의 전기적 특성의 테스트시 상기 몸체에 가해지는 외부 진동을 완화시키는 제진대를 포함하는 구성을 갖는다. 따라서, 상기 검사 장치는 상기 제진대에 의해 진동의 영향을 받지 않는다.
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公开(公告)号：KR1020070020898A
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：KR1020050075263
申请日：2005-08-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 공기로부터 오염물질을 제거하는 오염 제어 시스템을 제공한다.
오염 제어 시스템은 기액 접촉에 의해 공기 중의 분자상 오염물질들을 포집하고 이를 아래 방향으로 배출하는 제거기와 제거기가 적셔진 상태로 유지되도록 제거기로 탈이온수를 공급하는 액체 공급기를 가진다. 제거기는 그 측방향으로 공기가 유입되도록 배치되고, 액체 공급기는 제거기의 상부에서 탈이온수를 제거기로 공급하도록 배치된다.
오염 제어 시스템, 분자상 오염 물질, 기액 접촉, 제거기, 액체 공급기-
公开(公告)号：KR100578132B1
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：KR1020030077394
申请日：2003-11-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/66 , B08B5/00 , B08B5/02 , G03F7/70741 , G03F7/70933
Abstract: 본 발명은 레티클 박스 클리너에 관한 것으로, 레티클을 지지하는 슬롯이 구비된 레티클 박스를 수용하는 수용실; 상기 수용실에 수용되는 레티클 박스에 소정의 기체를 분사하는 분사부; 및 상기 분사기에 의해 분사되어 레티클 박스를 통과한 기체를 흡입하여 배출하는 배기부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 레티클과 직접적으로 접촉하는 레티클 박스의 슬롯을 레티클 박스 전용 클리너로 건식 클리닝할 수 있어서 파티클 제거효율 및 작업효율을 극대화시킬 수 있게 된다.
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公开(公告)号：KR1020060002335A
公开(公告)日：2006-01-09
申请号：KR1020040051305
申请日：2004-07-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67057 , B24B41/047
Abstract: 화학 기계적 연마장치의 헤드 전용 클리너와 이를 사용하는 오염물질 세척 방법을 개시한다. 개시된 헤드전용 클리너는 울트라 소닉 배쓰 내에 담겨진 헤드 내부로 서로 다른 제1 및 제2 압력을 번갈아가면서 반복적으로 가하는 압력 생성기를 구비한다. 상기 헤드 클리너를 사용하는 세척 방법 또한 제공된다.
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公开(公告)号：KR100517408B1
公开(公告)日：2005-09-27
申请号：KR1020030044800
申请日：2003-07-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F24F3/161 , B01D53/14 , B01D53/78 , B01D2255/802 , B01D2257/106 , B01D2257/302 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/70 , F24F2003/1617 , F24F2006/006 , Y02A50/21
Abstract: 고효율의 오염 제어 시스템 및 이를 이용한 기판 처리 장치의 공조 시스템이 개시되어 있다. 상기 오염 제어 시스템은 물을 분사하는 적어도 하나의 노즐을 포함하는 분사 장치 및 기액 접촉에 의해 공기 중의 오염물들을 포집한 물을 트랩하여 하방으로 떨어뜨리기 위한 적어도 하나의 제거기를 포함한다. 이에 더하여 상기 분사 장치에 pH 조절을 위한 첨가제를 포함하는 순환수를 공급하기 위한 순환부를 포함하여 이루어진다. 시간이 지남에 따라 순환수 자체가 오염되는 문제점이 해결된다. 이에 따라 각종 반도체 공정이 수행되는 공간내에 청정화된 공기를 공급해 줌으로써 각종 오염원으로 인한 공정 불량을 제어할 수 있다. 따라서, 소자의 수율 및 신뢰성을 향상시키고, 주기적인 교체가 요구되는 고가의 케미컬 필터를 사용하지 않음으로써 공정을 안정화시키고 가동 원가을 절감할 수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100514716B1
公开(公告)日：2005-09-13
申请号：KR1020030057426
申请日：2003-08-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F24F7/06
CPC classification number: B01D46/521 , B01D46/002 , B01D46/10 , B01D53/0407 , B01D2256/26 , B01D2259/4508 , B01D2277/20 , B01D2279/51
Abstract: 오염 사고로 인해 발생한 국부 영역의 공기 오염을 제어하기에 적합한 공기 청정 장치 및 방법이 개시되어 있다. 공기를 내부로 흡입하는 흡입부 및 내부 공기를 외부로 배출하는 배기부를 포함하고, 내부가 외부 공간과 차단되는 하우징, 상기 하우징 내의 공기 흡입부에 인접하여 위치하고, 상기 공기 흡입부를 통해 흡입된 공기에서 제1 오염물군을 제거하기 위한 제1 필터들이 병렬 배치된 제1 필터부, 및 상기 하우징 내에 구비하고, 상기 하우징 내로 외부 공기를 흡입시키기 위한 송풍기를 구비하는 공기 청정 장치를 제공한다. 상기 제1 필터들이 병렬 배치되어 있어 상기 제1 오염물군을 빠르게 제거하므로 국부 영역의 오염을 제어할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020050042611A
公开(公告)日：2005-05-10
申请号：KR1020030077394
申请日：2003-11-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/66 , B08B5/00 , B08B5/02 , G03F7/70741 , G03F7/70933
Abstract: 본 발명은 레티클 박스 클리너에 관한 것으로, 레티클을 지지하는 슬롯이 구비된 레티클 박스를 수용하는 수용실; 상기 수용실에 수용되는 레티클 박스에 소정의 기체를 분사하는 분사부; 및 상기 분사기에 의해 분사되어 레티클 박스를 통과한 기체를 흡입하여 배출하는 배기부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 레티클과 직접적으로 접촉하는 레티클 박스의 슬롯을 레티클 박스 전용 클리너로 건식 클리닝할 수 있어서 파티클 제거효율 및 작업효율을 극대화시킬 수 있게 된다.
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公开(公告)号：KR100486690B1
公开(公告)日：2005-05-03
申请号：KR1020020075458
申请日：2002-11-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/00 , H01L21/67017 , Y10S414/139
Abstract: 기판 이송 모듈의 오염을 제어할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 기판 처리 장치는, 복수개의 기판을 수용하도록 형성된 용기; 상기 기판 상에 설정된 공정을 수행하기 위한 적어도 하나의 공정 챔버를 포함하는 기판 처리부; 상기 용기 내의 기판들을 상기 기판 처리부로 이송하기 위한 기판 이송 수단이 그 내부에 배치되어 있는 기판 이송 챔버 및 상기 기판 이송 챔버의 외부에 배치되고 상기 용기를 지지하기 위한 적어도 하나의 로드 포트를 포함하는 기판 이송 모듈; 및 상기 기판 이송 챔버에 연결되고, 상기 기판 이송 챔버에 퍼지 가스를 공급하여 상기 기판 이송 챔버 내부를 퍼지하는 가스 공급부 및 상기 기판 이송 챔버 내부의 퍼지 가스를 재순환시켜 상기 기판 이송 챔버로 공급하기 위한 가스 순환관을 포함하는 오염 제어부를 구비한다. 기판 이송 챔버를 퍼지 가스로 퍼지하여 상기 기판 이송 챔버 내부의 습기 및 오염 물질들을 제거함으로써, 공정이 완료된 기판들이 용기 내에서 대기하는 동안 습기 및 오염물질들과 반응하여 응축 입자를 형성하는 것을 방지한다.
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公开(公告)号：KR1020050027390A
公开(公告)日：2005-03-21
申请号：KR1020030063639
申请日：2003-09-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: A bit of semiconductor equipment with a loadlock chamber is provided to restrain a native oxide layer from being formed on an uppermost wafer in a wafer cassette by using a vacuum port with a higher position than that of the uppermost wafer. A plurality of wafers are stored in a cassette(150). A loadlock chamber(120) includes an inner space for loading the cassette enough and at least one vacuum port. A bit of process equipment(100) is connected through the inner space of the loadlock chamber by using an opening/closing part. The vacuum port is arranged at a higher position than that of an uppermost wafer of the cassette.
Abstract translation: 提供一个具有负载锁定室的半导体设备以通过使用具有比最上面的晶片的位置更高的位置的真空端口来限制在晶片盒中的最上面晶片上形成自然氧化物层。 多个晶片被存储在盒（150）中。 负载锁定室（120）包括用于将盒充满的内部空间和至少一个真空端口。 一些处理设备（100）通过使用打开/关闭部分通过负载锁定室的内部空间连接。 真空口设置在比盒的最上面的晶片更高的位置。
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公开(公告)号：KR1020050004566A
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：KR1020030044800
申请日：2003-07-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F24F3/161 , B01D53/14 , B01D53/78 , B01D2255/802 , B01D2257/106 , B01D2257/302 , B01D2257/404 , B01D2257/406 , B01D2257/70 , F24F2003/1617 , F24F2006/006 , Y02A50/21
Abstract: PURPOSE: A contamination control system and an air-conditioning system of a substrate processing apparatus using the same are provided to prevent errors due to various contamination sources by improving a wet type air-conditioning system. CONSTITUTION: An injection unit(100) includes one or more nozzle to inject water. One or more remover(110) is used for trapping the water containing contaminants. A circulation unit supplies the circulation water including an additive for controlling pH to the injection unit. The additive has a function for absorbing light and generating active kinds including electrons and holes. The active kinds are used for analyzing contaminants of the circulation water.
Abstract translation: 目的：提供一种污染控制系统和使用其的基板处理装置的空调系统，以通过改进湿式空调系统来防止由于各种污染源引起的错误。 构成：注射单元（100）包括一个或多个注射水的喷嘴。 一个或多个去除剂（110）用于捕集含水污染物。 循环单元将包括用于控制pH的添加剂的循环水供应到注射单元。 添加剂具有吸收光并产生包括电子和空穴的活性物质的功能。 活性物质用于分析循环水的污染物。
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