2층의 재배선층이 형성된 에스아이피용 반도체 칩
    61.
    发明公开
    2층의 재배선층이 형성된 에스아이피용 반도체 칩 无效
    用于包含2层重新分配的SIP的半导体芯片

    公开(公告)号:KR1020070038378A

    公开(公告)日:2007-04-10

    申请号:KR1020050093625

    申请日:2005-10-05

    CPC classification number: H01L23/522 H01L24/26 H01L25/073

    Abstract: 본 발명은 2층의 재배선층이 형성된 에스아이피(SIP; System In Package)용 반도체 칩에 관한 것으로, 2층의 재배선층을 팹(fab) 공정으로 형성할 경우 선폭 및 두께에 제약이 따르기 때문에 아날로그(analog) 및 고속 인터페이스(high speed interface)로 사용되는 특성 재배선층은 저항 증가에 따른 전기적 특성이 떨어질 수 있다. 2층의 재배선층을 웨이퍼 레벨(wafer level) 공정으로 형성할 경우, 재배선층을 둘러싸는 두꺼운 절연층으로 인하여 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨(warpage)이 심하게 발생되어 SIP 제조 공정 상에 문제가 발생될 수 있다.
    본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해서, 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성된 비특성 재배선층과, 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 상부에 형성된 특성 재배선층을 포함하는 2층의 재배선층이 형성된 SIP용 반도체 칩을 제공한다. 본 발명에 따르면, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정으로 필요한 두께와 폭으로 형성함으로써, 특성 재배선층의 전기적 특성을 확보할 수 있다. 그리고 비특성 재배선층은 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성하고, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 위에 형성함으로써, 웨이퍼 레벨 공정으로 형성되는 재배선층이 단층이기 때문에, 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨이 발생되는 것을 억제할 수 있다.
    재배선(redistribution), 팹(fab), 웨이퍼 레벨(wafer level), 시스템 인 패키지(System In Package), 적층(stack)

    스택형 패키지 및 그 제조 방법
    62.
    发明授权
    스택형 패키지 및 그 제조 방법 失效
    堆叠式封装及其制造方法

    公开(公告)号:KR100601760B1

    公开(公告)日:2006-07-19

    申请号:KR1019990036908

    申请日:1999-09-01

    Abstract: 칩 스택의 문제점과 패키지 스택의 문제점을 해결하기 위한 구조를 갖는 스택형 패키지에 관한 것으로서, 스택형 패키지는 칩이 기판에 접착되고 상기 칩이 기판의 소정 영역에 형성된 기판의 본딩 패드와 전기적으로 연결된 제 1 및 제 2 칩 유니트가 리드 프레임의 양면에 접합되어서 적층된다. 그리고, 제 1 및 제 2 칩 유니트는 칩 본딩 패드가 형성된 칩과 상기 칩에 본딩 리본 또는 와이어와 같은 소정 접속 부재로써 전기적으로 연결되는 기판 본딩 패드를 갖는 기판으로 구성될 수 있다. 따라서, 간단한 공정을 통하여 스택형 패키지를 구현할 수 있고, 그에 따라서 실장밀도 또는 집적도가 향상되는 효과가 있다.
    스택, 패키지, BLP

    자동 반송 장치
    63.
    发明公开
    자동 반송 장치 无效
    自动传送装置

    公开(公告)号:KR1020060072969A

    公开(公告)日:2006-06-28

    申请号:KR1020040111778

    申请日:2004-12-24

    Inventor: 김태훈

    CPC classification number: Y02P90/02 G05B19/418

    Abstract: 소정의 내용물을 수용할 수 있는 박스를 복수 개의 베이들에 입고하기 위하여 상기 박스를 자동으로 반송하기 위한 자동 반송부를 구비한 자동 반송 장치가 개시된다. 그러한 자동 반송 장치는, 상기 박스에 일체로 결합되어 상기 박스의 정보를 수신하여 저장하며, 상기 자동 반송부에 의하여 논스톱으로 반송되는 중, 상기 베이들에 있어서 각각의 베이를 구별하기 위한 베이 고유 정보를 무선으로 수신하여 상기 베이 고유 정보와 상기 박스의 정보가 일치하는 경우에 상기 베이 고유 정보를 갖는 베이로 입고되도록 하는 자동 반송 프로세서를 구비한다. 그리하여, 본 발명은 박스를 자동으로 반송하기 위한 자동 반송부를 구비한 자동 반송 장치를 제공함으로써, 상기 박스가 바코드 인식부에 의하여 인식되는 시간 동안 정체되는 시간을 갖게 되며, 상기 자동 반송부 상에 놓여진 후속되는 다른 박스들도 상기 바코드 판독기에 의하여 판독되기 전의 정체 시간을 가지게 되는 문제점을 해결하여, 물류의 반송에 소요되는 시간을 감소시키는 효과가 있다.

    반송 장치, 베이, 런 박스, 바코드 판독기

    반도체 소자의 제조를 위한 CVD 막형성 방법
    65.
    发明公开
    반도체 소자의 제조를 위한 CVD 막형성 방법 无效
    用于制造半导体器件的CVD层的方法

    公开(公告)号:KR1020030093697A

    公开(公告)日:2003-12-11

    申请号:KR1020020031510

    申请日:2002-06-05

    Inventor: 김종석 김태훈

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a CVD(Chemical Vapor Deposition) layer for manufacturing a semiconductor device is provided to be capable of forming a plurality of aiming CVD layers in one equipment at a time for reducing the loss of the equipment and preventing the increase of fabrication cost. CONSTITUTION: After forming an STI(Shallow Trench Isolation) layer at the upper portion of a silicon substrate by carrying out a BUC process, an STI UBUC layer is deposited on the entire surface of the resultant structure without the change of an equipment, so that a PE-TEOS(Plasma Enhanced-TetraEthylOrthoSilicate) depositing process is capable of being skipped. At this time, the BUC process is simultaneously carried out with a depositing process and an etching process. Preferably, the STI UBUC layer is made of the same or similar material of a PE-TEOS layer.

    Abstract translation: 目的:提供一种形成用于制造半导体器件的CVD(化学气相沉积)层的方法,以能够一次在一个设备中形成多个目标CVD层,以减少设备的损耗并防止 制造成本。 构成:通过执行BUC工艺在硅衬底的上部形成STI(浅沟槽隔离)层之后,STI UBUC层沉积在所得结构的整个表面上,而不会改变设备,使得 可以跳过PE-TEOS(等离子增强四乙基正硅酸盐)沉积工艺。 此时,通过沉积工艺和蚀刻工艺同时进行BUC工艺。 优选地,STI UBUC层由PE-TEOS层的相同或相似的材料制成。

    평면 도파로 소자 모듈
    66.
    发明公开
    평면 도파로 소자 모듈 有权
    平面灯电路模块

    公开(公告)号:KR1020030029312A

    公开(公告)日:2003-04-14

    申请号:KR1020010061661

    申请日:2001-10-06

    Abstract: PURPOSE: A planar lightwave circuit module is provided to use an adhesive assistant layer of inorganic oxide material to coat each optical fiber block and the planar lightwave circuit. CONSTITUTION: According to the planar lightwave circuit module, at least more than one optical fiber block comprises at least more than one groove for optical fiber mounting formed on a bottom plate of a semiconductor material and a top plate of a glass material adhered to the bottom plate to fix an optical fiber. And a planar lightwave circuit comprises a semiconductor substrate, and a core layer forming an optical path by being stacked on the semiconductor substrate and a clad layer surrounding the core layer.

    Abstract translation: 目的:提供一种平面光波电路模块,使用无机氧化物材料的粘合助剂层涂覆每个光纤块和平面光波电路。 构成:根据平面光波电路模块,至少多于一个的光纤块包括形成在半导体材料的底板上的至少多于一个的用于光纤安装的槽和粘附到底部的玻璃材料的顶板 板固定光纤。 并且平面光波电路包括半导体衬底和通过层叠在半导体衬底上的芯层和形成光路的芯层以及围绕芯层的覆层。

    챔버의 세정 방법
    67.
    发明公开
    챔버의 세정 방법 无效
    清洁室的方法

    公开(公告)号:KR1020020071399A

    公开(公告)日:2002-09-12

    申请号:KR1020010011534

    申请日:2001-03-06

    Abstract: PURPOSE: A method for cleaning a chamber is provided to improve efficiency in a cleaning process of a chamber by applying continuously RF power to a chamber in the cleaning process. CONSTITUTION: A remote plasma apparatus forms a cleaning gas including a fluorine radical(S10). The remote plasma apparatus is connected with a chamber. The generated cleaning gas is transferred from the remote plasma apparatus to an inside of the chamber(S12). The cleaning gas is the fluorine radical and ions which are formed by exciting NF3 gas in the remote plasma apparatus. At this time, inert gas is injected into the remote plasma apparatus, simultaneously. The inert gas is selected from a group including nitrogen, argon, and helium. All depositions of the chamber are etched and exhausted by the cleaning gas. An RF power is applied to the chamber(S14).

    Abstract translation: 目的:提供一种用于清洁腔室的方法,以通过在清洁过程中对腔室施加连续的射频功率来提高腔室的清洁过程的效率。 构成:远程等离子体装置形成包括氟自由基的清洁气体(S10)。 远程等离子体装置与腔室连接。 所产生的清洁气体从远程等离子体装置转移到室的内部(S12)。 清洁气体是氟离子和通过在远程等离子体装置中激发NF 3气体形成的离子。 此时,惰性气体同时注入远程等离子体装置。 惰性气体选自包括氮气,氩气和氦气的组。 腔室的所有沉积物被清洁气体蚀刻和排出。 向腔室施加RF功率(S14)。

    버퍼층을이용하여복굴절을감소시키는광도파로및그제작방법
    68.
    发明授权
    버퍼층을이용하여복굴절을감소시키는광도파로및그제작방법 失效
    用于减少使用缓冲层的双折射的光波导及其制造方法

    公开(公告)号:KR100333899B1

    公开(公告)日:2002-06-20

    申请号:KR1019980050227

    申请日:1998-11-23

    Abstract: 본 발명은 화염가수분해 증착(FHD)에 의한 실리카 광도파로 및 광소자 제작시 잔류응력에 의해 발생되는 복굴절을 버퍼층을 이용하여 감소시키는 광도파로 및 그 제작방법에 관한 것으로, 이러한 광도파로는 웨이퍼위에 형성된 하부클래딩층, 하부클래딩층위에 형성된 코아층 및 코아층위에 형성된 상부클래딩층으로 이루어진 광도파로에 있어서, 웨이퍼와 하부클래딩층사이에 잔류응력에 의한 복굴절을 줄이는 버퍼층을 더 구비함을 특징으로 한다.
    본 발명에 의하면, 기존의 소자제작공정을 변화시키지않고 단지 초기에 버퍼층을 웨이퍼위에 증착하는 단계를 추가함으로써 복굴절을 감소시킬 수 있으며, 또한 버퍼층내의 불순물의 종류 및 불순물의 함량을 조절함으로써 응력을 조절할 수 있다.

    반도체 제조 공정설비용 열전냉각 온도조절장치
    69.
    发明授权
    반도체 제조 공정설비용 열전냉각 온도조절장치 失效
    半导体制造工艺设备的热电冷却温度控制装置

    公开(公告)号:KR100317829B1

    公开(公告)日:2001-12-22

    申请号:KR1019990007280

    申请日:1999-03-05

    CPC classification number: H01L35/32 F25B21/02 H01L35/30 Y02P80/156

    Abstract: 본발명은반도체제조공정설비내의온도를일정하게유지하기위한자동온도조절장치에관한것이다. 본발명에따른반도체제조공정설비용열전냉각온도조절장치는웨이퍼를수용하여소정의가공공정을반복수행할수 있는챔버가구비된반도체제조공정설비에있어서, 전류의흐름에따라흡열및 발열현상을발생하는펠티에효과를이용한하나이상의열전냉각소자에의해상기반도체제조공정설비내의웨이퍼적재부를일정온도로지속시킬수 있도록열교환되는열교환기의구성을포함하여이루어짐을특징으로한다. 따라서, 반도체제조공정설비의내부에간단히설치하여클린룸의규모를최소화할수 있도록함으로써상기클린룸의건설에소요되는비용을현저히절감하고, 가공웨이퍼의온도를안정적으로유지하여공정불량요인을제거함과아울러생산성및 수율을향상시킬수 있는효과를갖는것이다.

    평면 광 도파로 소자 및 그 제조방법
    70.
    发明授权
    평면 광 도파로 소자 및 그 제조방법 有权
    平面光波长元件及其制造方法

    公开(公告)号:KR100303333B1

    公开(公告)日:2001-11-01

    申请号:KR1019990035994

    申请日:1999-08-27

    Abstract: 본발명은평면광 도파로소자및 그제조방법에관한것으로서, 평면기판; 상기평면기판상에증착되는하부클래드층; 상기하부클래드층상에증착되어계면에서발생하는변형을최소화하는패시베이션층; 상기하부클래딩층보다굴절율이큰 재질로상기패시베이션층상에서패터닝되어형성된광 도파로; 및상기광 도파로와상기패시베이션층상에증착되는상부클래딩층을포함한다. 따라서, 본발명은확산에의한도파로변형을최소화함으로서, 고신뢰성의광 도파로소자를제작하게되었다.

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