반도체 패키지의 게이트 버어 제거 방법
    2.
    发明公开
    반도체 패키지의 게이트 버어 제거 방법 无效
    用于去除半导体封装的栅极电流的方法

    公开(公告)号:KR1020070048953A

    公开(公告)日:2007-05-10

    申请号:KR1020050106069

    申请日:2005-11-07

    Abstract: 본 발명은 반도체 패키지의 게이트 버어(gate burr) 제거 방법에 관한 것으로, 탑 게이트 몰딩(top gate molding) 방법으로 수지 봉합부가 형성되는 반도체 패키지의 경우 수지 봉합부의 상부면에 게이트 버어가 잔존할 수 있다. 이 게이트 버어가 잔존하는 반도체 패키지를 하부 패키지로 사용하여 상부 패키지를 적층할 경우 게이트 버어로 인해 상부 패키지의 솔더 조인트(solder joint) 신뢰성이 떨어진다.
    본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위해서, 수지 봉합부의 상부면에 잔존하는 게이트 버어 크기를 체크한 후, 체크된 정보를 바탕으로 설정된 레이저빔(laser beam)을 게이트 버어에 조사(照射)하여 제거하는 반도체 패키지의 게이트 버어 제거 방법을 제공한다. 특히 게이트 버어 제거 단계는 기존의 레이저 마킹(laser marking) 공정에서 함께 진행함으로써, 게이트 버어 제거를 위한 별도의 설비를 구비할 필요가 없고, 게이트 버어 제거 단계로 인한 반도체 패키지 제조 공정 시간이 길어지는 문제를 최소화할 수 있다.
    탑 게이트 몰딩, 게이트 버어, 솔더 조인트, 적층, 멀티

    패키지 온 패키지 장치 및 이의 제조 방법

    公开(公告)号:KR101923535B1

    公开(公告)日:2018-12-03

    申请号:KR1020120070154

    申请日:2012-06-28

    Inventor: 권흥규 하정오

    Abstract: 본 발명은 패키지 온 패키지 장치 및 이의 제조 방법을 제공한다. 이 장치에서는 솔더볼이 패키지 기판의 양 측면에만 인접하도록 배치시키므로 너비를 줄일 수 있다. 또한, 직접적으로 연결이 필요한 로직 칩의 입출력 패드와 솔더볼을 가깝게 배치시킴으로써 솔더볼 배선 자유도를 증가시키고 배선 거리를 짧게 하여 신호 간섭을 줄이고 신호 전달 속도를 향상시키고 신호 품질 및 파워 딜리버리 특성을 향상시킬 수 있다.

    2층의 재배선층이 형성된 에스아이피용 반도체 칩
    5.
    发明公开
    2층의 재배선층이 형성된 에스아이피용 반도체 칩 无效
    用于包含2层重新分配的SIP的半导体芯片

    公开(公告)号:KR1020070038378A

    公开(公告)日:2007-04-10

    申请号:KR1020050093625

    申请日:2005-10-05

    CPC classification number: H01L23/522 H01L24/26 H01L25/073

    Abstract: 본 발명은 2층의 재배선층이 형성된 에스아이피(SIP; System In Package)용 반도체 칩에 관한 것으로, 2층의 재배선층을 팹(fab) 공정으로 형성할 경우 선폭 및 두께에 제약이 따르기 때문에 아날로그(analog) 및 고속 인터페이스(high speed interface)로 사용되는 특성 재배선층은 저항 증가에 따른 전기적 특성이 떨어질 수 있다. 2층의 재배선층을 웨이퍼 레벨(wafer level) 공정으로 형성할 경우, 재배선층을 둘러싸는 두꺼운 절연층으로 인하여 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨(warpage)이 심하게 발생되어 SIP 제조 공정 상에 문제가 발생될 수 있다.
    본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해서, 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성된 비특성 재배선층과, 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 상부에 형성된 특성 재배선층을 포함하는 2층의 재배선층이 형성된 SIP용 반도체 칩을 제공한다. 본 발명에 따르면, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정으로 필요한 두께와 폭으로 형성함으로써, 특성 재배선층의 전기적 특성을 확보할 수 있다. 그리고 비특성 재배선층은 팹 공정을 이용하여 반도체 기판의 활성면에 형성하고, 특성 재배선층은 웨이퍼 레벨 공정을 이용하여 비특성 재배선층 위에 형성함으로써, 웨이퍼 레벨 공정으로 형성되는 재배선층이 단층이기 때문에, 웨이퍼 또는 칩 단위에서 휨이 발생되는 것을 억제할 수 있다.
    재배선(redistribution), 팹(fab), 웨이퍼 레벨(wafer level), 시스템 인 패키지(System In Package), 적층(stack)

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