Abstract:
Provided are a polymer, its preparation method, an organic bottom antireflective coating layer composition containing the polymer, and an antireflective coating layer to prevent the reflection of a substrate layer below a photoresist layer for forming a hyperfine circuit during the exposure process using a deep UV of 250 nm or less in the photolithography of a highly integrated semiconductor prepared from the composition. The polymer is represented by the formula 1, wherein R is a benzoin ether, acetophenone or anthracene derivative of an aromatic carbonyl; R1 is H, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxyalkyl group or a C1-C6 hydroxyalkyl group; R2 is a protected maleimide or furyl group; X is H, a carboxyl group, a hydroxyl group, a furoyl group or a cyanato group; Y is a C1-C6 alkyl group or a phenyl group; x is 0.1-0.5; y is 0-0.6; z is 0-0.3; p is 0.01-0.3; x+y+z+p = 1; and q is an integer of 1-6. Preferably the polymer has a weight average molecular weight of 10,000-100,000.
Abstract translation:提供聚合物,其制备方法,含有该聚合物的有机底部抗反射涂层组合物和防反射涂层,以防止在使用深紫外线的曝光过程中形成超精细电路的光致抗蚀剂层下方的基底层反射 在由组合物制备的高度集成的半导体的光刻中为250nm以下。 聚合物由式1表示,其中R是芳族羰基的苯偶姻醚,苯乙酮或蒽衍生物; R1是H,C1-C6烷基,C1-C6烷氧基烷基或C1-C6羟烷基; R2是受保护的马来酰亚胺或呋喃基; X是H,羧基,羟基,糠酰基或氰基; Y是C1-C6烷基或苯基; x为0.1-0.5; y为0-0.6; z为0-0.3; p为0.01-0.3; x + y + z + p = 1; q为1-6的整数。 优选地,聚合物的重均分子量为10,000-100,000。
Abstract:
PURPOSE: An N-hydroxyphenylmaleimide-containing polymer, an antireflection film composition containing the polymer, an organic antireflection film containing the polymer and its preparation, and a semiconductor device prepared by using the composition are provided, to inhibit the diffused reflection of the exposed light during the processing of micro pattern and the generation of standing wave, thereby improving the production yield of a semiconductor having a super high resolution of 70-120 nm. CONSTITUTION: The N-hydroxyphenylmaleimide-containing polymer is represented by the formula 1, wherein R is H, tetrahydropyranyl, -COOR3, (SiR4)3 or t-butyl group; R3 and R4 are methyl, t-butyl or an alkyl group of C2-C3, respectively; R1 and R2 which are independently each other represent H, an alkyl group of C1-C6, an alkoxyalkyl group of C1-C6, a hydroxyalkyl group of C1-C6 or a halogenated alkyl group of C1-C6; and the mole fraction, x is 0.1-0.7, y is 0-0.8, z is 0-0.55 and p is 0-0.5 based on the total mol of x+y+z+p.
Abstract translation:目的:提供含有N-羟基苯基马来酰亚胺的聚合物,含有聚合物的防反射膜组合物,含有该聚合物的有机抗反射膜及其制备方法以及使用该组合物制备的半导体装置,以抑制曝光的扩散反射 在微图案的处理和驻波的产生中,由此提高70〜120nm的超高分辨率的半导体的制造成品率。 构成:含有N-羟基苯基马来酰亚胺的聚合物由式1表示,其中R为H,四氢吡喃基,-COOR 3,(SiR 4)3或叔丁基; R3和R4分别是甲基,叔丁基或C2-C3的烷基; R 1和R 2彼此独立地表示H,C 1 -C 6烷基,C 1 -C 6烷氧基烷基,C 1 -C 6羟基烷基或C 1 -C 6卤代烷基; 摩尔分数x为0.1-0.7,y为0-0.8,z为0-0.55,p为0-0.5,基于x + y + z + p的总摩尔数。
Abstract:
PURPOSE: Provided is a photo-cured dental pit and fissure sealant composition for caries prevention which shows excellent physical and mechanical properties and bio-adaptability . CONSTITUTION: The photo-cured dental pit and fissure sealant composition for caries prevention comprises: 15-80 wt.% of a pre polymer mixture of 2,2-bis-(4-(2-hydroxy-3-methacryloyloxypropoxy)phenyl)propane("Bis-GMA") of the formula(1) and Tri-GMA in a weight ratio of 95:5-5:95; 5-50 wt.% of diluents; 1-40 wt.% of inorganic fillings; photoinitiators; and additives.
Abstract:
PURPOSE: A biodegradable porous polymer supporter for the tissue engineering and its preparation method are provided, to obtain the open cell-structured porous polymer supporter with an improved degree of pore and to allow the size of pore to be controlled. CONSTITUTION: The biodegradable porous polymer supporter is prepared by making a polymer species by using a polymer solution containing a biodegradable polymer and an anisotropic mixture; boiling(foaming) the polymer species in a boiling medium; and drying it. Preferably the biodegradable polymer is selected from the group consisting of poly(glycolic acid), poly(lactic acid), poly(lactic acid-glycolic acid) copolymer, poly(ε-caprolactone), poly(amic acid), polyanhydride, poly(ortho-ester), their derivatives, and their mixtures; and has a molecular weight of 5,000-2,000,000. The anisotropic mixture comprises a carbonate and an organic acid. Preferably the carbonate is selected from the group consisting of sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, ammonium hydrogen carbonate, ammonium carbonate, potassium hydrogen carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, and their mixtures; and the organic acid is selected from the group consisting of citric acid, succinic acid, tartaric acid, succinic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, malic acid, gluconic acid, mucic acid, some amino acids and their mixtures.
Abstract:
PURPOSE: A photoconductive film charging method for manufacturing a dry electrophotographical screen of a cathode ray tube and an apparatus thereof are provided to discharge a photoconductive film over an entire panel by adjusting an inner surface of a panel and a discharge electrode according to a discharge current. CONSTITUTION: A current detector(78) detects a current flowing through an opposed electrode and outputs a digital current value. A controller compares the digital current value from the current detector(78) with a reference value. When the digital current value is greater than the reference value, the controller outputs a falling signal for falling an electrode. When the digital current value is less than the reference value, the controller outputs a rising signal for rising the electrode. A pulse motor driver(76) applies a current for forward or reverse rotation to a pulse motor according to the falling or rising signal from the controller. The pulse motor rotates in a forward or reverse direction according to an output of the pulse motor driver(76). Reciprocal moving tools(72) moves a discharge electrode up or down according to forward or reverse rotation of the pulse motor.
Abstract:
균일하게 광전도막을 대전 및 노광시킬 수 있는 음극선관의 전자사진식 스크린 제조방법과 이에 사용되는 광전도막 대전장치를 제공한다. 광전도막의 대전공정이 : (1) 투명전도막의 1차막과 투명절연막의 2차막으로 된 투명한 충전전극을 준비하여 그 투명절연막을 상기 판넬의 광전도막에 접촉시키는 단계; (2) 그 접촉된 상태에서 그 충전전극의 전도막과 판넬의 전도막에 직류전원을 인가하여 충전시키는 단계; (3) 그 직류전원이 인가된 상태에서 투명한 충전전극을 통과하여 광전도막의 전면적에 광선을 조사하므로써 광전도막으로 판넬의 전도막의 충전된 전하를 이동시키는 단계; 그리고 (4) 그 광전도막으로 전하가 이동된 후 전원과 광원을 차단시키고 충전전극을 분리시키는 단계를 포함한다. 또한, 대전장치는, 판넬의 광전도막에 전면적에 걸쳐 잡 접촉하도록 투명전도막의 1차막과 투명절연막의 2차막이 형성된 투명충전전극판; 그 충전전극판이 고정되고 그 충전전극판의 전도막과 절연막 및 상기 광전도막에 빛을 가하기 위한 개구가 형성된 충전전극판홀더; 상기 충전전극판홀더의 개구를 통하여 상기 광전도막에 빛을 가하기 위한 광원; 상기 광전도막과 절연막과의 접촉위치와 분리위치사이에서 상기 판넬과 충전전극판의 어느 하나를 이동시키도록 그 판넬홀더와 충전전극판홀더의 어느 하나의 이동수단; 그리고 상기 판넬의 전도막과 충전전극판의 전도막에 직류전위를 인가하기 위한 직류전원을 구비한다. 방전장치 없이 충전전극에 의하여 균일하게 광전도막을 대전시킬 수 있어 형광체 도포두께 및 크기, 형상 등을 균일하게 할 수 있을 뿐만 아니라, 노광공정까지도 동시에 실시할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
형광막을 균일하게 형성하기 위해 광전도막에 균일하게 대전하여 스크린을 제조하는 방법이 제공된다. (1) 상기 판넬내면에 휘발성전도막을 형성시키는 1차코팅 단계; (2)그 전도막위에 전기적 절연을 위한 절연막을 형성시키는 2차코팅 단계; (3) 그 절연막위에 제1파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제1광전도막을 형성시키는 3차코팅단계; (4) 그 제1광전도막위에 제2파장역의 광선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성의 제2광전도막을 형성시키는 4차코팅 단계; (5) 그 제2광전도막에 -직류전극을 인가하고 상기 전도막에 +직류전극을 인가하면서 그 제2광전도막에 제2파장역의 광선을 전면에 걸쳐 노광하므로서 균일한 정전하를 그 제2광전도막에 대전시키는 대전단계; (6) 그 제2광전도막의 정전하를 선택적으로 제1광전도막에 이동시키도록 제1파장역의 광선으로 새도우마스크를 통과시켜 노광하는 노광단계; 그리고 (7) 상기 노광단계(6)에서 정전하가 선택적으로 이동된 제1광전도막의 노광부분과 그 나머지 비노광부분중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 포함한다. 이에 따라, 코로나방전장치와 같은 방전장치가 필요없을 뿐만 아니라 복잡한 방전조건을 조절할 필요없이 대전을 균일하게 할 수 있고, 공정도 단순화되며, 형광체 도포두께 및 크기, 형상등을 균일하게 할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 판넬내면의 광전도막을 보다 균일하게 대전시킬 수 있는 음극선관의 스크린제조용 와이어형 코로나 방전전극을 제공한다. 그 와이어형 코로나 방전전극은, 음극선관의 전자사진식 스크린제조용 광전도막 대전장치에 있어서: 선단이 판넬 내면의 수직축과 수평축의 다른 하나의 곡률과 거의 같은 곡률로 형성되고, 서로 일정한 간격으로 배치되어 접지되는 한쌍의 접지전극판(103); 상기 한쌍의 접지전극판(103) 사이에 배치되고, 선단이 상기 다른 하나의 곡률과 거의 같은 곡률상에 위치되는 다수의 와이어 전극 지지대(102,102')를 지니며 전기적으로 절연제로 된 절연블럭(105); 그리고 상기 다수의 와이어 전극 지지대(102,102')의 선단에 지지되고 고전압이 인가되어 상기 광전도막(34)의 적어도 유효화면부를 거의 균일하게 대전시키는 와이어 전극(101)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 균일하게 코로나방전이 일어나게 되어, 보다 균일하게 광전도막(34)을 대전시킬 수 있을 뿐만 아니라, 방전효율이나 대전능력도 향상되는 등의 효과가 있다.
Abstract:
NP-톨루엔술폰일옥시말레이미드(TsOMI), N-메탄술폰일옥시말레이미드(MsOMI), N-트리플로로메탄술폰일옥시말레이미드(TfOMI) 중에서 선택한 광산 발생형 단량체 X-OMI와 Nt-부틸옥시카보닐말레이미드(t-BOCMI), 말레이미드(MI), N-히드록시말레이미드(HOMI) 중에서 선택한 말레이미드 단량체 Y-MI와 스티렌(St), 히드록시스티렌(HOSt), t-부틸옥시카보닐옥시스티렌(t-BOCSt) 중에서 선택한 스티렌 유도체(Z-St)를 라디칼공중합시켜 X-OMI:Y-MI:Z-St=0.7∼1.5:0.7∼1.5:1.5∼2.5 (몰%)의 조성을 가진 N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체 P(X-OMI/Y-MI/Z-St)의 제조방법 및 이를 이용한 내열성 레지스트 화상형성방법.