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61.发明授权분무 열분해법을 이용한 고 비표면적의 바륨 설페이트입자의 제조 방법, 및 상기 바륨 설페이트 입자를 포함하는촉매를 이용한 삼산화황의 분해 방법 失效通过喷雾热解制备具有高表面积的硫酸钡颗粒，以及通过使用包含硫酸钡颗粒的硫酸钡催化剂分解硫化三氧化硫的方法
公开(公告)号：KR100935374B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020080007188
申请日：2008-01-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C01F11/46 , B01J27/055 , B01J23/42
Abstract: 본 발명은 고 비표면적을 갖는 바륨 설페이트 입자의 제조 방법 및 상기 방법에 따라 제조된 바륨 설페이트 입자를 포함하는 바륨 설페이트 촉매를 이용한 삼산화황의 분해 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명에 따른 바륨 설페이트 입자의 제조 방법은, 바륨 전구체와 황산에 각각 분산제를 혼합하여 각각의 용액을 형성하고, 상기 용액을 서로 혼합한 후, 알콜을 추가로 첨가하고 분무 열분해법을 이용하여 바륨 설페이트 입자를 제조하는 방법이다. 또한, 이러한 제조 방법에 따라 제조된 바륨 설페이트 입자는 고온에서도 내구성이 우수하고 고 비표면적을 가지며, 본 발명에 따른 바륨 설페이트 입자에 백금이 담지된 바륨 설페이트 촉매는, 삼산화황의 분해 반응용 촉매로서 유용하게 이용될 수 있다.
바륨 설페이트, 고 비표면적, 분산제, 분무 열분해법, 황산 분해 반응-
公开(公告)号：KR1020090038234A
公开(公告)日：2009-04-20
申请号：KR1020070103625
申请日：2007-10-15
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: B01J21/04 , B01J23/72 , B01J23/745 , B01J35/023 , B01J35/1019 , B01J37/036 , B01J37/08
Abstract: A method for manufacturing a metal-alumina granular type particle catalyst is provided to use the metal-alumina granular type particle catalyst in a process for decomposition of sulfur trioxide and to apply the catalyst in a reaction of various flowing layers and a slurry type. A metal-alumina granular type particle catalyst includes metal-alumina. Size of granular type particle catalyst is 0.1 ~ 3 mm. A metal comprises copper, iron, and their mixture. A molar ratio of the metal and the alumina is 0.06 ~ 0.5 or 0.01 ~ 1. The molar ratio of the iron and the alumina is 0.05 ~ 5 or 1 ~ 3. The molar ratio of the iron and the copper is 1 ~ 3. The granular type particle catalyst includes a specific surface area which is 100 m^2/g or more at 900°C or above.
Abstract translation: 提供了一种制造金属 - 氧化铝颗粒型颗粒催化剂的方法，用于分解三氧化硫的方法中的金属 - 氧化铝颗粒型颗粒催化剂，并将催化剂施加到各种流动层和浆料类型的反应中。 金属 - 氧化铝颗粒型颗粒催化剂包括金属 - 氧化铝。 粒状颗粒催化剂的粒径为0.1〜3mm。 金属包括铜，铁及其混合物。 金属和氧化铝的摩尔比为0.06〜0.5或0.01〜1.铁和氧化铝的摩尔比为0.05〜5或1〜3。铁与铜的摩尔比为1〜3。 颗粒状颗粒催化剂在900℃以上的比表面积为100m 2 / g以上。
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公开(公告)号：KR100685658B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1020050076017
申请日：2005-08-19
Abstract: A sulfur trioxide decomposing highly stable catalyst which exhibits higher activity than existing catalysts, and has high reaction activity at a temperature of 700 deg.C, more preferably at a high temperature of 800 deg.C or more is provided. A copper ferrite catalyst is represented by a formula of Fe(2+delta)Cu(1-delta)O4, wherein the delta is more than or equal to 0 and less than 1. The copper ferrite catalyst is supported on a support. The support is selected from silica, alumina, zirconia and titania. A decomposition process of sulfur trioxide is performed at a temperature of 500 to 1200 deg.C under a pressure of 0.1 to 40 atmospheric pressures. The decomposition process is performed at a temperature of 700 to 1000 deg.C under a pressure of 1 to 25 atmospheric pressures. The decomposition process is used in an IS(Iodine-Sulfur) cycle process for water decomposition.
Abstract translation: 本发明提供一种三氧化硫分解高稳定性催化剂，其表现出比现有催化剂更高的活性，并且在700℃的温度下具有高反应活性，更优选在800℃以上的高温下具有高反应活性。 铜铁氧体催化剂由式Fe（2 +δ）Cu（1-δ）O 4表示，其中δ大于或等于0且小于1.铜铁氧体催化剂负载在载体上。 载体选自二氧化硅，氧化铝，氧化锆和二氧化钛。 三氧化硫的分解过程在500至1200℃的温度和0.1至40个大气压的压力下进行。 分解过程在1至25个大气压的压力下在700至1000℃的温度下进行。 分解过程在IS（碘 - 硫）循环过程中用于水分解。
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公开(公告)号：KR100635303B1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：KR1020050036994
申请日：2005-05-03
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: A method of preparing a crystalline Mo-Co mixture thin film with excellent catalytic activity efficiently in mild conditions is provided. A method of preparing a molybdenum-cobalt mixture thin film by electrodeposition comprises: immersing a counter electrode and a working electrode into an aqueous weak basic solution with a pH of 7 to 10 containing a cobalt salt and molybdic acid((NH4)6Mo7O24+85%MoO3) that respectively have concentrations of 10 to 200 mM; and impressing a voltage of -1.0 to -1.5 V to both electrodes at a temperature of 0 to 80 deg.C to form a Mo-Co mixture thin film on the working electrode. The aqueous weak basic solution is prepared by mixing an aqueous cobalt salt solution with an aqueous molybdic acid solution at a volume ratio of 20:1 to 1:20. The cobalt salt is selected from the group consisting of cobalt nitrate(Co(NO3)2), cobalt acetate(Co(C2H3O2)3), cobalt sulfate(CoSO4) and cobalt chloride(CoCl2). The working electrode and the counter electrode are substrates respectively selected from the group consisting of titanium(Ti), nickel(Ni), molybdenum(Mo), cadmium(Cd), platinum(Pt), gold(Au), Indium-Tin-Oxide(ITO) coated glass, stainless steel, and carbon substrate.
Abstract translation: 提供了在温和条件下有效地制备具有优异催化活性的结晶Mo-Co混合物薄膜的方法。 通过电沉积制备钼 - 钴混合物薄膜的方法包括：将对电极和工作电极浸入pH值为7至10的含有钴盐和钼酸（（NH 4）6 Mo 7 O 24 +85 ％MoO 3），其分别具有10至200mM的浓度; 并在0至80℃的温度下对两个电极施加-1.0至-1.5V的电压以在工作电极上形成Mo-Co混合物薄膜。 通过将钴盐水溶液与钼酸水溶液以20:1至1:20的体积比混合来制备弱碱性水溶液。 钴盐选自硝酸钴（Co（NO 3）2），乙酸钴（Co（C 2 H 3 O 2）3），硫酸钴（CoSO 4）和氯化钴（CoCl 2）。 工作电极和反电极是分别选自由钛（Ti），镍（Ni），钼（Mo），镉（Cd），铂（Pt），金（Au），铟锡合金 氧化物（ITO）镀膜玻璃，不锈钢和碳基板。
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公开(公告)号：KR100635300B1
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：KR1020050036995
申请日：2005-05-03
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: A method of preparing a Mo-Co alloy thin film with excellent catalytic activity efficiently in mild conditions is provided. A method of preparing a molybdenum-cobalt alloy(Co2Mo3) thin film by electrodeposition comprises: immersing a counter electrode and a working electrode into an aqueous acidic solution with a pH of 3 to 6 containing a complexing agent, a cobalt salt and molybdic acid((NH4)6Mo7O24+85%MoO3) that respectively have concentrations of 10 to 200 mM; and impressing a voltage of -1.0 to -1.5 V to both electrodes at a temperature of 0 to 80 deg.C to form a Mo-Co alloy thin film on the working electrode. The complexing agent is citric acid. The aqueous acidic solution is prepared by mixing an aqueous complexing agent solution, an aqueous cobalt salt solution and an aqueous molybdic acid solution. The cobalt salt is selected from the group consisting of cobalt nitrate(Co(NO3)2), cobalt acetate(Co(C2H3O2)3), cobalt sulfate(CoSO4) and cobalt chloride(CoCl2). The working electrode and the counter electrode are substrates respectively selected from the group consisting of titanium(Ti), nickel(Ni), molybdenum(Mo), cadmium(Cd), platinum(Pt), gold(Au), Indium-Tin-Oxide(ITO) coated glass, stainless steel, and carbon substrate.
Abstract translation: 提供了在温和条件下有效地制备具有优异催化活性的Mo-Co合金薄膜的方法。 通过电沉积制备钼 - 钴合金（Co 2 Mo 3）薄膜的方法包括：将对电极和工作电极浸入含有络合剂，钴盐和钼酸的pH为3至6的酸性水溶液（ （NH 4）6 Mo 7 O 24 + 85％MoO 3），其浓度分别为10至200mM; 在0〜80℃的温度下对两个电极施加-1.0〜-1.5V的电压，在工作电极上形成Mo-Co合金薄膜。 络合剂是柠檬酸。 通过混合络合剂水溶液，钴盐水溶液和钼酸水溶液来制备酸性水溶液。 钴盐选自硝酸钴（Co（NO 3）2），乙酸钴（Co（C 2 H 3 O 2）3），硫酸钴（CoSO 4）和氯化钴（CoCl 2）。 工作电极和反电极是分别选自由钛（Ti），镍（Ni），钼（Mo），镉（Cd），铂（Pt），金（Au），铟锡合金 氧化物（ITO）镀膜玻璃，不锈钢和碳基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100599874B1
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：KR1020030082025
申请日：2003-11-19
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: H01G11/28 , H01G9/016 , H01G9/155 , H01G11/36 , H01G11/46 , H01G11/86 , Y02E60/13
Abstract: 본 발명은 탄소나노물질과 나노크기의 금속산화물이 조합된 전기화학 캐패시터용 전극의 제조방법에 관한 것으로서, 집전체 표면을 수소와 탄화수소의 혼합기체와 접촉시켜 집전체 위에 탄소나노물질을 화학증착시키고, 이 탄소나노물질에 나노크기의 금속산화물을 분산 담지시키는, 본 발명의 방법에 의하면, 낮은 저항 및 높은 캐패시턴스 값을 갖는 전기화학 캐패시터용 전극을 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100576934B1
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：KR1020040007149
申请日：2004-02-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C01G11/00
Abstract: 본 발명은 화학적 방법을 이용한 카드뮴셀레나이드 막의 제조방법에 관한 것으로서, 황산카드뮴(CdSO
4 ) 수용액에 시트르산나트륨(Na
3 C
6 H
5 O
7 ·3H
2 O) 수용액을 첨가하여 pH를 7 내지 9로 조절한 다음, 이를 셀레노아황산나트륨(Na
2 SeSO
3 ) 수용액과 혼합한 후 여기에 증착용 기재를 침지시키는 본 발명의 화학적 방법에 의하면, 미세 육방결정구조의 카드뮴셀레나이드 막을 암모니아를 사용하지 않고 온화한 조건에서 간단하게 제조할 수 있으며, 이 막은 광에너지를 전기 또는 화학에너지로 전환하는 공정의 전극으로 유용하게 사용된다.-
公开(公告)号：KR1020050112718A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：KR1020040038101
申请日：2004-05-28
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C25D3/54
CPC classification number: C25D3/54
Abstract: 본 발명은 전착법을 이용한 무정질 티타늄 산화물 막의 제조방법에 관한 것으로서, 티타늄 염 및 착화제 각각을 0.01 내지 1M의 농도로 포함하는, pH 7 내지 12의 염기성 수용액 중에 상대전극(counter electrode)과 작업전극(working electrode)을 침지시킨 후 양 전극에 전압을 인가하는 본 발명의 전착법에 의하면, 조밀하고 균일하고 핀홀이 없는(pinhole free), 무정질의 티타늄 산화물 막을 온화한 조건에서 간단히 제조할 수 있으며, 이 막은 광감응태양전지 및 광전기화학전지의 전극 등 부식성이 높은 전극의 보호막으로서 유용하게 이용될 수 있다.
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公开(公告)号：KR100511163B1
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：KR1020020082449
申请日：2002-12-23
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01G11/36
CPC classification number: Y02E60/13
Abstract: 본 발명은 화학기상증착(chemical vapor deposition; CVD) 방법을 이용하여 집전체 표면에 탄소나노물질을 직접 성장시켜 유체 통과형 축전기(flow through capacitor; FTC) 전극을 제조하는 방법에 관한 것으로, 탄소함유기체와 수소와의 혼합물을 집전체에 접촉시키면서 400 내지 1200℃의 온도 범위에서 상기 집전체 표면에 탄소나노물질을 증착시키는 것을 포함하는 본 발명에 따른 탄소나노물질 FTC 전극의 제조법에 의하면, 바인더를 이용하여 탄소나노물질을 부착시켜 제조된 종래의 FTC 전극에 비해 탄소나노물질의 표면적을 효율적으로 사용할 수 있어 전기저항을 감소시킬 수 있고, 60 F/g 이상의 높은 캐패시턴스 값을 갖는 전극을 제조할 수 있다.
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