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公开(公告)号：KR101092881B1
公开(公告)日：2011-12-12
申请号：KR1020100003381
申请日：2010-01-14
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: 본발명의축전결합플라즈마발생장치및 발생방법을제공한다. 이축전결합플라즈마발생장치는구동주파수를가지고주기적인 RF 펄스를제공하는 RF 전원, RF 전원에연결된제1 전극, 및기판을장착하고제1 전극과대향하여이격되어배치된제2 전극을포함한다. 제1 전극은홀들을포함하는할로우케소드영역을포함한다. 할로우케소드영역은복수의서브할로우케소드영역들로분리된다. 서브할로우케소드영역들은서로다른홀의형태를가지고, RF 전원의펄스의듀티비(duty ratio)에따라, 서브할로우케소드영역들의플라즈마밀도분포의제어가가능하다.
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公开(公告)号：KR101064233B1
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：KR1020090098459
申请日：2009-10-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/66
Abstract: 본 발명에 따르면, 플라즈마를 발생시키도록 전원에 전기적으로 연결되는 안테나의 하측에 위치하여 아래쪽에서 발생되는 플라즈마를 차단시키는 유전체(Dielectric)부의 상면 또는 하면과 접촉하면서 배치되고, 위치에 따라 다른 구조를 가지는 측정 패턴을 포함하되, 측정 패턴은 위치에 따라 불균일한 플라즈마를 생성하는 측정 패턴 구조체, 보정 구조체, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법이 제공된다. 이러한 본 발명에 따르면, 유도 결합 플라즈마의 유전체부에 접촉하여 배치되는 측정 패턴 구조체를 이용하여 기판의 위치에 따라 플라즈마 및 기판 공정 결과의 균일도를 정량적으로 제어할 수 있는 위치 별 챔버 보정 방법을 제공할 수 있고, 불균일한 공정 결과를 반영한 보정 구조체를 이용하여 균일한 공정을 제공할 수 있다.
유도 결합 플라즈마, 공정 불균일성, 실리콘 플레이트, 측정 패턴 구조체, 보정 구조체-
公开(公告)号：KR101059078B1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020110066431
申请日：2011-07-05
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
Abstract: 본 발명은 유체 분배 장치를 제공한다. 이 유체 분배 장치는 제1 노즐들을 포함하는 제1 노즐판, 제1 노즐판의 일면 상에 배치되어 제1 노즐의 지름보다 작은 제2노즐들을 포함하는 제2 노즐판, 및 제1 노즐판 및 제2 노즐판 주위에 배치되어 버퍼 공간을 제공하고 유체가 공급되는 유체 공급 라인과 연결되는 가드부를 포함하되, 제1 노즐판의 제1 노즐과 상기 제2 노즐들은 서로 연결되도록 배치되고, 제2 노즐은 위치에 따라 적어도 둘 이상의 다른 직경을 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020110012167A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：KR1020090069764
申请日：2009-07-30
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H01Q1/366 , H01J37/3211 , H01Q1/02 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: PURPOSE: An internal antenna assembly and a plasma generating device are provided to compensate for plasma density non-uniformity by a standing wave effect and an electricity storage effect. CONSTITUTION: An antenna(130), which is connected to RF power(150), is inserted into a plasma chamber. An insulation jacket(120) is arranged in the circumference of the antenna. The antenna forms plasma inside the plasma chamber. The antenna and the plasma form a capacitor. The electrostatic capacity per the unit duration of the capacitor is varied according to the longitudinal direction of the antenna. The external diameter of the antenna is varied according to the longitudinal direction of the antenna. The antenna comprises antenna rings(131) having a different external diameter.
Abstract translation: 目的：提供内部天线组件和等离子体产生装置，以通过驻波效应和蓄电效应来补偿等离子体密度不均匀性。 构成：将连接到RF功率（150）的天线（130）插入等离子体室中。 绝缘护套（120）布置在天线的圆周上。 天线在等离子体室内形成等离子体。 天线和等离子体形成电容器。 电容器的单位持续时间的静电电容根据天线的纵向而变化。 天线的外径根据天线的长度方向而变化。 天线包括具有不同外径的天线环（131）。
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公开(公告)号：KR100903295B1
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：KR1020070079686
申请日：2007-08-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01J37/32 , H01J27/02 , H01J37/30 , H01L21/265
Abstract: 본 발명은 이온, 전자, 중성 가스를 포함하는 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생 장치부, 상기 플라즈마를 담고 있는 소오스 진공 용기, 상기 소오스 진공 용기 내부에 배치된 바이어스 전극, 및 상기 소오스 진공 용기에서 이온을 가속하여 추출하는 이온 추출부를 포함하되, 상기 바이어스 전극에 의하여 이온의 에너지를 상승시킨다.
바이어스 전극, 플로팅 그리드, 이온 전류, 아크 방전-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100819336B1
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：KR1020040010956
申请日：2004-02-19
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 나노공정에 적합한 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 여기수단을 이용하여 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만든 후 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 광소스를 이용하여 중성가스를 이온화 시켜 플라즈마를 생성시키도록 되어 있고, 그 장치는 내부에 피처리물이 수용될 수 있는 공간이 형성되고, 이 공간의 상부에는 투명 유전체가 씌워지며, 일측에는 내부 공간으로 중성가스를 공급하기 위한 주입구와 내부를 진공분위기로 만들기 위한 진공펌프가 접속된 챔버; 상기 챔버에 주입된 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만들기 위한 여기수단; 여기 상태인 중성가스의 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 광자를 상기 챔버 내부에 조사하여 중성가스를 이온화시켜 플라즈마를 생성시키기 위한 이온화수단;을 포함하여 이루어져 있다.
전자온도, 플라즈마, 여기, 이온화, 중성가스-
公开(公告)号：KR1019960030754A
公开(公告)日：1996-08-17
申请号：KR1019950000945
申请日：1995-01-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/00
Abstract: 본 발명은 플라즈마(plasma) 내의 활성종(radical) 분포를 측정하는 방법 및 측정장치에 관한 것디다. 본 발명의 플라즈마 내 활성종 분포 측정방법은 프라즈마 진공용기 내부에 광학탐침을 삽입하고 광학탐침으로 입사된 빛을 탐지하여 빛의 세기의 적분량을 측정하는 과정; 전기 과정에서 측정된 빛의 세기의 적분량을 미분하여 진공용기 내의 각 지점에서의 빛의 세기를 구하는 과정; 진공용기 내부에 전기탐침을 삽입하여 전기탐침에 인가된 전류 및 전압을 측정하는 과정; 전기 과정에서 측정된 전류 및 전압의 IV 곡선으로부터 플라즈마 파라미터를 구하는 과정; 및, 전기 과정에서 의해 얻어진 빛의 세기 및 플라즈마 파라미터로부터 활성종의 분포를 구하는 과정을 포함하며, 본 발명의 측정장치는 진공용기, 광학탐침, 전기탐침, 선형운동 조절장치, 광분석기, 전기신호 분석기 및 컴퓨터를 포함한다. 본 발명의 측정방법 및 측정장치로부터 홀성종 분포의 측정시 별도의 부대장비를 부설치 않고도 진공용기의 구조와는 무관하게 플라즈마 내의 활성중 분포를 단시간에 적은 오차로 측정할 수 있다는 것이 확인되었다.
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公开(公告)号：KR101836422B1
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：KR1020130101827
申请日：2013-08-27
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46
Abstract: 본발명은플라즈마발생장치및 기판처리장치를제공한다. 이플라즈마발생장치는플라즈마를형성하도록제1 주파수의제1 RF 전력을공급받는원판형의제1 전극, 제1 전극의둘레에배치되고제2 주파수의제2 RF 전력을공급받는와셔형태의제2 전극, 제1 전극과제2 전극사이에배치된절연스페이서, 제1 전극에전력을공급하는제1 RF 전원, 및제2 전극에전력을공급하는제2 RF 전원을포함한다.
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公开(公告)号：KR101675491B1
公开(公告)日：2016-11-14
申请号：KR1020140180638
申请日：2014-12-15
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B01D53/32
Abstract: 본개시는, 풍력발전기에테슬러코일원리를이용한미세먼지차단시스템에관한것으로서, 타워, 타워의상부에설치된나셀및 날개를포함하는풍력발전기; 메인전원, 제1 캐패시터, 상기타워의하부에설치된 1차코일및 스파크갭을포함한 1차LC회로; 및상기 1차코일과자기적으로결합하며, 타워의상부까지타워를권취하도록설치된 2차코일, 상기 2차코일로부터소정간격이격되어그 상부에설치된제2 캐패시터를포함하는 2차LC회로로이루어진미세먼지차단시스템을제공한다.
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公开(公告)号：KR101427732B1
公开(公告)日：2014-08-07
申请号：KR1020120006458
申请日：2012-01-20
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32165 , H05H1/46 , H05H2001/4675 , H05H2001/4682
Abstract: 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다.
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