Abstract:
본 발명은 적층결함(stacking fault)이 제거된 Ⅲ족 질화물 기판의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광전기화학(Photoelectrochemical) 에칭방법 또는 측면성장방법을 이용하여 적층결함(stacking fault)을 제거하는 무극성 또는 반극성(semi-polar) Ⅲ족 질화물 기판의 제조방법에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 무극성 또는 반극성 에피탁시층의 성장 표면을 제공하는 기판 상에 제1Ⅲ족 질화물층을 형성하는 단계; 상기 단계에서 형성된 제1Ⅲ족 질화물층 상에 복수개의 캐비티가 내부에 형성된 제2Ⅲ족 질화물층을 형성하는 단계; 상기 단계에서 형성된 소자를 전해액에 담고, 소정의 빛에너지를 조사하는 단계; 및 광전기화학반응을 통하여 상기 제2Ⅲ족 질화물층표면에 존재하는 적층결함부분을 식각하는 단계; 를 포함한다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a III group nitride substrate without a stacking fault is provided to improve the internal quantum efficiency of a light emitting diode by removing the stacking fault on a III group nitride layer using a photoelectrochemical etching method or a lateral growth method. CONSTITUTION: A first III group nitride layer is formed on a substrate(S101). A second III group nitride layer with a plurality of cavities is formed on the first III group nitride layer(S102). A semiconductor is immersed in KOH electrolytes(S103). Light of specific energy is irradiated(S104). A stacking fault part is etched from the surface of the second III group nitride layer by a photoelectrochemical reaction(S105). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S101) Step of forming a first III group nitride layer(120) on a substrate(110); (S102) Step of forming a second III group nitride layer(140) with a plurality of cavities on the first III group nitride layer; (S103) Step of immersing an element formed in the S102 in KOH electrolytes; (S104) Step of irradiating light of specific energy; (S105) Step of etching a stacking fault part by neutralizing the KOH and an oxide film generated on the substrate surface formed in the S102;
Abstract:
본발명은개별 LED 또는 LED 어레이를구비한 LED 구조체를형성하여타겟기판으로전사가능한 LED 구조체및 이의이송방법을제공하는것을목적으로한다. 이를위해, 본발명은지지기판접착층을통해지지기판에접착된 p-n 접합구조를갖는복수의 LED 모듈이상기지지기판으로조사되는광 또는상기지지기판에가해지는열 중적어도하나를통해상기지지기판접착층의접착력이약해지도록하여상기고정된 LED 모듈이상기지지기판에서개별또는어레이형태로분리되도록한다. 따라서본 발명은개별 LED 또는 LED 어레이를구비한 LED 구조체를형성하여개별 LED 또는 LED 어레이가픽업되어타겟기판으로전사가능할수 있는장점이있다.
Abstract:
본발명은 GaN 박막을포함한이종기판에에피층을성장시킴으로써, 버퍼를개재시키지않은상태에서에피층을형성할수 있으므로, 결정성이향상되며, 저렴하게제작할수 있는 GaN 박막을포함한이종기판, 이의제조방법, 이를구비하는발광소자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의일 측면에따른 GaN 박막을포함한이종기판은, 이종기판인베이스기판; 및상기베이스기판의적어도일면에서로이격되어형성되는다수의 GaN(Gallium Nitride) 박막으로이루어지는것을특징으로한다.