単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法
    61.
    发明申请
    単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 审中-公开
    用于绘制单晶硅的二氧化硅及其生产方法

    公开(公告)号:WO2013171937A1

    公开(公告)日:2013-11-21

    申请号:PCT/JP2013/000890

    申请日:2013-02-19

    Inventor: 山形 茂

    Abstract:  本発明は、内側に透明シリカガラスから成る透明層を有し、外側に気泡を含有する不透明シリカガラスから成る不透明層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記透明層が、前記シリカ容器の内表面側に位置し、OH基を200~2000massppmの濃度で含有する高OH基層と、該高OH基層よりもOH基濃度が低い低OH基層とから成り、前記高OH基層がBaを50~2000massppmの濃度で含有するものである単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、単結晶シリコン引き上げ用にシリカ容器を用いた場合に、該容器使用開始後短時間のうちに該容器の透明シリカガラスから成る内側表面の全面が微細結晶化(グラスセラミックス化)することにより、該容器内側表面のシリコン融液に対する耐エッチング性(耐侵食性)を大幅に向上させるようなシリカ容器、及び、そのようなシリカ容器の製造方法が提供される。

    Abstract translation: 这种二氧化硅容器用于制造单晶硅,并且在内部具有包括透明石英玻璃的透明层,并且在外部具有包含含有气泡的不透明石英玻璃的不透明层。 透明层位于二氧化硅容器的内表面侧,并且包含OH基浓度为200-2000质量ppm的OH基团和OH基浓度低于OH基浓度的低OH基层的高OH基层。 的高OH基层,高OH基层含有Ba的50-2000质量ppm的浓度。 结果,提供了:二氧化硅容器,使得当二氧化硅容器用于制备单晶硅时,容器内表面相对于熔融硅的耐腐蚀性(耐侵蚀性)通过整个 包含容器的透明石英玻璃的内表面的表面在容器使用开始后的短时间内被微晶化(玻璃化); 以及这种二氧化硅容器的制造方法。

    シリカ粉及びシリカ容器並びにそれらの製造方法
    62.
    发明申请
    シリカ粉及びシリカ容器並びにそれらの製造方法 审中-公开
    二氧化硅粉,二氧化硅容器和生产二氧化硅粉和容器的方法

    公开(公告)号:WO2011045888A1

    公开(公告)日:2011-04-21

    申请号:PCT/JP2010/005375

    申请日:2010-09-01

    Abstract:  本発明は、回転対称性を有し、シリカを主成分とし、少なくとも外周部分に気泡を含有する基体と、該基体の内表面上に形成された、透明シリカガラスからなる内層とを具備するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、前記内層を形成するための原料粉として、粒径が10~1000μmであり、Ca、Sr、Baを50~5000wt.ppmの合計濃度で含有し、真空下にて1000℃に加熱したときの水素分子の放出量が3×10 16 ~3×10 19 分子/gであるシリカ粉を準備し、該内層形成用原料粉であるシリカ粉から、前記内層を形成するシリカ容器の製造方法である。これにより、高寸法精度であり、内壁が実質的に気泡を含まない肉厚の透明シリカガラス層であるとともに、高温でも高い耐久性を有するシリカ容器を低コストで製造できるシリカ容器及びその製造方法、並びにそのようなシリカ容器を製造するためのシリカ粉及びその製造方法が提供される。

    Abstract translation: 本发明提供一种具有旋转对称性的二氧化硅容器的制造方法,以二氧化硅为主要成分,至少在外周部具有气泡,形成在本体内表面的内层 ,并且包括透明石英玻璃。 粒径为10〜1000μm的二氧化硅粉末,含有总浓度为50〜5000重量ppm的Ca,Sr,Ba,氢分子的排出量为3×1016〜3×1019分子/克 作为形成内层的原料动力,在真空中在1000℃下加热时,内层由作为形成内层的原料粉末的二氧化硅粉末形成。 因此,提供了即使在高温下也具有高尺寸精度和高耐久性,其内壁是具有基本上不含气泡的厚度的透明石英玻璃层的二氧化硅容器。 还提供了用于生产所述二氧化硅容器的低成本方法,用于生产这种二氧化硅容器的二氧化硅粉末以及所述二氧化硅粉末的制备方法。

    プラズマエッチング用石英ガラス部材
    63.
    发明申请
    プラズマエッチング用石英ガラス部材 审中-公开
    用于等离子体蚀刻的QUARTZ玻璃成员

    公开(公告)号:WO2009017020A1

    公开(公告)日:2009-02-05

    申请号:PCT/JP2008/063258

    申请日:2008-07-24

    Abstract:  プラズマエッチング工程で使用されるドープ石英ガラスで、使用中に、問題となるような弗化物の堆積が起こらないようなプラズマエッチング用ドープ石英ガラス部材を提供する。  半導体製造用治具としてプラズマエッチング工程に用いられるプラズマエッチング用石英ガラス部材であって、少なくとも、該石英ガラス部材が2種類以上の金属元素を併せて0.01wt%以上0.1wt%未満含有し、該金属元素が周期律表第3B族から選ばれた少なくとも1種の第1の金属元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選ばれた少なくとも1種の第2の金属元素からなることを特徴とする。

    Abstract translation: 用于等离子体蚀刻操作的用于等离子体蚀刻的掺杂石英玻璃构件,在使用期间没有任何有问题的氟化物积聚。 用于等离子体蚀刻的石英玻璃构件是用于等离子体蚀刻操作中的半导体制造的夹具,其特征在于,含有总量为0.01至小于0.1重量%的至少两种或更多种金属元素。 金属元素由选自元素周期表第3B族中的至少一种第一金属元素和选自Mg,Ca,Sr,Ba,Sc,Y的至少一种第二金属元素组成 ,Ti,Zr,Hf,镧系元素和锕系元素。

    シリカ容器及びその製造方法
    69.
    发明申请
    シリカ容器及びその製造方法 审中-公开
    二氧化硅船及其生产工艺

    公开(公告)号:WO2011070703A1

    公开(公告)日:2011-06-16

    申请号:PCT/JP2010/006179

    申请日:2010-10-19

    Abstract:  本発明は、Li、Na、Kの合計濃度が50wt.ppm以下である基体形成用原料粉と、Ca、Sr、Baを合計で50~2000wt.ppm含有する内層形成用原料粉を作製し、型枠内で基体の仮成形体を形成し、その内表面上に内層の仮成形体を形成し、水素若しくはヘリウム又はそれらの混合ガスを10vol.%を超える比率で含有するガス雰囲気にて、放電加熱溶融法により基体と内層の仮成形体の内側から加熱することによって、基体の仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、基体の仮成形体の内周部分及び内層の仮成形体を溶融ガラス体とすることにより、外周部分に気泡を含有する基体と、該基体の内表面上に形成された、透明シリカガラスからなる内層とを有するシリカ容器を製造する方法である。これにより、高寸法精度、高耐熱性を有するシリカ容器を低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器が提供される。

    Abstract translation: 公开了一种生产二氧化硅容器的方法,该方法包括在外周部分含有气泡的基体和由透明石英玻璃组成的内层,并形成在基体的内表面上。 该方法包括:制备总浓度为Li,Na和K为50重量ppm以下的基体形成原料粉末和含有Ca,Sr和Ba的总体含量的内层形成原料粉末 为50〜2000重量ppm; 在模具中形成用于基体的预制件; 在基体的表面的内表面上形成内层的预成型体; 并且通过放电加热熔融法从复合预成型件的内部在含有氢,氦或二者的混合物的气体气氛中加热这样的复合预成型体,以使外周部分 将用于基体的预成型体转变为烧结体,并将用于基体的预成型体的内周部分和用于内层的预成型件转换成熔融玻璃体。 因此,能够以低成本生产具有高尺寸精度和高耐热性的二氧化硅容器的方法和这种二氧化硅容器。

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