公开(公告)号：KR1020120007034A

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：KR1020117026341

申请日：2010-04-12

Applicant: 가부시키가이샤 리가쿠

Inventor： 오모테카즈히코 ,  이토요시야스

IPC: G01B15/04 ,  G01B15/08 ,  G01N23/201 ,  G01N23/04

CPC classification number: G01B15/04 ,  G01B15/08 ,  G01N23/043 ,  G01N23/201

Abstract: 본 발명은, 표면의 미세한 구조를 정확하게 계측할 수 있으며, 3차원적인 구조적 특징을 평가할 수 있는 표면미세구조 계측방법, 표면미세구조 계측프로그램 및 X선 산란강도 측정장치를 제공한다.
표면미세구조 계측방법에서는, 시료표면에 미소한 입사각으로 X선을 조사하여, 산란강도를 측정하고, 표면상의 미세구조에 의해, 표면에 수직인 방향으로 1 또는 복수의 층이 형성되며, 층 내에서 상기 표면에 평행한 방향으로 단위구조체가 주기적으로 배열되어 있는 시료 모델을 가정하며, 층에 의해 생기는 굴절 및 반사의 효과를 고려하여, 미세구조에 의해 산란된 X선의 산란강도를 계산하고, 시료 모델에 의해 산출되는 X선의 산란강도를 측정된 산란강도에 피팅한다. 그리하여, 피팅의 결과, 단위구조체의 형상을 특정하는 파라미터의 최적값을 결정한다. 이것에 의해, 미세한 구조를 정확하게 계측할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020150062546A

公开(公告)日：2015-06-08

申请号：KR1020130147316

申请日：2013-11-29

Applicant: 삼성전기주식회사

Inventor： 손배순 ,  정소영 ,  박성열 ,  함석진

IPC: G01B15/02 ,  G01N23/00

CPC classification number: G01N23/20083 ,  G01B15/02 ,  G01N23/201 ,  G01N23/223 ,  G01N2223/045 ,  G01N2223/1016

Abstract: 본발명은기재부착시료의두께측정방법및 장치에관한것이다. 본발명의하나의실시예에따라, 빈영역을통과하는초기 X-선의세기를검출하는단계; 기재만으로이루어진제1 투과체를투과하는제1 투과 X-선및 제1 투과체로부터산란하는제1 산란 X-선의세기를검출하는단계; 기재상에시료가부착된제2 투과체를투과하는제2 투과 X-선및 시료로부터산란하는제2 산란 X-선의세기를검출하는단계; 및초기 X-선세기, 제1 및제2 투과 X-선세기및 제1 및제2 산란 X-선세기로부터시료의두께를산출하는단계;를포함하는기재부착시료의두께측정방법이제안된다. 또한, 기재부착시료의두께측정장치가제안된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于测量附着在基板上的样品的厚度的方法和装置。 根据本发明实施例的用于测量附着在基板上的样品的厚度的方法包括：检测通过空区域传播的初始X射线的强度的步骤; 检测通过仅由基板构成的第一透射体透射的第一透射X射线的强度和从第一透射体散射的第一散射X射线的强度的步骤; 检测通过由所述基板构成的第二透射体和附着在所述基板上的样品透射的第二透射X射线的强度和从所述样品散射的第二散射X射线的强度的步骤; 以及从初始X射线强度，第一和第二透射X射线强度以及第一和第二散射X射线强度计算样品的厚度的步骤。 此外，公开了用于测量附着在基板上的样品的厚度的装置。

公开(公告)号：KR101247203B1

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：KR1020120080822

申请日：2012-07-24

Applicant: 테크밸리 주식회사 ,  원광대학교산학협력단

Inventor： 김한석 ,  박진근 ,  진영덕 ,  윤명훈 ,  김경수 ,  이충훈

IPC: G01N23/20 ,  G21K1/02

CPC classification number: G01N23/20083 ,  G01N23/201 ,  G01N2223/051 ,  G01N2223/1016 ,  G21K1/025

Abstract: PURPOSE: A slit member of an X-ray examination device and a manufacturing method thereof are provided to improve precision of an examination by preventing the influx of undesirable X-rays, thereby enhancing the precision of the examination. CONSTITUTION: A slit member of an X-ray examination device(100) comprises absorption units(110) and transmission units(120). The absorption units are separately arranged in a height direction on a path of X-rays scattered from a sample to an inspection unit, composed of a plurality of thin plates which form the absorption units, and absorb the X-rays being reflected or scattered at a portion extrinsic to the sample. The transmission units fix the thin plates by being interposed between the absorption units and transmit the X-rays scattered from the sample to the inspection unit. Lines extended from the thin plates meet at one point.

Abstract translation: 目的：提供X射线检查装置的狭缝构件及其制造方法，以通过防止不期望的X射线的流入来提高检查的精度，从而提高检查的精度。 构成：X射线检查装置（100）的狭缝构件包括吸收单元（110）和传输单元（120）。 吸收单元在从样品散布到检查单元的X射线的路径上在高度方向上分开布置，由形成吸收单元的多个薄板构成，并且吸收被反射或散射的X射线 样品外在的部分。 传输单元通过介于吸收单元之间固定薄板，并将从样品散射的X射线传输到检查单元。 从薄板延伸的线在一点相遇。

公开(公告)号：KR1020090043938A

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：KR1020070109765

申请日：2007-10-30

Applicant: 중앙대학교 산학협력단 ,  서울대학교산학협력단

Inventor： 이춘식 ,  이주한 ,  김장열

IPC: G01N23/02 ,  G01N23/00

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N23/02 ,  G01N23/20066 ,  G01N2223/0563 ,  G01N2223/063 ,  G01N2223/1013

Abstract: 본 발명은 물체의 구성원소를 비파괴식으로 분석하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 물체에 의한 방사선의 컴프턴 산란을 계수하여 물체의 구성원소를 분석하고, 이를 토대로 물체의 원소 구성을 3차원 영상화시키는 기술에 관한 것이다.
본 발명에 따른 물체의 구성원소 분석방법은, 분석대상이 물체에 대해 계측된 산란 감마선 에너지 분포함수로부터 계측에 사용된 검출기의 응답함수를 디컨벌루션하여 물체 내의 미지 원소의 산란전 전자 운동량 분포함수를 구함으로써 미지 원소의 종류를 판정한다.
컴프턴, 산란, 감마선, 비파괴, 구성원소, 운동량분포함수, 에너지분포함수, 3차원, 영상화.

公开(公告)号：KR1020090015929A

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：KR1020087028326

申请日：2007-04-19

Applicant: 아메리칸 사이언스 앤 엔지니어링, 인크.

Inventor： 딘카댄크리스티안 ,  매스트로나디리차드 ,  로칠드피터제이.

IPC: G01N23/04 ,  G01N23/00 ,  G01V5/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N23/203 ,  G01V5/0025

Abstract: A system and methods are provided for imaging an object, based on activating an array of discrete X-ray sources in a prescribed temporal pattern so as to illuminate the object with a beam varying in spatial orientation, and detecting X-rays of the beam after interaction with the object and generating a detector signal. An image of the object may then be constructed on the basis of the time variation of the detector signal. The discrete X-ray sources maybe moved during the course of inspection, moreover, the prescribed temporal pattern may constitute a Hadamard code. The discrete sources may be carbon nanotube x-ray sources.

Abstract translation: 提供了一种系统和方法，用于基于以规定的时间模式激活离散X射线源的阵列来对物体进行成像，以便以在空间方向上变化的光束来照射物体，并且在后面检测光束的X射线 与对象的相互作用并产生检测器信号。 然后可以基于检测器信号的时间变化来构建对象的图像。 离散X射线源可能在检查过程中移动，此外，规定的时间模式可能构成Hadamard码。 离散源可以是碳纳米管x射线源。

公开(公告)号：KR1020010069086A

公开(公告)日：2001-07-23

申请号：KR1020000001334

申请日：2000-01-12

Applicant: 학교법인 포항공과대학교

Inventor： 이문호 ,  왕샤오동 ,  신태주 ,  이병두 ,  이한섭 ,  송현훈 ,  조길원

IPC: G01N23/00

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N2223/054 ,  G01N2223/203 ,  G01N2223/306 ,  G01N2223/3103 ,  G01N2223/502

Abstract: PURPOSE: A small-angle scattering measuring device for radiate light is provided to increase the precision of experiments by integrally controlling all parts relating to the measurement and measuring data required for analyzing scattering data by a main control part, and conveniently carry out the small-angle scattering experiments required for analyzing the structure of a high molecule. CONSTITUTION: A small-angle scattering measuring method for radiate light includes a beam line(100), through which input radiate light passes and is scattered by the reaction with a predetermined sample for analyze the structure of the sample, for outputting a signal indicating the scattering, a beam line control part(110) for controlling predetermined parts of the beam line to control the radiate light passing through the beam line, a signal detection part(120) for detecting a signal of the scattered radiate light which passes the beam line, and a main control part(130) for communicating with the beam line control part and storing and displaying the signals received from the signal detection part.

Abstract translation: 目的：提供一种用于辐射光的小角度散射测量装置，通过整体控制与主控部分分析散射数据所需的测量和测量数据相关的所有部分，提高实验精度， 分析高分子结构所需的角散射实验。 构成：用于辐射光的小角度散射测量方法包括光束线（100），输入辐射光通过该线束通过并通过与预定样本的反应而散射，用于分析样本的结构，以输出指示 用于控制光束线的预定部分以控制通过光束线的辐射光的光束线控制部分（110），用于检测通过光束线的散射辐射光的信号的信号检测部分（120） 以及用于与光束线控制部进行通信并存储并显示从信号检测部接收的信号的主控制部（130）。

公开(公告)号：KR1020010069085A

公开(公告)日：2001-07-23

申请号：KR1020000001333

申请日：2000-01-12

Applicant: 학교법인 포항공과대학교

Inventor： 이문호 ,  왕샤오동 ,  신태주 ,  이병두 ,  김진곤 ,  진왕철 ,  차국헌 ,  진인주

IPC: G01N23/00

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N2223/054 ,  G01N2223/203 ,  G01N2223/306 ,  G01N2223/31 ,  G01N2223/313 ,  G01N2223/408

Abstract: PURPOSE: A small-angle scattering measuring method for radiate light is provided to store and display precise measurement data and information on the experimental environment relating to the measurement in real time by a main control part which controls all controllable parts of a device for measuring the small-angle scattering of radiate light. CONSTITUTION: A small-angle scattering measuring method for radiate light includes the steps of initiating a beam line, a beam line control part, and a signal detection part by a main control part(2000), inputting a predetermined set value and a control command to the beam line control part and the signal detection part by the main control part(2100), operating the beam line control part and the signal detection part by the main control part(2200), inputting a strength of a light source in an ionization chamber in the beam line from the beam line control part to the main control part(2300), controlling a temperature of a sample die, on which a predetermined sample is positioned to react with radiate light in the beam line, output from the beam line control part(2400), inputting a scattering result of the radiate light reacted with the sample to the main control part(2500), and storing and displaying an image of the scattering result of the radiate light by the main control part(2600).

Abstract translation: 目的：提供一种用于辐射光的小角度散射测量方法，用于通过主控制部件来实时存储和显示与实时测量有关的实验环境的精确测量数据和信息，主控制部件控制用于测量的设备的所有可控部分 辐射光的小角度散射。 构成：用于辐射光的小角度散射测量方法包括通过主控部分（2000）启动光束线，光束线控制部分和信号检测部分的步骤，输入预定设定值和控制命令 通过主控制部分（2100）向光束线控制部分和信号检测部分传送，通过主控部分（2200）操作光束线控制部分和信号检测部分，在电离中输入光源的强度 从光束线控制部分到主控制部分（2300）的光束线中的腔室，控制预定样本定位的样品管芯的温度与束线中的辐射光反应，从射束线 控制部分（2400），将与样品反应的辐射光的散射结果输入到主控制部分（2500），并且通过主控制部分（2600）存储和显示辐射光的散射结果的图像。

公开(公告)号：TW201602568A

公开(公告)日：2016-01-16

申请号：TW104119858

申请日：2015-06-18

Applicant: 喬丹菲利半導體有限公司 ,  JORDAN VALLEY SEMICONDUCTORS LTD.

Inventor： 馬瑟 艾薩克 ,  MAZOR, ISAAC ,  卡莫 艾力克斯 ,  KROKHMAL, ALEX ,  迪可波謝夫 艾力克斯 ,  DIKOPOLTSEV, ALEX ,  沃明頓 馬修 ,  WORMINGTON, MATTHEW

IPC: G01N23/20

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N2223/6116

Abstract: 本發明係關於一裝置，其包含在具有一軸之平面中固持樣本之樣本支撐件，該平面界定藉由其分離之第一及第二區域。第一區域中之射線源架座圍繞該軸旋轉，且該射線源架座上之X射線源引導X射線之第一及第二入射射束以第一及第二角度沿與該軸正交之射束軸照射於樣本上。第二區域中之偵測器架座在與軸正交之一平面中移動，且該偵測器架座上之X射線偵測器回應於第一及第二入射射束而接收透射通過樣本之X射線之第一及第二繞射射束，且回應於所接收之第一及第二繞射射束而分別輸出第一及第二信號。處理器分析該等第一及第二信號，以判定樣本之表面之輪廓。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一设备，其包含在具有一轴之平面中固持样本之样本支撑件，该平面界定借由其分离之第一及第二区域。第一区域中之射线源架座围绕该轴旋转，且该射线源架座上之X射线源引导X射线之第一及第二入射射束以第一及第二角度沿与该轴正交之射束轴照射于样本上。第二区域中之侦测器架座在与轴正交之一平面中移动，且该侦测器架座上之X射线侦测器回应于第一及第二入射射束而接收透射通过样本之X射线之第一及第二绕射射束，且回应于所接收之第一及第二绕射射束而分别输出第一及第二信号。处理器分析该等第一及第二信号，以判定样本之表面之轮廓。

公开(公告)号：TWI353445B

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：TW094106181

申请日：2005-03-02

Applicant: 理學股份有限公司

Inventor： 伊藤義泰

IPC: G01N

CPC classification number: G01N23/201 ,  G01N15/088 ,  G01N2015/086

Abstract: 本發明之技術課題在於，即使在孔隙14或粒子16無序分散於薄膜10中，觀測不出繞射線情況下，仍可使用X射線小角度散射測定來求出孔隙率或粒子率。
其大略區分有三種方法。第1方法使用孔隙率或粒子率已知的試料來決定X射線小角度散射裝置的裝置常數，使用該裝置常數算出未知的孔隙率或粒子率。第2方法準備基質密度雖未知卻彼此相同，孔隙率或粒子率不同的複數試料，對各試料求出X射線小角度散射的尺度因子，使用此等尺度因子，根據「試料間的基質密度變成最小」的條件，決定各試料的基質密度。根據該基質密度及尺度因子，算出孔隙率或粒子率。於基質密度已知，粒子密度未知情況下，第3方法採用類似於第2方法的方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之技术课题在于，即使在孔隙14或粒子16无序分散于薄膜10中，观测不出绕射线情况下，仍可使用X射线小角度散射测定来求出孔隙率或粒子率。 其大略区分有三种方法。第1方法使用孔隙率或粒子率已知的试料来决定X射线小角度散射设备的设备常数，使用该设备常数算出未知的孔隙率或粒子率。第2方法准备基质密度虽未知却彼此相同，孔隙率或粒子率不同的复数试料，对各试料求出X射线小角度散射的尺度因子，使用此等尺度因子，根据“试料间的基质密度变成最小”的条件，决定各试料的基质密度。根据该基质密度及尺度因子，算出孔隙率或粒子率。于基质密度已知，粒子密度未知情况下，第3方法采用类似于第2方法的方法。

公开(公告)号：EP3394601B1

公开(公告)日：2024-05-22

申请号：EP16819891.9

申请日：2016-12-19

IPC: G01N23/207 ,  G01N23/201 ,  G01B15/00 ,  B29C51/14 ,  G01N23/205 ,  G01N23/02

CPC classification number: B29C51/14 ,  G01N23/201 ,  G01N23/205 ,  G01N23/02 ,  G01B15/00 ,  G01N23/207