公开(公告)号：KR1020060107523A

公开(公告)日：2006-10-13

申请号：KR1020067008015

申请日：2003-09-27

Applicant: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하

Inventor： 딩어우도 ,  아이써르트프랑크 ,  퀠러슈테판 ,  옥쎄안드레아스 ,  첼너요하네스 ,  로비쉬마틴 ,  라우퍼티모

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B1/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/181 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

Abstract: The invention relates to a projection lens (1) for short wavelengths, in particular, for wavelengths lambda

Abstract translation: 本发明涉及一种用于短波长的投影透镜（1），特别是用于波长λ<157nm的投影透镜（1），其设置有几个反射镜（M1，M2，M3，M4，M5和M6），其布置在与 光轴（5）。 镜子（M1，M2，M3，M4，M5和M6）包括多层涂层。 提供至少两种不同的镜材料，其热膨胀系数的上升与热膨胀系数的零转变周围温度的函数不同，特别是在该值的符号上。

公开(公告)号：KR100264431B1

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR1019950045214

申请日：1995-11-30

Applicant: 스미토모덴키고교가부시키가이샤

Inventor： 야마모토요시유키 ,  다나베게이이치로 ,  하라노가츠코 ,  두노다카시 ,  오타노부히로 ,  후지모리나오지

IPC: G21K1/10

CPC classification number: H01J35/18 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/065 ,  H01J2235/122 ,  H01J2235/1262 ,  H01L23/473 ,  H01L2924/0002 ,  H05H7/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 10W/cm·K 이상의 열전도율을 갖는 고열전도성 물질층을 갖추고, 이 고열전도성 물질층에 냉각매체용 유로를 갖춘 본 발명에 따른 윈도우재는, 높은 방열특성 및 투과특성을 갖는다.

公开(公告)号：WO2017102256A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/078343

申请日：2016-11-21

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HUBER, Peter

Inventor： HUBER, Peter

IPC: G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F1/24 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

Abstract: Die Erfindung betrifft ein reflektives optisches Element, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage oder eine Maskeninspektionsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist das refiektive optische Element eine optische Wirkfläche, ein Substrat (405, 505), ein Reflexionsschichtsystem (410, 510) und wenigstens eine poröse Ausgasschicht (450, 550) auf, welche bei Bestrahlung der optischen Wirkfläche (400a, 500a) mit elektromagnetischer Strahlung zumindest zeitweise in der Ausgasschicht (450, 550) adsorbierte Teilchen freisetzt.

Abstract translation: 反射光学元件技术领域本发明涉及一种反射光学元件，特别是用于微光刻投影曝光设备或掩模检测系统。 宝石＆AUML;大街 澈，衬底（405，505），反射层系统（410，510）和至少一个POR＆OUML;本发明中，refiektive光学元件，光学Wirkfl＆AUML的一个方面本身Ausgasschicht（450，550），其在所述光学Wirkfl＆照射AUML 具有电磁辐射的表面（400a，500a）至少暂时释放吸气在释气层（450,550）中的颗粒。

公开(公告)号：WO2016184708A1

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：PCT/EP2016/060284

申请日：2016-05-09

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： MÜLLER, Matthias ,  FISCHER, Thomas ,  SEITZ, Stefan

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/09 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0095 ,  G02B26/0816 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70941 ,  G21K2201/065

Abstract: Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes mit Beleuchtungslicht. Die Beleuchtungsoptik hat einen ersten Facettenspiegel mit einer Mehrzahl von ersten Facetten auf einem ersten Spiegelträger, die zwischen mehreren Kippstellungen umstellbar sind. Dem ersten Facettenspiegel nachgeordnet ist ein zweiter Facettenspiegel (10) mit einer Mehrzahl von zweiten Facetten (11), die auf einem zweiten Spiegelträger (10a) um ein Facetten-Anordnungszentrum (12) angeordnet sind. Teilbündel des Beleuchtungslichts werden jeweils über Ausleuchtungskanäle, zu denen eine der ersten Facetten und eine der zweiten Facetten (11) gehört, einander überlagernd in das Objektfeld geführt. Am zweiten Spiegelträger (10a) sind randseitig zweite Maximalwinkel-Facetten (11 M ) angeordnet. Letztere geben maximal von einer Hauptstrahl-Inzidenzauf dem Objektfeld abweichende, maximale Beleuchtungswinkel des Beleuchtungslichts vor. Der zweite Spiegelträger (10a) hat einen Beleuchtungslicht-Fallenabschnitt (29), dessen Abstand zum Facetten-Anordnungszentrum (12) größer ist als ein Abstand der zweiten Maximalwinkel-Facetten (11 M ) zum Facetten-Anordnungszentrum (12). Bei einem weiteren Aspekt ist der Abstand des Beleuchtungslicht-Fallenabschnitts zum Facetten-Anordnungszentrum (12) höchstens so groß wie ein Abstand der Maximalwinkel-Facetten (1 M ) zum Facetten-Anordnungszentrum (12) und der Beleuchtungslicht-Fallenabschnitt ist zum Abführen von Wärmeenergie thermisch an einen Fallen-Kühlkörper angekoppelt. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine Störlichtunterdrückung ohne unerwünschte thermische beziehungsweise optische Auswirkungen möglich ist.

Abstract translation: 用于EUV投影光刻的照明光学部件，用于利用照明光照明物场。 该照明光学部件具有上的第一反射镜支撑的多个第一小平面的，其具有多个倾斜位置之间可切换的第一面反射镜。 第一面反射镜的下游是具有多个形成的第二反射镜支架（10A）上的第二小平面（11）的第二面反射镜（10）被布置成围绕一小平面阵列中心（12）。 的照明光的子光束经由与所述第一面和第二面（11）中的一个属于照明通道，每个通道被引导，在物场彼此重叠。 上的边缘侧的第二反射镜支架（10A）的第二最大角度刻面（11M）被布置。 后者提供最大的主光束Inzidenzauf物场之前偏离的照明光的最大照明角度。 第二反射镜座（10A）具有照明光情况下的部分（29），其距离与小面阵列中心（12）比所述第二最大角度刻面（11M），用于小面阵列中心（12）之间的距离大。 在另一个方面，一种用于小面阵列中心（12）的照明光情况下的部分的距离至多为最大角度刻面（1M），用于小面阵列中心的距离（12）和照明光诱捕部分一样大是热为热能耗散到 一个陷阱散热器耦合。 结果是具有眩光校正的照明光学部件没有不希望的热或光的影响是可能的。

公开(公告)号：WO2012046133A2

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：PCT/IB2011/002365

申请日：2011-10-07

Applicant: GIGAPHOTON INC. ,  KAMEDA, Hidenobu ,  WAKABAYASHI, Osamu

Inventor： KAMEDA, Hidenobu ,  WAKABAYASHI, Osamu

IPC: G02B7/18

CPC classification number: G02B7/1815 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/065

Abstract: A mirror includes a mirror base provided with a flow channel through which a heat medium passes for cooling the mirror. The flow channel includes a buffer tank, portion for adjusting a flow rate of the heat medium in the flow channel. A reflective film is provided on the mirror base.

Abstract translation: 镜子包括设置有流动通道的镜子底座，热介质通过该流动通道来冷却镜子。 流路包括缓冲罐，用于调节流路中的热介质的流量的部分。 反光镜底座上有反光膜。

公开(公告)号：WO2011113591A2

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：PCT/EP2011/001305

申请日：2011-03-16

Applicant: ETH ZURICH ,  DIETERICH, Franz ,  ABHARI, Reza ,  GIOVANNINI, Andrea ,  AGA, Vipluv

Inventor： DIETERICH, Franz ,  ABHARI, Reza ,  GIOVANNINI, Andrea ,  AGA, Vipluv

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70175 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/065

Abstract: An optical collector (15) for collecting extreme ultraviolet radiation or EUV light generated at a central EUV production site comprises a reflective shell (25). To cope with the thermal loading of the collector and thereby avoid deformations, the reflective shell (25) preferably is mounted on and supported by a support structure (24), such that a cooling channel (29) is established between the back side of the reflective shell (25) and the support structure (24), the thickness of the reflective shell (25) is substantially reduced, such that the convective heat transfer between the back side of the reflective shell (25) and a cooling medium (26) flowing through the cooling channel (29) dominates the process of removing heat from the reflective shell (25) with respect to heat conduction, and a cooling circuit (33) is connected to the cooling channel (29) to supply a cooling medium (26) to the cooling channel (29) with a controlled coolant pressure and/or mass flow.

Abstract translation: 用于收集在中央EUV生产场所产生的极紫外辐射或EUV光的光学收集器（15）包括反射壳（25）。 为了应对集电器的热负荷并且由此避免变形，反射壳体（25）优选地安装在支撑结构（24）上并由支撑结构（24）支撑，使得冷却通道（29）建立在 反射壳体（25）和支撑结构（24），反射壳体（25）的厚度大大减小，使得反射壳体（25）的背面与冷却介质（26）的对流热传递 流过冷却通道（29）的方式主导着相对于热传导从反射壳体（25）移除热量的过程，冷却回路（33）连接到冷却通道（29）以供应冷却介质 ）到具有受控的冷却剂压力和/或质量流量的冷却通道（29）。

公开(公告)号：WO2005024848A3

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：PCT/JP2004013292

申请日：2004-09-07

Applicant: CANON KK ,  IMAI KYOKO ,  ANDO KENJI ,  KANAZAWA HIDEHIRO

Inventor： IMAI KYOKO ,  ANDO KENJI ,  KANAZAWA HIDEHIRO

IPC: C23C14/14 ,  G02B5/08 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/283 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/065

Abstract: To provide an optical thin film structure capable of efficiently dissipating heat in an optical thin film which is generated upon irradiating a surface of an X-ray mirror made up of the optical thin film with an X-ray. The optical thin film having an isotope purity higher than a natural isotope abundance ratio is formed on a mirror to increase heat conductivity of the optical thin film itself and quickly dissipate heat accumulated in the thin film to the outside of an optical system. Consequently, the mirror having high reflectively can be obtained, in which a fine structure of the optical thin film is by no means broken.

Abstract translation: 本发明提供一种光学薄膜结构体，该光学薄膜结构体能够有效地散发在利用X射线照射由该光学薄膜构成的X射线反射镜的表面时产生的光学薄膜中的热量。 具有高于天然同位素丰度比的同位素纯度的光学薄膜形成在反射镜上以增加光学薄膜本身的热导率，并且快速将积聚在薄膜中的热量散发到光学系统的外部。 因此，可以获得具有高反射性的反射镜，其中光学薄膜的精细结构不会被破坏。

公开(公告)号：WO2005024848A2

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：PCT/JP2004/013292

申请日：2004-09-07

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  IMAI, Kyoko ,  ANDO, Kenji ,  KANAZAWA, Hidehiro

Inventor： IMAI, Kyoko ,  ANDO, Kenji ,  KANAZAWA, Hidehiro

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/283 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/065

Abstract: To provide an optical thin film structure capable of efficiently dissipating heat in an optical thin film which is generated upon irradiating a surface of an X-ray mirror made up of the optical thin film with an X-ray. The optical thin film having an isotope purity higher than a natural isotope abundance ratio is formed on a mirror to increase heat conductivity of the optical thin film itself and quickly dissipate heat accumulated in the thin film to the outside of an optical system. Consequently, the mirror having high reflectively can be obtained, in which a fine structure of the optical thin film is by no means broken.

Abstract translation: 提供能够在用X射线照射由该光学薄膜构成的X射线镜的表面上产生的光学薄膜中有效散发热的光学薄膜结构。 在反射镜上形成具有高于天然同位素丰度比的同位素纯度的光学薄膜，以提高光学薄膜本身的导热性，并将薄膜中累积的热量迅速地散发到光学系统的外部。 因此，可以获得高反射率的反射镜，其中光学薄膜的精细结构绝不破裂。

公开(公告)号：WO2012123436A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：PCT/EP2012/054320

申请日：2012-03-13

Applicant: Carl Zeiss Laser Optics GmbH ,  Carl Zeiss SMT GmbH ,  KIEREY, Holger ,  SIEKMANN, Heiko ,  BRESAN, Andre

Inventor： KIEREY, Holger ,  SIEKMANN, Heiko ,  BRESAN, Andre

IPC: B24B13/00 ,  G02B5/18

CPC classification number: G02B5/208 ,  B24B13/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/10 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/70316 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: A method for producing a reflective optical component (10) for an EUV projection exposure apparatus, said component having a substrate (12) having a base body (14), and a reflective layer (20) arranged on the substrate (12), wherein the substrate (12) has an optically operative microstructuring (16), comprises the following steps: working the microstructuring (16) into the substrate (12), polishing the substrate (12) after the micro-structuring (16) has been worked into the substrate (12), applying the reflective layer (20) to the substrate (12). A reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus correspondingly has a polished surface between the microstructuring and the reflective layer.

Abstract translation: 一种用于制造用于EUV投影曝光装置的反射型光学部件（10）的方法，所述部件具有具有基体（14）的基板（12）和布置在所述基板（12）上的反射层（20），其中 衬底（12）具有光学上的微结构化（16），包括以下步骤：将微结构化（16）加工到衬底（12）中，在微结构化（16）已经被加工之后抛光衬底（12） 所述基板（12）将所述反射层（20）施加到所述基板（12）。 用于EUV投影曝光装置的反射型光学部件对应地具有在微结构化和反射层之间的抛光表面。

公开(公告)号：WO2010048237A3

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：PCT/US2009061391

申请日：2009-10-20

Applicant: APPLIED MATERIALS INC ,  YANG YAO-HUNG ,  NGUYEN TUAN ANH ,  BALUJA SANJEEV ,  KASZUBA ANDRZEJ ,  ROCHA JUAN CARLOS ,  NOWAK THOMAS ,  HO DUSTIN W

Inventor： YANG YAO-HUNG ,  NGUYEN TUAN ANH ,  BALUJA SANJEEV ,  KASZUBA ANDRZEJ ,  ROCHA JUAN CARLOS ,  NOWAK THOMAS ,  HO DUSTIN W

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: A reflector for an ultraviolet lamp can be used in a substrate processing apparatus. The reflector comprises a longitudinal strip extending the length of the ultraviolet lamp. The longitudinal strip has a curved reflective surface and comprises a plurality of through holes to direct a coolant gas toward the ultraviolet lamp. A chamber that uses an ultraviolet lamp module with the reflector, and a method of ultraviolet treatment are also described.

Abstract translation: 用于紫外灯的反射器可用于基板处理装置。 反射器包括延伸紫外灯长度的纵向条。 纵向条具有弯曲的反射表面，并且包括多个通孔以将冷却剂气体引向紫外线灯。 还描述了使用具有反射器的紫外线灯模块的室以及紫外线处理方法。