配线基板和多片式配线基板

    公开(公告)号:CN103703871A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201280036832.8

    申请日:2012-12-25

    Abstract: 提供使包围腔体的侧壁实现薄壁化且整体实现小型化的陶瓷制的配线基板,并且提供如下的多片式配线基板:一起设置有多个该配线基板,并且很难产生在接合金属框时焊料彼此连接成架桥状的问题,其中该焊料配置于在相邻的每个配线基板的表面形成的各导体层之上。配线基板(1)具有:基板主体(2),由板状的陶瓷(S)构成,具有表面(3)和背面(4),该表面(3)与该背面(4)之间的高度(H)为0.8mm以下;腔体(10),在该基板主体(2)的表面(3)开口且俯视时呈矩形;以及侧壁(5),使该腔体(10)的侧面(12)与基板主体(2)的侧面之间的厚度(T)成为0.3mm以下,该配线基板(1)具有:俯视时呈框形状的导体层(16),形成于所述基板主体(2)的表面(3)且以包围所述腔体(10)的开口部的方式形成;俯视时呈框形状的陶瓷面(7),与该导体层(16)相邻且沿着基板主体(2)的表面(3)的外周侧设置;以及通路导体(15),沿着腔体(10)的侧面(12)中的该腔体(10)的底面(11)与所述表面(3)之间形成于基板主体(2)内,一部分(15a)露出到腔体(10)的侧面(12),在上端侧与所述导体层(16)连接。

    布线电路基板的制造方法
    68.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101562946B

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:CN200910132825.8

    申请日:2009-04-17

    Inventor: 竹村敬史

    Abstract: 一种布线电路基板的制造方法,包括:准备绝缘层的工序;将导体薄膜形成于绝缘层的上表面及侧端面的工序;用光致抗蚀膜覆盖形成于绝缘层的上表面及侧端面的导体薄膜的工序;配置光掩模,使其将形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的形成端部及导体层的部分遮光,将覆盖形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的光致抗蚀膜从上方通过光掩模曝光的工序;将覆盖形成于绝缘层的侧端面的导体薄膜的光致抗蚀膜从下方曝光的工序;去除光致抗蚀膜的未曝光部分,将曝光部分形成为图案,形成抗镀膜的工序;在从抗镀膜露出的导体薄膜上,在形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的端部形成端部导体层,同时在形成于绝缘层的上表面的导体薄膜形成导体层的工序;去除抗镀膜的工序;以及去除被抗镀膜覆盖的导体薄膜的工序。

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