公开(公告)号：KR1020050023030A

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：KR1020030060049

申请日：2003-08-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이상호 ,  박성욱 ,  신동화 ,  채승기 ,  송재관 ,  박병철 ,  정주성 ,  유희용

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A wafer exposure method is provided to improve productivity by reducing processing time using a predetermined stepping and scanning manner. CONSTITUTION: A first exposure is performed on a first shot region(S1) of a wafer by using a pattern of a reticle while the wafer and reticle move to reverse directions from a first initial position. The wafer and reticle are aligned with each other again at a second initial position. A second exposure is performed on a second shot region(S2) of the wafer by using the reticle pattern while the wafer and reticle move to reverse directions. The wafer and reticle are aligned with each other at the first initial position. At this time, a third shot region of the wafer is aligned with an exposure position.

Abstract translation: 目的：提供晶片曝光方法，通过使用预定的步进和扫描方式减少处理时间来提高生产率。 构成：当晶片和标线片从第一初始位置反向移动时，通过使用掩模版的图案在晶片的第一照射区域（S1）上进行第一曝光。 晶片和掩模版在第二初始位置处再次对准。 在晶片和标线片向相反方向移动的同时通过使用标线图案在晶片的第二照射区域（S2）上进行第二曝光。 晶片和掩模版在第一初始位置彼此对准。 此时，晶片的第三射出区域与曝光位置对准。

公开(公告)号：KR1020030000093A

公开(公告)日：2003-01-06

申请号：KR1020010035730

申请日：2001-06-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한동경 ,  박병철

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A system for controlling exposure equipment is provided to stop the exposure equipment as soon as an exposure defect occurs, by immediately stopping the exposure equipment if line width data and align stage data fall outside a parameter limit. CONSTITUTION: The exposure equipment(10) includes an exposure unit in which an exposure process is performed on a wafer. A line width measuring apparatus(20) measures the line width of the pattern formed on the wafer. An align state measuring apparatus(30) measures the align state of the pattern formed on the wafer. A scattering control unit(40) makes the measured line width data and the measured align state data fedback to each exposure equipment in which an exposure process is performed on the wafer. An input unit receives and stores the fedback line width data and align state data. The parameter limit for determining whether the exposure process is good is inputted into the input unit. A discriminating unit compares the parameter limit with the line width data and align state data inputted into the input unit and stops the exposure equipment if the comparison result falls outside the parameter limit. The exposure equipment further includes the input unit and the discriminating unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制曝光设备的系统，一旦出现曝光缺陷就立即停止曝光设备，如果线宽数据和对准平台数据超出参数极限，立即停止曝光设备。 构成：曝光设备（10）包括在晶片上进行曝光处理的曝光单元。 线宽测量装置（20）测量在晶片上形成的图案的线宽。 对准状态测量装置（30）测量在晶片上形成的图案的对准状态。 散射控制单元（40）使得测量的线宽数据和所测量的对准状态数据反馈到在晶片上执行曝光处理的每个曝光设备。 输入单元接收并存储反馈行宽数据并对齐状态数据。 用于确定曝光处理良好的参数限制被输入到输入单元。 鉴别单元将参数限制与行宽数据进行比较，并将输入到输入单元的状态数据对齐，如果比较结果超出参数限制，则停止曝光设备。 曝光设备还包括输入单元和鉴别单元。

公开(公告)号：KR1020020019649A

公开(公告)日：2002-03-13

申请号：KR1020000052609

申请日：2000-09-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정실근 ,  박경신 ,  조희윤 ,  박병철

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67282 ,  B23K26/1435 ,  B23K26/1438 ,  B23K26/147 ,  H01L2223/54493

Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for marking an identification mark on a wafer are provided to remove easily particles generated from a marking process of an identification mark by using an injection device. CONSTITUTION: A support portion(12) is used for loading a wafer(10). The support portion(12) is formed with a spin chuck for receiving the wafer(10) and defining a marking region of an identification mark. A laser beam irradiation portion(14) is used for irradiating a laser beam on a predetermined portion of the wafer(10) and marking the identification mark. An Nd/YAG laser of a dot matrix mode is used in the laser beam irradiation portion(14). The identification mark of the dot type is formed on the wafer(10). An injection portion(20) is used for injecting a gas to the marking region of the identification mark. The injection portion(20) is formed with a nozzle(201), valves(207,209), a pipe(203), and an injection motor(205).

Abstract translation: 目的：提供一种用于在晶片上标记识别标记的方法和装置，以通过使用注射装置容易地除去由识别标记的标记过程产生的颗粒。 构成：支撑部分（12）用于装载晶片（10）。 支撑部分（12）形成有用于接收晶片（10）并限定识别标记的标记区域的旋转卡盘。 激光束照射部分（14）用于将激光束照射在晶片（10）的预定部分上并标记识别标记。 在激光束照射部分（14）中使用点阵模式的Nd / YAG激光器。 点状的识别标记形成在晶片（10）上。 注射部分（20）用于将气体注入识别标记的标记区域。 注射部分（20）形成有喷嘴（201），阀（207,209），管（203）和注射马达（205）。

公开(公告)号：KR1020020012413A

公开(公告)日：2002-02-16

申请号：KR1020000045693

申请日：2000-08-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An exposure apparatus used in manufacturing a semiconductor is provided to diversely select an aperture, by mounting more apertures on a revolver than a conventional technology. CONSTITUTION: An exposure process is performed regarding a photomask having a predetermined pattern through the aperture. The revolver(50) has the first group of apertures disposed on the first circumference and the second group of apertures disposed on the second circumference. A transfer unit(60) moves back and forth the revolver so that the first or second group of apertures are located in a setup position of a path that light passes through. A rotation unit(70) rotates the revolver to transfer one aperture selected from the first or second group of apertures to the setup position.

Abstract translation: 目的：提供用于制造半导体的曝光装置，以通过在常规技术上安装更多的旋转枪孔，来不同地选择孔径。 构成：通过孔径对具有预定图案的光掩模进行曝光处理。 左轮手枪（50）具有设置在第一圆周上的第一组孔，并且设置在第二圆周上的第二组孔。 传送单元（60）来回转动左轮，使得第一组或第二组孔位于光通过的路径的设置位置。 旋转单元（70）旋转旋转器以将选自第一组或第二组孔的一个孔传递到设置位置。

公开(公告)号：KR1020020005871A

公开(公告)日：2002-01-18

申请号：KR1020000039352

申请日：2000-07-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: B65G69/16

Abstract: PURPOSE: An equipment transporting device is provided to prevent the equipment from being applied with any shock when main air bags are punctured, by mounting sub-air bags in the main air bags symmetrically, thereby preventing the damage of the equipment or related parts. CONSTITUTION: An equipment transporting device includes a plurality of guide blocks(20) provided to a bottom surface of an equipment and respectively formed with a plurality of air supplying channels from a side surface toward a bottom surface, main air bags(40) positioned to the respective bottom surfaces of the guide blocks to be expanded by the air supplied via the air supplying channels, and a plurality of sub-air bags(50) respectively mounted in the main air bags to be expanded by the air supplied via the air supplying channels, wherein the guide blocks are mounted symmetrically on the bottom surface of the equipment, and the sub-air bags are mounted symmetrically in the main air bags.

Abstract translation: 目的：提供一种设备运输装置，通过将主要气囊对称地安装副安全气囊，防止设备在主要气囊被刺穿时受到冲击，从而防止设备或相关部件的损坏。 构成：设备运送装置包括设置在设备底面的多个引导块（20），并且分别形成有从侧面朝向底面的多个供气通道，主气囊（40）定位于 引导块的各个底面由通过空气供给通道供给的空气而膨胀;多个副气囊（50），分别安装在主气囊中，以便通过空气供给 通道，其中引导块对称地安装在设备的底表面上，并且副气囊对称地安装在主气囊中。

公开(公告)号：KR200180238Y1

公开(公告)日：2000-05-01

申请号：KR2019970033503

申请日：1997-11-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최원 ,  채성준 ,  박병철

IPC: F25D25/02

Abstract: 본 고안은 냉장고용 선반에 관한 것으로서, 저장물을 지지하도록 제1재료로 형성된 선반플레이트와; 상기 선반플레이트의 연부를 둘러 싸도록 제2재료로 형성되며, 둘레 방향에 가로로 두께가 감소되도록 절단용 노치부가 형성된 선반림을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 폐기시 저장물을 지지하는 선반플레이트와 선반플레이트의 연부를 둘러 싸도록 형성되는 선반림이 상호 용이하게 분리되도록 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990051420A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970070737

申请日：1997-12-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: H01L21/20

Abstract: 챔버(chamber)를 포함하는 반도체 장치 제조용 장비의 인 아웃 윈도우 슬릿 밸브(in/out window slit valve)를 개시한다. 본 발명은 샤프트(shaft)와, 슬릿 밸브 어셈블리(slit valve assembly) 및 블랙킷(blacket)으로 이루어진다. 이때, 샤프트에는 슬릿 밸브 어셈블리가 상기 슬릿 밸브 어셈블리에 연결되는 제1고정 수단 및 상기 샤프트에 연결되는 제2고정 수단을 가지는 블랙킷에 의해서 고정된다. 이때, 제1고정 수단으로는 블랙킷을 관통하여 슬릿 밸브 어셈블리에 끼워지는 스크류(screw)를 이용한다. 또한, 제2고정 수단은 블랙킷을 관통하여 샤프트에 끼워지는 스크류를 이용한다.

公开(公告)号：KR100194658B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950026169

申请日：1995-08-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철

IPC: G11B20/02

Abstract: 이 발명은 음성 제거 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면 카세트 플레이어, 튜너, 컴팩트 디스크 플레이어 등과 같은 일반적인 오디오 기기들에서 출력하는 일반적인 음악에서 음성 신호만을 제거하여 간편하고, 현실감있는 가라오케 반주 음악을 제공하는 음성 제거 장치에 관한것이다.
상기한 종래의 음성 제거 회로는, 좌측 오디오 신호와 우측 오디오 신호 중에 모노 신호만 감쇄함으로서, 음성 신호의 성분은 많이 줄어들지만, 상기한 바와 같은 과정에서 4㎑ 이상의 음악 소리의 성분도 많이 상쇄되므로 스테레오 감이 많이 줄어들고 좌측단과 우측단에 각각 장치되는 로우 패스 필터도 모노 성분이 강한 베이스음만 필터링하여 더해주기 때문에 스테레오감을 회복하는데 별로 도움을 주지 못하는 단점이 있으나, 본 발명은 4㎑이상의 고음도 보호하여 원래의 음질 및 스테레오 감을 유지하면서, 음성 신호만을 제거하는 음성 제거 장치를 제공하기 위한 것이며, 하이 패스 필터(310, 320)를 사용하고, 베이스용 로우 패스 필터(610, 620)을 사용하여 음성 신호 대역인 200㎐와 4㎑사이에 음성신호만을 감쇄시킴으로 인해 종래의 기술에 비하여 한층 충분한 스테레오 음을 갖게 하고, 원음에 충실한 음성 제거 장치를 제공할 수가 있다

公开(公告)号：KR100175515B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019960011244

申请日：1996-04-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병철 ,  정세웅 ,  권순구 ,  김태선 ,  김양호

IPC: H04R3/00

CPC classification number: H04H20/47 ,  H04S1/002 ,  H04S1/005

Abstract: 이 발명은 오디오 스테레오 시스템에 있어서 스테레오 기능을 확장할 수 있도록 조사 테이블을 사용한 테이블 조사 방식의 스테레오 구현 장치와 방법에 관한 것이다.
이 발명의 구성은 좌입력을 수신하여, 각 주파수 영역으로 분류하여 다수의 좌출력들을 출력하는 제1스펙트럼 애널라이저와, 우입력을 수신하여, 각 주파수 영역으로 분류하여 다수의 우출력들을 출력하는 제2스펙트럼 애널라이저와, 다수의 촤출력들과 다수의 우출력들을 각각 수신하여 설정된 파라미터를 이용하여 각각 신호 처리하고, 다수의 좌출력쌍들과 다수의 우출력쌍들을 각각 출력하는 다수의 조사 테이블을 가지는 테이블 조사 구조와, 다수의 조사 테이블의 출력중 좌출력 쌍들만을 수신하여, 이들 모두 가산하여 최종 좌출력을 출력하는 제1가산기와, 다수의 조사 테이블의 출력중 우출력 쌍들만을 수신하여, 이를 모두 가산하여 최종 우출력을 출력하는 제2가산기로 이루어진다.
이 발명의 효과는, 입력 신호의 상태나 변화를 정확하게 파악하고, 스테레오 이미지 증가와 투사 보정 보다 정확하게 구현하고, 사용자가 보다 편리하고 다양하게 사용할 수 있도록 쉽게 프로그램이 가능한 테이블 조사 방식의 스테레오 구현 장치와 방법을 제공할 수 있다.

公开(公告)号：KR100164503B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950055688

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전기현 ,  김용수 ,  박병철 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.
종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 사진공정장비 라인의 배치에서 웨이퍼 이송부와 인터페이스부를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하여 수리 및 점검시 작업공간을 충분히 확보할 수 있도록 하여 라인 내 공조를 안정시키고 작업시간을 줄여 수율을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.