公开(公告)号：KR1020100041348A

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：KR1020080100491

申请日：2008-10-14

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이해원 ,  이종호 ,  오은옥 ,  손지원 ,  김혜령 ,  김형철 ,  이경렬

IPC: H01M8/10 ,  H01M8/04 ,  H01M4/86

CPC classification number: H01M8/1253 ,  C09D1/00 ,  H01M2008/1293 ,  Y02E60/525 ,  Y02P70/56

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a metal oxide thin film structure using a metal oxide sol is provided to facilitate the control of a fine structure without expensive equipment or starting materials, and to obtain a stable phase through a low-temperature process. CONSTITUTION: A method for preparing a metal oxide sol comprises (i) preparing a solution containing metal oxide, the metal oxide is selected from the group consisting of ziroconium oxide, cerium oxide, lanthanum gallate, barium cerate, barium zirconate, bismuth oxide, and their doping phase; and (ii) dispersing the same or heterogeneous nanopowder of metal oxide in the metal oxide solution.

Abstract translation: 目的：提供一种使用金属氧化物溶胶制造金属氧化物薄膜结构的方法，以便在没有昂贵的设备或起始材料的情况下控制精细结构，并通过低温工艺获得稳定的相。 构成：制备金属氧化物溶胶的方法包括：（i）制备含有金属氧化物的溶液，所述金属氧化物选自氧化锆，氧化铈，没食子酸镓，钡酸钡，锆酸钡，氧化铋和 他们的兴奋阶段 和（ii）将金属氧化物的相同或不均匀的纳米粉末分散在金属氧化物溶液中。

公开(公告)号：KR100940812B1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：KR1020090107645

申请日：2009-11-09

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 석현광 ,  이해원 ,  백경호

IPC: C01F7/00 ,  C01F17/00 ,  H01L21/205 ,  C23C4/10

Abstract: 반도체 장비용 열용사 코팅막의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 싱ㄹ시예에 따른 반도체 제조 장비에 사용되는 열용사 코팅막의 제조 방법은, i) (Al
x Y
1-x )
2 O
3 (x는 0.05 내지 0.95) 조성을 가지는 열용사 코팅물질을 준비하는 단계, ii) 열용사 코팅물질을 플라즈마 불꽃을 향하여 주입하여 가열하는 단계, 및 iii) 가열에 의해 완전 용융 또는 반용융된 상태의 열용사 코팅물질을 반도체 제조장비에 사용되는 부품의 표면에 적층하여 비정질 구조를 갖는 코팅막을 형성하는 단계를 포함한다.
열용사 코팅, 비정질 세라믹, 반도체 제조 장비, 보호 코팅막

公开(公告)号：KR100939256B1

公开(公告)日：2010-01-29

申请号：KR1020070060758

申请日：2007-06-20

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 석현광 ,  이해원 ,  백경호

IPC: C01F7/00 ,  C01F17/00 ,  H01L21/205 ,  C23C4/10

Abstract: 반도체 장비용 열용사 코팅물질의 제조방법을 제공한다. 코팅 물질은 (Al
x Y
1-x )
2 O
3 (x 는 0.05 내지 0.95 범위)의 조성을 가지며, 직경 1-100㎛ 크기의 분말로 형성될 수 있다. 또한, 상기 분말을 사용하여 열용사법에 의해 코팅한 코팅막은 비정질 구조를 가진다.
열용사 코팅, 비정질 세라믹, 반도체 제조 장비, 보호 코팅막

Abstract translation: 提供了一种制造用于半导体器件的热喷涂涂层材料的方法。 涂层材料可以包括（Al

公开(公告)号：KR100622711B1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：KR1020040054412

申请日：2004-07-13

Applicant: 현대자동차주식회사 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 이해원 ,  이종호 ,  김주선 ,  송휴섭 ,  고행진 ,  이기춘

IPC: H01M4/86 ,  H01M4/88

CPC classification number: C04B38/00 ,  C04B35/01 ,  C04B35/62826 ,  C04B35/62886 ,  C04B2111/00853 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3246 ,  C04B2235/3279 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/664 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/96 ,  H01M4/8885 ,  H01M4/9066 ,  H01M2008/1293 ,  Y10T428/2991 ,  C04B38/0054 ,  C04B38/0074 ,  C04B38/068

Abstract: 본 발명은 상호침투형 복합구조를 가지는 고체산화물 연료전지(SOFC)의 연료극 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 세라믹 분말 입자 주위에 니켈 분말이 침착된 코아-쉘 구조로 된 복합분말을 이용하여 제조되어 그 구성상인 세라믹 결정립, 니켈의 결정립 및 기공이 균일한 크기를 가지고, 상기 구성상 상호간의 연속적인 네트워크 형태로 구성된 상호침투형 복합구조를 가짐으로써, 장기 안정성, 열 싸이클 안정성, 산화환원 안정성 및 기계적 물성이 현저히 향상된, 상호침투형 복합구조를 가지는 고체산화물 연료전지의 연료극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
연료극, 상호침투형 복합구조, 안정성, 기계적 물성

公开(公告)号：KR100596688B1

公开(公告)日：2006-07-07

申请号：KR1020030031269

申请日：2003-05-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이해원 ,  이종호 ,  김주선 ,  김태은 ,  임건자

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은 반도체의 절연기술 중 하나인 STI(Sallow Trench Isolation) 공정에서 사용되는 절연층을 기계 화학적인 방법으로 제거하기 위한 CMP 공정에 사용되는 나노 크기의 세라믹 분말을 연마제로 사용한 슬러리에 관한 것이다. 본 발명의 CMP용 슬러리는 나노 크기의 세리아 분말이 중성에서 안정하게 분산되도록 분산 안정성을 조절하는 첨가물들, 그리고 반도체 절연층중 산화물과 질화물의 연마율의 상대적인 비 (선택비)를 향상 시키는 첨가물들이 함유되어 있다. 본 발명의 자세한 슬러리 조성은 연마제로 1 - 5 중량%의 세리아, 분산 안정화제로 연마제에 대하여 2 - 3 중량%의 구연산, 선택비 제어제로 연마제에 대하여 1 - 5 중량%의 글리신, pH 조절제로 수산화칼륨과 질산이 증류수에 첨가되어 있으며, pH 4 - 12에서 안정한 조성을 가진다.
기계화학적연마, CMP, 세리아, 구연산, 글리신

公开(公告)号：KR1020060041394A

公开(公告)日：2006-05-12

申请号：KR1020040090469

申请日：2004-11-08

Applicant: 재단법인 포항산업과학연구원 ,  한국과학기술연구원 ,  주식회사 서머텍 코리아

Inventor： 황순영 ,  전형우 ,  김진홍 ,  이해원 ,  성병근 ,  김주선 ,  석현광

IPC: B22F9/24

Abstract: 본 발명은 용사코팅용 나노구조 텅스텐 카바이드-코발트계 분말, 그 제조 방법 및 이를 이용한 나노구조 용사 코팅에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명에 따른 용사코팅용 나노구조 텅스텐 카바이드-코발트계 분말의 제조 방법은, 텅스텐 카바이드-코발트 혼합물, 분산제 및 용매를 혼합한 혼합물을 준비하는 단계, 혼합물에 결합제 및 가소제를 첨가하여 부분 응집된 슬러리를 제조하는 단계, 부분 응집된 슬러리를 분무 건조하여 구형 과립을 제조하는 단계, 및 구형 과립을 열처리하여 구형 과립에 함유된 유기물을 제거하는 단계를 포함한다. 이러한 본 발명을 통하여 용사 코팅의 내마모 특성을 크게 향상시킬 수 있다.
용사코팅, 텅스텐 카바이드, 코발트, 슬러리, 부분 응집

公开(公告)号：KR100534764B1

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：KR1020030079008

申请日：2003-11-10

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  현대자동차주식회사

Inventor： 고행진 ,  이해원 ,  이종호 ,  송휴섭 ,  김주선 ,  이동석 ,  허장원

IPC: H01M8/02

CPC classification number: Y02P70/56

Abstract: 고체산화물 연료전지용 음극기판 제조방법이 개시된다. 개시된 고체산화물 연료전지용 음극기판 제조방법은, (a) 구성분말과 결합제로 이루어진 비수계 슬러리 조성에서 분말 응집체를 분리시키고 구성물질들이 균일하게 혼합된 슬러리를 준비하는 단계와; (b) 상기 슬러리를 결합제에 대한 용해도가 거의 없거나, 부분적인 용해가 가능한 비용매에 분무하여 분말과 결합제가 균일한 분포를 가지는 과립을 제조하는 단계와; (c) 건조된 상기 과립을 금속 몰드에 채우고, 가압하여 원하는 형상의 음극을 제조하는 단계와; (d) 성형된 상기 음극으로부터 결합제를 제거하고, 소결하는 단계;를 포함하는 것을 그 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 대면적 음극기판 제조가 가능하고, 기공의 연결도 및 기체투과도가 높으며, 높은 전기전도도를 구현할 수 있는 이점이 있다.

公开(公告)号：KR1020050045065A

公开(公告)日：2005-05-17

申请号：KR1020030079008

申请日：2003-11-10

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  현대자동차주식회사

Inventor： 고행진 ,  이해원 ,  이종호 ,  송휴섭 ,  김주선 ,  이동석 ,  허장원

IPC: H01M8/02

CPC classification number: Y02P70/56

Abstract: 고체산화물 연료전지용 음극기판 제조방법이 개시된다. 개시된 고체산화물 연료전지용 음극기판 제조방법은, (a) 구성분말과 결합제로 이루어진 비수계 슬러리 조성에서 분말 응집체를 분리시키고 구성물질들이 균일하게 혼합된 슬러리를 준비하는 단계와; (b) 상기 슬러리를 결합제에 대한 용해도가 거의 없거나, 부분적인 용해가 가능한 비용매에 분무하여 분말과 결합제가 균일한 분포를 가지는 과립을 제조하는 단계와; (c) 건조된 상기 과립을 금속 몰드에 채우고, 가압하여 원하는 형상의 음극을 제조하는 단계와; (d) 성형된 상기 음극으로부터 결합제를 제거하고, 소결하는 단계;를 포함하는 것을 그 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 대면적 음극기판 제조가 가능하고, 기공의 연결도 및 기체투과도가 높으며, 높은 전기전도도를 구현할 수 있는 이점이 있다.

公开(公告)号：KR100471652B1

公开(公告)日：2005-03-08

申请号：KR1020020023774

申请日：2002-04-30

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이해원 ,  김주선 ,  이종호 ,  송휴섭 ,  신현익

IPC: C04B35/573

CPC classification number: C04B35/63 ,  B82Y30/00 ,  C04B35/573 ,  C04B35/634 ,  C04B2235/3826 ,  C04B2235/422 ,  C04B2235/428 ,  C04B2235/48 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5454 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/77

Abstract: 본 발명은 규소분말과 결합제로서 열경화성 수지로 구성되는 소정 형태의 규소공급 시편을 준비하고, 탄화규소/탄소 충전체를 준비하고, 반응결합로 내에서 상기 충전체의 일면에 상기 규소공급 시편을 접촉시키고, 진공 또는 비활성 분위기하에서 규소의 용융온도로 열처리하여 규소공급시편 내의 용융규소를 충전체 내부로 침윤시키는 것을 포함하여 이루어지는 반응결합 탄화규소 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 반응결합 탄화규소의 형상, 크기, 두께에 관계없이 가장 효율적으로 용융 규소를 공급하면서도 용융 규소의 응집을 방지하고 용융 규소의 균일한 공급이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020040098938A

公开(公告)日：2004-11-26

申请号：KR1020030031269

申请日：2003-05-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이해원 ,  이종호 ,  김주선 ,  김태은 ,  임건자

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: High performance slurry for STI(shallow trench isolation)-CMP(chemical mechanical polishing) is provided to prevent a semiconductor pattern and equipment from being damaged by corrosion by controlling each polishing rate of a silica thin film and a silicon nitride thin film, by forming ceria slurry capable of achieving variable selectivity and by using the slurry in a neutral condition. CONSTITUTION: Distilled water is prepared. CeO2 particles having a nano size and 1-5 weight percent as compared with the distilled water are used as polishing agent. Slurry includes the distilled water and the CeO2 particles. Citric acid is used as a distribution stabilizer that transfers the isoelectric point of the slurry to an acid region to stabilize a distribution state in a neutral condition, having 2-3 weight percent as compared with the polishing agent.

Abstract translation: 目的：提供用于STI（浅沟槽隔离）-CMP（化学机械抛光）的高性能浆料，以通过控制二氧化硅薄膜和氮化硅薄膜的每种抛光速率来防止半导体图案和设备被腐蚀损坏， 通过形成能够实现可变选择性的二氧化铈浆料和通过在中性条件下使用该浆料。 构成：准备蒸馏水。 与蒸馏水相比，具有纳米尺寸和1-5重量％的CeO 2颗粒被用作抛光剂。 浆料包括蒸馏水和CeO2颗粒。 使用柠檬酸作为分散稳定剂，其将浆料的等电点转移到酸性区域以稳定在中性条件下的分布状态，其与抛光剂相比具有2-3重量％。