Abstract:
Es ist ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, der einen Halbleiterschichtenstapel (2) und eine Konversionsschicht (3) umfasst. Der Halbleiterschichtenstapel (2) weist eine aktive Schicht (2a) zur Strahlungserzeugung auf. Die Konversionsschicht (3) ist auf einer Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) angeordnet, wobei die Konversionsschicht (3) geeignet ist, zumindest einen Teil der von der aktiven Schicht (2a) emittierten Strahlung in Strahlung einer anderen Wellenlänge umzuwandeln. Die Strahlungsaustrittsseite (21) des Halbleiterschichtenstapels (2) weist eine erste Nanostrukturierung auf, wobei die Konversionsschicht (3) in dieser ersten Nanostrukturierung (4) angeordnet ist. Weiter ist ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterchips (10) angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben, mit - einem Halbleiterkörper (1), aufweisend einen n-leitenden Bereich (12) und einen p-leitenden Bereich (13), und - einem einzigen n-Kontaktelement (2), über das der n- leitende Bereich (12) durch den p-leitenden Bereich (13) hindurch elektrisch kontaktierbar ist.
Abstract:
Es wird eine Beleuchtungseinrichtung für eine Kamera angegeben. Die Beleuchtungseinrichtung enthält einen Licht emittierenden Halbleiterchip (1), der eine Mehrzahl von einzeln ansteuerbaren Emissionsbereichen (2A, 2B, 2B') enthält. Die Beleuchtungseinrichtung enthält weiter ein optisches Element (15), das dazu ausgebildet ist, von den Emissionsbereichen (2A, 2B, 2B') emittiertes Licht (210, 220) zu einem Strahlenbündel zu formen. Die Beleuchtungseinrichtung (10) ist derart ausgebildet, dass mittels der einzeln ansteuerbaren Emissionsbereiche (2A, 2B, 2B') unterschiedliche Strahlprofile des Strahlenbündels einstellbar sind. Weiterhin werden eine Kamera, ein Betriebsverfahren für die Beleuchtungseinrichtung und ein Betriebsverfahren für die Kamera angegeben.
Abstract:
Auf die lichtemittierende Oberfläche wird eine Konversionsschicht (5) aufgedampft. Die Konversionsschicht (5) kann ein aufdampfbares Matrixmaterial und ein aufdampfbares Konvertermaterial umfassen, die beide insbesondere niedermolekulare organische Verbindungen umfassen können. Eine Schichtstruktur (3), die die für Strahlungserzeugung vorgesehenen Schichten enthält, kann ebenfalls aus niedermolekularen organischen Verbindungen aufgebaut sein, so dass alle Verbindungen in derselben Aufdampfanlage aufgebracht werden können.
Abstract:
In at least one embodiment, the optoelectronic semiconductor device (1) comprises at least one active semiconductor fin (2) which is configured to emit radiation by electroluminescence, wherein the at least one active semiconductor fin (2) starts from a base plane (20), and seen in top view of the base plane (20), the at least one active semiconductor fin (2) runs along at least two different directions (E).
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterlaserchips (20), das Verfahren umfassend Aufwachsen einer Halbleiterschicht (21) mit einem aktiven Bereich (22), Bilden von einer Vielzahl von Laserchipbereichen (29), wobei jeder Laserchipbereich (29) einen Teil des aktiven Bereichs (22), einen Teil der Halbleiterschicht (21), einen ersten Spiegel (25) und einen zweiten Spiegel (28) aufweist, Aufbringen einer Opferschicht (27) auf die Laserchipbereiche (29), Formen mindestens eines Stützbereichs (30) pro Laserchipbereich (29) innerhalb der Opferschicht (27), Aufbringen eines Hilfsträgers (31) auf die Opferschicht (27), Vereinzeln der Laserchipbereiche (29) in Halbleiterlaserchips (20) auf dem Hilfsträger (31), wobei jeder Halbleiterlaserchip (20) einen ersten Bereich (23) der Halbleiterschicht (21) und einen zweiten Bereich (24) der Halbleiterschicht (21) aufweist, wobei der erste Bereich (23) und der zweite Bereich (24) parallel zur Haupterstreckungsebene der Halbleiterschicht (21) voneinander verschiedene Erstreckungen aufweisen und der erste Spiegel (25) und der zweite Spiegel (28) an den zweiten Bereich (24) angrenzen, Entfernen der Opferschicht (27), und gleichzeitiges Transferieren zumindest einiger der Halbleiterlaserchips (20) auf einen Träger (32). Außerdem wird ein Halbleiterlaserchip (20) angegeben.
Abstract:
Es wird eine Licht emittierende Vorrichtung (100) angegeben, die einen Gehäusekörper (2) mit einer Vertiefung (20), ein Licht emittierendes Halbleiterbauelement (1) in der Vertiefung des Gehäusekörpers, das dazu vorgesehen und eingerichtet ist, im Betrieb Licht (9) abzustrahlen, und ein adaptives optisches Element (2) im und/oder am Gehäusekörper, das dem Licht emittierenden Halbleiterbauelement in einem Strahlengang des Lichts nachgeordnet ist, aufweist. Weiterhin wird ein LIDAR-System mit einer Licht emittierenden Vorrichtung (100) angegeben.
Abstract:
Eine optoelektronische Vorrichtung (10) umfasst eine Anordnung (11) mit mehreren Emitterelementen (12), die dazu ausgebildet sind, nacheinander Licht unterschiedlicher Wellenlängenbereiche auszusenden, eine Anordnung (13) mit mehreren Time-of- Flight-Detektorelementen (14), die dazu ausgebildet sind, das von den Emitterelementen (12) ausgesandte und an einer Probe (17) reflektierte Licht zu detektieren und eine Messung zur Bestimmung des Abstands des Reflexionspunkts des Lichts an der Probe (17) von dem jeweiligen Time-of-Flight-Detektorelement (14) durchzuführen, und eine AusWerteeinheit (15), die dazu ausgebildet ist, für jeden von den Emitterelementen (12) ausgesandten Wellenlängenbereich anhand des vor den Time-of- Flight-Detektorelementen (14) detektierten Lichts und des Abstands des Reflexionspunkts des Lichts von dem jeweiligen Time-of-Flight-Detektorelement (14) ein dreidimensionales Bild der Probe (17) zu erzeugen und aus den Bildern die Verteilung eines Stoffs in der Probe (17) zu ermitteln.
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) weist eine Vielzahl von lichtemittierenden Vorrichtungen (15) auf, die jeweils einen ersten Resonatorspiegel (115), einen zweiten Re- sonatorspiegel (120), eine aktive Zone (110) sowie ein zweites Kontaktelement (130) umfassen. Die aktive Zone (110) ist zwi- schen dem ersten und dem zweiten Resonatorspiegel (115, 120) angeordnet und geeignet, elektromagnetische Strahlung (30) zu emittieren. Die zweiten Kontaktelemente (130) und ein erstes Kontaktelement (125), das mit einer ersten Halbleiterschicht (111) von einem erstem Leitfähigkeitstyp der lichtemittieren- den Vorrichtungen (15) elektrisch verbunden ist, sind von ei- ner ersten Hauptoberfläche (101) der lichtemittierenden Vor- richtungen kontaktierbar. Mindestens zwei der zweiten Kontak- telemente (130) sind jeweils einzeln ansteuerbar.
Abstract:
Multipixel LED-Bauteil (1) mit einer Vielzahl von Emissionsbereichen (100), einer Vielzahl von Konversionselementen (40), die dazu ausgebildet sind von den Emissionsbereichen (100) emittierte Strahlung in Strahlung eines anderen Wellenlängenbereichs zu konvertieren, einer Regelvorrichtung (20) umfassend eine Vielzahl von Stromquellen (200) und eine Übertragungseinheit (201) ausgebildet zur drahtlosen Datenübertragung, und zwei elektrischen Kontaktstrukturen (30), über die das LED-Bauteil (1) bestromt wird, wobei die Regelvorrichtung (20) mechanisch fest mit den Emissionsbereichen (100) verbunden ist, jedem Emissionsbereich (100) eineindeutig eine der Stromquellen (200) zugeordnet ist, die Übertragungseinheit (201) dazu vorgesehen ist Signale (S) zur Steuerung der Stromquellen (200) zu empfangen, die Stromquellen (200) entsprechend der Signale (S) ansteuerbar sind, jede Stromquelle (200) dazu ausgebildet ist den ihr zugeordneten Emissionsbereich (100) zu betreiben, und die Anzahl der Emissionsbereiche (100) größer ist als die Anzahl der Kontaktstrukturen (30).