用于制备光纤预制件的方法

    公开(公告)号:CN102627398A

    公开(公告)日:2012-08-08

    申请号:CN201210023520.5

    申请日:2012-02-02

    Abstract: 本发明提供了一种用于制备光纤预制件的方法,包括塌缩步骤,其中,使用在二氧化硅基玻璃管的纵向上连续移动的热源进行加热,从而使所述玻璃管塌缩以形成第一玻璃棒,所述第一玻璃棒待形成为光纤的芯部分或芯部分的一部分,并且所述玻璃管具有掺杂有碱金属元素的内表面,其中所述玻璃管的最高碱金属浓度为500原子ppm至20,000原子ppm,最高氯浓度为0原子ppm至1000原子ppm,并且最高氟浓度为0原子ppm至10,000原子ppm,并且在所述塌缩步骤中,所述玻璃管外表面的最高温度在2000℃至2250℃范围内,并且所述热源的移动速度在30mm/min至100mm/min范围内。

    制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法

    公开(公告)号:CN101798168A

    公开(公告)日:2010-08-11

    申请号:CN201010138731.4

    申请日:2010-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种制造用于受激准分子激光的合成石英玻璃的方法,该方法通过如下方式来制造上述合成石英玻璃:在靶上沉积氧化硅颗粒以形成多孔氧化硅母材,所述氧化硅颗粒通过使氧化硅原材料在真空烧结炉中的氢氧焰中气相水解或氧化分解得到;将所述多孔氧化硅母材玻璃化;并对玻璃化的材料进行热成型、退火处理及氢掺杂处理,其中多孔氧化硅母材的玻璃化包括:(a)在400℃以上、且低于900℃的温度范围,将真空压力保持在20.0Pa以下的步骤;(b)在900℃以上、且低于1100℃的温度范围,将真空压力保持在10.0Pa以下的步骤;及(c)在1100℃至透明玻璃化温度的温度范围,将真空压力保持在3.0Pa以下的步骤。

    低衰减光纤及其在MCVD中的制造方法

    公开(公告)号:CN1976878A

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200480043464.5

    申请日:2004-07-07

    Abstract: 本发明披露了一种低衰减光纤及其在MCVD中的制造方法,所述光纤为低衰减单模光纤,所述光纤具有光电导芯和包层,并且在MFD(模场直径)区内显示出非常低的OH浓度。所述光纤包括配置在其中心用于光电导的芯,和依次被覆于所述芯上的脱水包层和基体包层。脱水包层的折射率与基体包层的折射率基本相同。芯的折射率比脱水包层和基体包层的折射率大。脱水包层与基体包层相比具有相对较低的OH浓度。由芯和脱水包层构成的区域具有OH浓度小于0.8ppb的MFD区。

    石英玻璃的成形方法
    79.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1964923A

    公开(公告)日:2007-05-16

    申请号:CN200580018395.7

    申请日:2005-06-29

    CPC classification number: C03B11/16 C03B32/005 C03B2201/075 C03B2215/66

    Abstract: 本发明提供了一种石英玻璃的成形方法,包含以下步骤:第一,将OH基浓度为质量基准900~1300ppm的石英玻璃收容于具加压部的模具的中空部内;第二,在使石英玻璃于1530~1630℃范围内的保持温度状态下,以最大压力为0.2~0.8kg/cm2的方式利用加压部加压该石英玻璃而成形为既定形状;第三,使成形后的该石英玻璃冷却。

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