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公开(公告)号:CN110546732A
公开(公告)日:2019-12-06
申请号:CN201880026685.3
申请日:2018-05-10
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor: R·M·特朗普
IPC: H01J37/05
Abstract: 公开了一种电子显微镜系统和测量电子显微镜系统的像差的方法。光圈在所述电子显微镜的衍射平面处过滤电子束以穿过具有选定能量和动量的电子。在所述电子显微镜的像平面中的检测器处测量所述通过的电子的图像的位移。所述电子显微镜的像差系数由所述测量的位移和所述通过的电子的所述能量和动量中的至少一个确定。所述测量出的像差可用于改变所述电子显微镜或所述电子显微镜的光学元件的参数,从而控制所述电子显微镜的整体像差。
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公开(公告)号:CN110024075A
公开(公告)日:2019-07-16
申请号:CN201780072678.2
申请日:2017-11-27
Applicant: MI2工厂有限责任公司
Inventor: 弗洛里安·克里彭多夫 , 康斯坦丁·科萨托
IPC: H01J37/317 , H01J37/05
Abstract: 公开了一种方法,包括使用穿过注入过滤器(6)的离子束(2)辐照晶片(8),该离子束(2)在第一方向和第二方向上被静电偏转,以在晶片(8)上移动离子束(2),并且注入过滤器(6)在第二方向上移动以配合离子束(2)的运动。
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公开(公告)号:CN106804114B
公开(公告)日:2019-05-28
申请号:CN201580034881.1
申请日:2015-06-25
Applicant: 加坦公司
Inventor: 亚历山大·约瑟夫·古本斯 , 科林·特雷弗 , 雷伊·达德利·特韦斯顿 , 梅勒妮·巴费尔斯
IPC: H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/05 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/053 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/12 , H01J2237/24485 , H01J2237/2802
Abstract: 本发明公开了一种用于电子显微镜的电子能量损失光谱仪,其中,电隔离漂移管延伸穿过弯转磁铁,以及穿过将光谱聚焦且放大的后续光学器件。漂移管的前端、后端或前后两端设置有静电透镜或磁透镜,根据弯转磁铁漂移管的电压调节透镜,以保持恒定的净焦距,同时避免出现散焦。特定实施例中包含有能量选择狭缝,可彻底拦截分散在入射到检测器上的能量范围外的电子,从而消除向光谱散射回的多余电子造成的假象。
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公开(公告)号:CN109300756A
公开(公告)日:2019-02-01
申请号:CN201811136620.2
申请日:2018-09-28
Applicant: 德淮半导体有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/317
Abstract: 本公开涉及一种磁分析器单元。该磁分析器单元包括:接收端开口,该接收端开口被构造为接收来自离子源的离子流;输出端开口,该输出端开口被构造为输出该离子流中的具有特定质荷比的离子;离子通道,该离子通道连接该接收端开口与该输出端开口,并且该离子通道包括至少一个U形通道区段;其中,该至少一个U形通道区段被布置在磁场中,该磁场被配置为使得具有特定质荷比的该离子能够通过该至少一个U形通道区段。
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公开(公告)号:CN106663582B
公开(公告)日:2018-06-05
申请号:CN201580044598.7
申请日:2015-08-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/30 , H01J37/317 , H05H5/06
CPC classification number: H01J37/3007 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/0473 , H01J2237/0815 , H05H5/063
Abstract: 本发明揭示一种具有改进的性能的串列式加速器和离子植入机。所述串列式加速器包含多个输入电极、多个输出电极和安置在其间的高电压端子。高电压端子包含去除管。中性分子注射到去除管中,这从传入的负离子束移除电子。所得正离子朝向所述多个输出电极加速。为减小退出去除管的非所要正离子的量,偏置电极安置在去除管的入口和出口处。偏置电极以大于施加到端子的第一电压的第二电压偏置。偏置电极排斥缓慢移动的正离子,从而防止其退出去除管和污染工件。
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公开(公告)号:CN107533942A
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201680021667.7
申请日:2016-04-28
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor: 姜辛容
IPC: H01J37/05
CPC classification number: H01J37/05 , H01J2237/057 , H01J2237/12 , H01J2237/14
Abstract: 本发明揭示一种用于将具有有限能量扩展的电子束引导到样本的可选择性配置系统,其包含:电子源,其用以产生具有包含一或多个能量的能量扩展的电子束;孔隙,其具有轴上开口及偏轴开口;具有可选择性配置焦度的一或多个电子透镜的第一组合件,其经定位以从所述源收集所述束且将所述束引导到所述孔隙;一或多个可选择性配置电子透镜的第二组合件,其经定位以收集所述束;样本载物台;及电子检验子系统,其包含经定位以将所述束引导到一或多个样本上的电子光学器件。所述第一组合件包含偏轴电子透镜,所述偏轴电子透镜用于在偏轴位置处与所述束相互作用且当经配置成具有非零焦度时将空间分散引入到所述束,因此滤波所述能量扩展。
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公开(公告)号:CN107112181A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580070493.9
申请日:2015-12-28
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor: 爱德华·C·艾伊斯勒 , 伯·范德伯格
IPC: H01J37/20 , H01J37/12 , H01J37/05 , H01J37/147 , H01J37/317
Abstract: 本发明提出用于以低能量将离子注入工件内的系统及方法。提供配置成生成离子束的离子源,其中,质量解析磁体被配置成质量解析该离子束。离子束可以是带状射束或经扫描的点状离子束。定位于质量解析磁体下游的质量解析孔径过滤离子束中的不良粒种。组合静电透镜系统被定位于质量分析器的下游,其中,使离子束的路径偏转并且大体上滤除离子束中的污染物,同时使离子束减速并平行化。工件固持与平移系统进一步被定位于组合静电透镜系统的下游并被配置成选择性使工件在一个或多个方向上平移通过离子束,在其中将离子注入工件内。
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公开(公告)号:CN105470086B
公开(公告)日:2017-08-04
申请号:CN201510912897.X
申请日:2015-12-11
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/05 , H01J37/02
Abstract: 本发明公开了一种高能多元素离子注入机,包括离子源、质量分析器、射频加速系统和靶室,质量分析器将离子源产生的离子束筛选后传输给射频加速系统进行加速,经射频加速系统加速到高能量状态的离子束传输至靶室内完成离子束注入,靶室内设有靶台运动机构,靶台运动机构兼具水平方向和竖直方向的两个运动维度,在靶室内以二维扫描方式完成离子束注入。本发明具有结构简单紧凑、离子注入均匀性好、离子注入能量污染小的优点。
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公开(公告)号:CN106463322A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201580026256.2
申请日:2015-05-22
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一个实施例涉及一种双维恩过滤器单色器。第一维恩过滤器使电子束聚焦于第一平面中,同时使所述电子束在第二平面中平行。狭缝开口允许所述电子束的具有在能量范围内的能量的电子通过,同时阻挡所述电子束的具有在所述能量范围之外的能量的电子。第二维恩过滤器使所述电子束聚焦以变得在所述第一平面中平行,同时使所述电子束在所述第二平面中平行。还揭示其它实施例、方面及特征。
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公开(公告)号:CN103563042B
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201280025376.7
申请日:2012-05-24
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/02 , H01J49/06 , H01J37/05
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/023 , H01J37/05 , H01J49/30 , H01J2237/0455 , H01J2237/055 , H01J2237/057 , H01J2237/24514
Abstract: 提供了一种方法和装置,从离子束管线中减少离子注入组分的不期望同位素。本文公开的装置是一种质量分析可变出口孔,选择性地减小离子束所见的出口孔的尺寸。在一个实施例中,质量分析可变出口孔位于质量分析器内在分解孔上游的位置,并且被配置为有效地限制出口孔的尺寸以允许期望的注入同位素通过而阻止不期望的注入同位素经过。在一个具体实施例中,质量分析可变出口孔安装在射束导管中,所述射束导管安装在AMU磁体的磁极之间。机械驱动机构使能根据射束特性在控制单元的引导下以分级的方式将阻挡结构移入射束路径中。
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