Abstract:
PURPOSE: A resonator of a hybrid laser diode is provided to minimize the effect of a surface bonding by widening the width of the compound semiconductor waveguide of the resonator. CONSTITUTION: A substrate includes a semiconductor layer in which a waveguide for a hybrid(120h), a multiple mode waveguide(122), and a single mode waveguide(126) are serially connected. A compound semiconductor waveguide(210) is arranged on the waveguide for the hybrid of the semiconductor layer. A tapered coupling structure(210t), which is overlapped with a part of the multiple mode waveguide, is formed on one end of the compound semiconductor waveguide. A reflective unit(128) is arranged on one end of the single mode waveguide.
Abstract:
PURPOSE: A reflective semiconductor optical amplification device and an optical signal processing method using the same are provided to reduce the cost of manufacturing using a reflective semiconductor amplifier which uses one optical fiber. CONSTITUTION: An optical signal amplification are(102) supplies gain to a downlink optical signal applied from the outside. An optical signal modulation area(103) is connected with the optical signal amplification area and generates a modulated optical signal. The downlink optical signal is amplified through cross gain modulation by the modulated optical signal and outputted as an uplink optical signal. The optical signal amplification area includes a semiconductor amplifier. The optical signal demodulation area includes a laser diode. The optical signal amplification and demodulation areas respectively have a first electrode and a second electrode. The first and the second electrodes receive independent current.
Abstract:
PURPOSE: A semiconductor laser including a waveguide lens is provide to input a single mode beam generated in a narrow waveguide to a wide waveguide in parallel by forming a waveguide lens with a parabola or elliptical shape. CONSTITUTION: At least one first waveguide(20) has a first width. At least one second waveguide(30) has a second width wider than the first width. At least one waveguide lens(50) has the width which is widened from the first waveguide to the second waveguide. The waveguide lens connects the first and second waveguides. At least side wall of the waveguide lens connecting the first and second waveguides has a curved shape. At least one side wall of the waveguide lens has the radius of curvature increasing from the first waveguide to the second waveguide consecutively.
Abstract:
본 발명은 이중 결합 링 공진기를 이용한 파장 가변 레이저 다이오드에 관한 것으로, 서로 다른 반경을 갖는 두 개의 링 공진기를 서로 연결하여 새로운 이중 결합 링 공진기 구조를 형성함으로써, 두 개의 링 공진기가 동시에 공진하는 공진 파장에서만 안정적인 레이저 발진이 이루어지며, 두 개의 링 공진기의 유효 굴절률을 적절히 상대적으로 다르게 조절하여 레이저의 발진 파장이 가변하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 따르면, 다중 모드 결합기에 의해 수동도파로와 링 공진기의 광결합 특성의 재현성을 확보할 수 있으므로, 파장 가변 레이저 다이오드의 제조 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 출력단에 집적된 광증폭기에 의해 발진 파장의 특성에 영향을 미치지 않으면서 출력광의 세기를 증폭시켜 출력할 수 있다. 레이저 다이오드, 광대역 파장 가변 레이저, 광 도파로, 반사기, 링 공진기, 공진기, 광 집적회로
Abstract:
본 발명에 따른 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자는, 2개의 격자 주기를 갖는 이중 회절격자를 이용하여 임의의 파장에서 리트로(Littrow) 회절 조건을 만족시키는 동시에 다른 파장에서 리트만(Littman-Metcalf) 회절 조건을 만족시킴으로써, 서로 다른 두 파장에서 동시에 발진이 이루어지도록 하여 두 발진 파장의 비팅(beating)에 의해 안정적으로 테라헤르츠파를 발생시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 주파수 가변 테라헤르츠파 광원 소자는 수 THz 까지 주파수 가변이 용이하고 소형으로 제작이 가능하다. 테라헤르츠파, 파장 가변 광원, 외부 공진기, Littman-Metcalf, Littrow, 회절격자, 가변 편향기
Abstract:
실리콘층 및 화합물 반도체층을 각각 슬랩 도파로 및 채널 도파로로 이용하는 하이브리드 레이저 다이오드가 제공된다. 본 발명에 따른 하이브리드 레이저 다이오드는 도파 모드의 손실, 누설 전류 및 직렬 저항을 줄일 수 있으며, 개선된 열 방출 특성을 갖는다. 특히, 본 발명에 따르면, 활성영역 및 도파로가 분명하게 정의될 수 있다.
Abstract:
본 발명은 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드의 DBR 구조물 및 그 제조방법과 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드에 관한 것으로, 본 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드의 DBR 구조물은, InP 기판과, 상기 InP기판 상에 적층되며, InAlGaAs층 및 상기 InAlGaAs층보다 낮은 굴절률을 갖는 InAlAs층으로 이루어진 복수의 InAlGaAs/InAlAs DBR층과, 상기 복수의 InAlGaAs/InAlAs DBR층 사이에 주기적으로 형성된 상기 InAlGaAs층 및 InP층으로 이루어진 InAlGaAs/InP DBR층을 포함한다. 이에 따라, DBR 구조물의 표면 상태를 개선하여 결함이 없는 양질의 박막을 유지하고, 반사율을 향상시킬 수 있다. 또한, 표면 상태가 개선된 양질의 DBR 구조물을 사용하여 DBR의 반사율을 향상시킴으로써, 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드 자체의 특성을 향상시킬 수 있다. 분산 브래그 반사경(DBR: distributed Bragg reflector), 장파장 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드
Abstract:
본 발명은 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물 및 그 제조방법과 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드에 관한 것이다. 본 수직 공진 표면 발광 레이저 다이오드의 DBR 구조물은 InP 기판 상부에 형성되는 제 1 굴절률을 갖는 InAlGaAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제1 InAlAs층; 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 제1 InAlAs층 상에 형성되는 InP층; 및 상기 제 1 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지며, 상기 InAlGaAs층 상에 형성되는 제2 InAlAs층을 포함한다. 이에 따라, InAlGaAs층과 InP층의 접합부분에서 발생하는 타입-Ⅱ 밴드 라인업에 의해 발생하는 광학적 손실을 줄이므로, 소자의 특성을 향상시킬 수 있다. DBR(distributed Bragg reflector), InAlGaAs, InP, InAlAs, 수직 공진 표면 발광 레이저(VCSEL) 다이오드
Abstract:
A buried ridge waveguide laser diode is provided to improve a temperature characteristic of the laser diode by arranging a p-n-p current blocking layer outside the ridge. A buried ridge waveguide laser diode includes a clad layer(108), a ridge region, and a p-n-p current blocking layer. The clad layer(108) is arranged on an active layer. The ridge region is vertically extended to a part of the clad layer(108) in the same width, and has a selective etching layer(110) and a first conductive type compound layer. The p-n-p current blocking layer has the same thickness as a depth of the ridge region on the clad layer(108) of an outer side of the ridge region, and has a second conductive type second compound layer(112) which is opposite to the first conductive type. The current blocking layer has a first compound layer(114) on the second compound. The first compound layer(114) of the ridge region is extended.
Abstract:
A DBR(Distributed Bragg Reflector) in a vertical cavity surface emitting laser diode and a manufacturing method thereof and a vertical cavity surface emitting laser diode are provided to improve a surface state of the DBR by reducing a laminating thickness of an InAlAs layer, thereby improving a reflection factor. A DBR in a vertical cavity surface emitting laser diode(300) includes an InP substrate(310). A plurality of InAlGaAs/InAlAs DBR layers are laminated on the InP substrate(310) and composed of an InAlGaAs layer(321,341) and an InAlAs layer(322,342) having a lower reflection factor than the InAlGaAs layer(321,341). An InAlGaAs/InP DBR layer composed of the InAlGaAs layer(321,341) and an InP layer(343) is inserted whenever a predetermined number of InAlGaAs/InAlAs DBR layers are laminated.