中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

122 records (took 0.021 seconds)

    ION TRAPPING
    82.
    发明授权
    ION TRAPPING 有权
    方法ION夹杂

    公开(公告)号：EP1402562B1

    公开(公告)日：2009-02-11

    申请号：EP02738591.3

    申请日：2002-06-17

    Applicant: YEDA RESEARCH AND DEVELOPMENT CO., LTD.

    Inventor： ZAJFMAN, Daniel ,  HEBER, Oded ,  PEDERSEN, Henrik, B. ,  RUDICH, Yinon ,  SAGI, Irit ,  RAPPAPORT, Michael

    IPC: H01J49/40

    CPC classification number: H01J3/40 ,  H01J49/027 ,  H01J49/406 ,  H01J49/4245

    Abstract: A method for trapping of a plurality of charged particles in a charged particle trap. The trap includes first and second electrode mirrors (2, 3) having a common optical axis (4), the mirrors being arranged in alignment at two extremities thereof. The mirrors are capable, when voltage is applied thereto, of creating respective electric fields defined by key field parameters. The electric fields are configured to reflect charged particles causing their oscillation between the mirrors. The method includes introducing into the trap, along the optical axis, the plurality of charged particles as a beam (10) having pre-determined key beam parameters. The method further includes choosing the key field parameters for at least one of the mirrors such as to induce bunching among charged particles in the beam.

    ELECTROSTATIC TRAP FOR PARTICLES ENTRAINED IN AN ION BEAM
    83.
    发明授权
    ELECTROSTATIC TRAP FOR PARTICLES ENTRAINED IN AN ION BEAM 有权
    ELEKTROSTATISCHE FANGVORRICHTUNGFÜR，IN EINEM IONENSTRAHLMITGEFÜHRTENTEILCHEN

    公开(公告)号：EP1314181B1

    公开(公告)日：2008-12-10

    申请号：EP01960907.2

    申请日：2001-08-21

    Applicant: Axcelis Technologies, Inc.

    Inventor： HARRINGTON, Eric, Ryan ,  BENVENISTE, Victor, Maurice ,  GRAF, Michael, Anthony ,  RATHMELL, Robert, Day

    IPC: H01J37/317 ,  H01J3/40

    CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J3/40 ,  H01J37/026 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

    Abstract: A system (10) for inhibiting the transport of contaminant particles (60) with an ion beam (44) includes a pair of electrodes (14, 16) that provide opposite electric fields (26, 28, 30, 32) through which the ion beam (44) travels. A particle (60) entrained in the ion beam (44) is charged to a polarity matching the polarity of ion beam (44) when traveling through a first of the electric fields (26, 28). The downstream electrode (16) provides another electric field (30, 32) for repelling the positively charged particle (60) away from the direction of beam travel.

    Abstract translation: 用于抑制用离子束输送污染物颗粒的系统包括一对电极，其提供相反的电场，离子束通过该电场传播。 夹带在离子束中的颗粒在穿过第一电场时被充电到与离子束的极性相匹配的极性。 下游电极提供另一个电场，用于排斥带正电的粒子远离光束移动的方向。

    조절 가능한 루버드된 플라즈마 일렉트론 플루드 외피
    89.
    发明公开
    조절 가능한 루버드된 플라즈마 일렉트론 플루드 외피 有权
    可调节的等离子电子水附件

    公开(公告)号：KR1020120049883A

    公开(公告)日：2012-05-17

    申请号：KR1020127004035

    申请日：2010-07-15

    Applicant: 액셀리스 테크놀러지스, 인크.

    Inventor： 콜빈,닐

    IPC: H01J37/317 ,  H01J3/40 ,  H01J37/02 ,  H01J37/09

    CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J3/40 ,  H01J37/026 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/31705

    Abstract: 본 발명은 이온 주입 시스템에 입자성 오염을 감소시키기 위한 장치를 제공하는 것이다. 상기 장치는 입구, 출구, 복수의 루버들을 가지는 최소한 하나의 루버드된 면을 구비하는 외피를 가진다. 이온 주입 시스템의 빔 라인은 입구 및 출구를 지나서 통과하고 최소한 하나의 루버드된 면의 복수의 루버들은 빔 라인을 따라 이동하는 이온 빔의 에지를 기계적으로 투과하도록 구성된다. 외피는 두개의 루버드된 면, 루버드된 상부를 가질 수 있으며, 빔 라인에 수직 하게 측정하였을 때 외피의 입구 및 출구 각각의 폭은 일반적으로 두개의 루버드된 면들의 상호간의 위치에 의해 결정된다. 하나 이상의 루버드된 면은 조절가능하게 장착될 수 있으며 외피의 입구 및 출구 중 하나 이상의 폭은 제어 가능하다.

    Abstract translation: 提供了用于减少离子注入系统中的颗粒污染的装置。 该装置具有外壳，其具有入口，出口和至少一个百叶窗，其中限定有多个百叶窗。 离子注入系统的束线通过入口和出口，其中至少一个百叶窗侧的多个百叶窗被配置为机械地过滤沿着束线行进的离子束的边缘。 外壳可以具有两个百叶窗和百叶窗顶部，其中当垂直于束线测量时，外壳的入口和出口的相应宽度通常由两个百叶窗相对于彼此的位置来限定。 一个或多个百叶窗侧面可以可调节地安装，其中外壳的入口和出口中的一个或多个的宽度是可控的。

    전자 총, 음극선관, 및 화상 디스플레이 디바이스
    90.
    发明公开
    전자 총, 음극선관, 및 화상 디스플레이 디바이스 无效
    电子枪，阴极射线管和图像显示装置

    公开(公告)号：KR1020030029794A

    公开(公告)日：2003-04-16

    申请号：KR1020037001242

    申请日：2002-06-03

    Applicant: 코닌클리케 필립스 엔.브이.

    Inventor： 반데르바르트,니예스,쎄. ,  반데르포엘,빌리브로르두스,아.,예이.,아. ,  반호르콤,헤르아르두스,헤.,빼.

    IPC: H01J29/48

    CPC classification number: H01J3/021 ,  H01J3/40 ,  H01J29/481 ,  H01J29/84

    Abstract: 본 발명은 음극선관에서 이용하기 위한 전자 총(100)에 관한 것이다. 전자 총(100)은, 전자 소스(10), 2 차 전자의 방출을 위해 전기적 절연체로 적어도 부분적으로 코팅된 벽(28)을 가진 송신 공동(transmission cavity)을 구비한 바디(body)(20), 제 1 전계를 공동의 입구(26)와 출구 사이에 인가하기 위한 전극(30)을 가진다. 전자 총은, 전자와 동일한 경로를 따르는 반대 방향으로, 공동(25)으로부터 방출된 전자의 충돌에 의해 형성되는, 양이온의 진행을 방해하며 모듈(20)과 충돌하게 하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 충돌은 공동 출구(27) 또는 벽(28) 상의 전기 절연체에 손상을 입힐 수 있다. 이는 공동(25)으로부터 방출되는 전자 빔(101)의 전류 밀도가 떨어질 것이므로 바람직하지 못하다. 이러한 효과는 본 발명에 따르는 편향 수단의 적용을 통해서 예방된다.

Patent Agency Ranking