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公开(公告)号：KR101327357B1
公开(公告)日：2013-11-11
申请号：KR1020120037868
申请日：2012-04-12
Applicant: (주)펨트론
Abstract: 본 발명은 진동 감쇄 구조를 가진 전자빔 조사장치에 관한 것이며, 상세하게는 챔버로 전달되는 진동을 감쇄시킬 수 있는 진동 감쇄 구조를 가진 전자빔 조사장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 진동 감쇄 구조를 가진 전자빔 조사장치는, 기초프레임에 설치된 챔버; 제 2 진동흡수부재가 마련된 진공배관이 구비되고, 상기 진공배관을 통해 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부로 진공압력을 제공하는 진공발생부; 상기 챔버와 이격된 위치에서 상기 기초프레임에 설치된 한 쌍의 지지바와, 상기 한 쌍의 지지바를 덮도록 상기 한 쌍의 지지바에 결합되어 상기 진공발생부를 지지하는 펌프지지플레이트가 구비된 펌프지지부; 및 상기 펌프지지부와 이격된 위치에서 상기 기초프레임과 상기 챔버 사이에 설치되어, 상기 진공발생부에서 상기 기초프레임으로 전달된 진동을 흡수하는 복수의 제 1 진동흡수부재가 구비된 진동흡수부를 포함하고, 상기 진공발생부의 작동시 상기 진공발생부에서 발생된 진동은 상기 진공발생부에서 상기 펌프지지플레이트, 상기 한 쌍의 지지바와 상기 기초프레임으로 순차적으로 전달되어 상기 복수의 제 1 진동흡수부재에 의해 1차적으로 진동감쇄된 상태로 상기 챔버의 하부로 전달되고, 상기 진공배관을 통해 상기 챔버로 전달되는 진동은 상기 제 2 진동흡수부재에 의해 2차적으로 진동감쇄된 상태로 상기 챔버로 전달되는 것이 바람직하다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130115516A
公开(公告)日：2013-10-22
申请号：KR1020120037870
申请日：2012-04-12
Applicant: (주)펨트론
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/02 , F16K31/1225 , F16K51/02 , G01N23/2251
Abstract: PURPOSE: An electron beam irradiator having a vacuum valve and a method for controlling the vacuum valve are provided to simplify the structure of a vacuum generation part by providing a first and a second vacuum pressure to a chamber through a single valve structure. CONSTITUTION: A chamber (120) is installed on a base frame (110). A vacuum generation part (130) is connected to the chamber. The vacuum generation part provides a first vacuum pressure or a second vacuum pressure to the chamber. A vacuum valve part (140) is connected between the chamber and the vacuum generation part. The vacuum valve part selectively provides the first vacuum pressure or the second vacuum pressure to the chamber.
Abstract translation: 目的：提供具有真空阀的电子束照射器和用于控制真空阀的方法，以通过单个阀结构向腔室提供第一和第二真空压力来简化真空产生部件的结构。 构成：室（120）安装在基架（110）上。 真空产生部分（130）连接到腔室。 真空产生部分向腔室提供第一真空压力或第二真空压力。 真空阀部分（140）连接在腔室和真空产生部件之间。 真空阀部件选择性地向腔室提供第一真空压力或第二真空压力。
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公开(公告)号：KR1020130115515A
公开(公告)日：2013-10-22
申请号：KR1020120037868
申请日：2012-04-12
Applicant: (주)펨트론
Abstract: PURPOSE: An electronic beam emitting device having a vibration reduction structure is provided to completely block a vibration by secondarily reducing the vibration delivered to a chamber by a bellows. CONSTITUTION: A chamber is installed in a basic frame. A vacuum generating unit (150) provides vacuum pressure into the chamber. A pump support unit (140) supports the vacuum generating unit. A vibration absorbing unit is installed in the basic frame. The vibration absorbing unit absorbs a vibration of the vacuum generating unit.
Abstract translation: 目的：提供一种具有减振结构的电子束发射装置，以通过二次减小通过波纹管传递到腔室的振动来完全阻挡振动。 构成：一个房间安装在一个基本框架中。 真空发生单元（150）向腔室提供真空压力。 泵支撑单元（140）支撑真空发生单元。 振动吸收单元安装在基本框架中。 振动吸收单元吸收真空发生单元的振动。
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公开(公告)号：KR101156124B1
公开(公告)日：2012-07-03
申请号：KR1020110034045
申请日：2011-04-13
Applicant: (주)펨트론
Abstract: PURPOSE: An electron beam emission apparatus is provided to maintain the vacuum in a vacuum chamber by forming a high pressure passing hole on the top plate side of the vacuum chamber. CONSTITUTION: A feed-through main body(41) comprises a plurality of joint pin balls penetrating the top and bottom thereof. An extended flange unit(42) is extended from an external diameter of the feed-through main body in the outer radial direction. A main body passing hole(21) is combined with the top plate side of a vacuum chamber. A first sealing member has a flange settling unit on which the extended flange unit is settled. A top joint pin(81) is inserted into each joint pin ball from the upper side of a feed-through member(40).
Abstract translation: 目的：提供电子束发射装置，通过在真空室的顶板侧形成高压通孔，将真空保持在真空室中。 构成：馈通主体（41）包括穿过其顶部和底部的多个接头销球。 延伸的凸缘单元（42）在穿过主体的外径沿外径方向延伸。 主体通孔（21）与真空室的顶板侧组合。 第一密封构件具有凸缘沉降单元，延伸的凸缘单元在该法兰沉降单元上沉降。 顶部接头销（81）从馈通构件（40）的上侧插入每个接头销球中。
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公开(公告)号：KR1020130115514A
公开(公告)日：2013-10-22
申请号：KR1020120037867
申请日：2012-04-12
Applicant: (주)펨트론
Abstract: PURPOSE: An electronic beam emitting device performing the fine position adjustment of a sample is provided to efficiently use an inner space by connecting a shaft manipulation member and a shaft in series with each other. CONSTITUTION: A chamber housing (121) includes an electronic beam emitting unit (130). A chamber housing opening and closing unit (125) opens and closes the chamber housing. A sample placing unit includes a placing space for a sample. A sample position adjusting unit is installed in the chamber housing opening and closing unit. The sample position adjusting unit adjusts a position of the sample placing unit.
Abstract translation: 目的：提供一种执行样品精细位置调整的电子束发射装置，通过将轴操作构件和轴串联连接来有效地使用内部空间。 构成：腔室（121）包括电子束发射单元（130）。 腔室开启和关闭单元（125）打开和关闭腔室壳体。 样品放置单元包括用于样品的放置空间。 样品位置调节单元安装在腔室开启和关闭单元中。 样品位置调整单元调节样品放置单元的位置。
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公开(公告)号：KR101361616B1
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：KR1020120037870
申请日：2012-04-12
Applicant: (주)펨트론
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은 진공밸브부를 가진 전자빔 조사장치 및 진공밸브부의 제어방법에 관한 것이며, 상세하게는 단일의 밸브 구조를 통해 챔버 내부 압력이 진공압력이 되도록 챔버 내부로 제 1 또는 제 2 진공압력을 제공하는 진공밸브부를 가진 전자빔 조사장치 및 진공밸브부의 제어방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 진공밸브부를 가진 전자빔 조사장치는 기초프레임에 설치된 챔버; 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버로 제 1 진공압력을 제공하는 제 1 펌프유닛과, 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버로 제 2 진공압력을 제공하는 제 2 펌프유닛이 구비된 진공발생부; 및 상기 챔버와 상기 진공발생부 사이에 연결되며, 상기 진공발생부의 제 1 진공압력 또는 제 2 진공압력을 선택적으로 상기 챔버로 제공하는 진공밸브부를 포함하고, 상기 진공밸브부는 상부가 폐쇄된 형상을 가지며 하부가 상기 제 2 펌프유닛에 연결된 구조를 가지며, 상기 제 1 펌프유닛과 연결되는 제 1 유입구와, 상기 제 1 유입구의 상부에 위치되고 상기 2 펌프유닛과 연결되는 제 2 유입구와, 상기 제 1 유입구의 하부에 위치되고 상기 챔버와 연결되는 하우징배출구가 구비된 실린더하우징; 및 상기 실린더하우징의 내부에 설치되어, 상기 실린더하우징 내부를 왕복운동하는 피스톤유닛을 구비하고, 상기 제 1 유입구, 상기 제 2 유입구, 또는 상기 하우징배출구는 상기 피스톤유닛에 의해 개폐되는 것이 바람직하다.
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