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公开(公告)号：CN112117176A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201910538315.4
申请日：2019-06-20
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 一种等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统，其中，等离子体处理设备包括：基片处理腔；气体供应单元，用于向基片处理腔内输送反应气体；位于基片处理腔内的基座，基座用于承载待处理基片；位于基片处理腔上的第一壳体，第一壳体具有气体通道，气体通道用于释放第一壳体内的第一气体；位于第一壳体内的电感线圈，电感线圈用于使反应气体转化为等离子体；位于基片处理腔下方的第二壳体，气体通道的端口朝向第二壳体；位于第二壳体内的抽真空装置，抽真空装置用于使基片处理腔内为真空环境；位于第二壳体下方的抽气装置，抽气装置用于将第一气体从第二壳体周围抽走。所述等离子体处理设备的性能较好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113990730A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202010731384.X
申请日：2020-07-27
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法；气流调节盖包含顶盖、环形的底盘、两者之间至少一层环形的板体；顶盖与板体之间的空隙、相邻板体之间的空隙、板体与底盘之间的空隙，分别形成环形侧向通道，使抽气通道内的气体，得以由位置较低的边缘区域流向位置较高的内侧区域，再流向底盘中间的开口，之后进入气流调节阀的开口并被排气泵抽走。至少各板体的底面为向下向外倾斜的斜面，能对下游返回的冲击气流及其携带的杂质颗粒等进行阻挡。在通过改变气流调节阀的阀板开度，对反应腔进行压力转换的过程中，本发明可以实现良好的压力控制，减少压力波动，使气流调节更稳定均匀，有效阻止杂质颗粒等随冲击气流反弹。
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公开(公告)号：CN113990730B
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202010731384.X
申请日：2020-07-27
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置及其中的气流调节盖和气流调节方法；气流调节盖包含顶盖、环形的底盘、两者之间至少一层环形的板体；顶盖与板体之间的空隙、相邻板体之间的空隙、板体与底盘之间的空隙，分别形成环形侧向通道，使抽气通道内的气体，得以由位置较低的边缘区域流向位置较高的内侧区域，再流向底盘中间的开口，之后进入气流调节阀的开口并被排气泵抽走。至少各板体的底面为向下向外倾斜的斜面，能对下游返回的冲击气流及其携带的杂质颗粒等进行阻挡。在通过改变气流调节阀的阀板开度，对反应腔进行压力转换的过程中，本发明可以实现良好的压力控制，减少压力波动，使气流调节更稳定均匀，有效阻止杂质颗粒等随冲击气流反弹。
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公开(公告)号：CN112117176B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN201910538315.4
申请日：2019-06-20
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 一种等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统，其中，等离子体处理设备包括：基片处理腔；气体供应单元，用于向基片处理腔内输送反应气体；位于基片处理腔内的基座，基座用于承载待处理基片；位于基片处理腔上的第一壳体，第一壳体具有气体通道，气体通道用于释放第一壳体内的第一气体；位于第一壳体内的电感线圈，电感线圈用于使反应气体转化为等离子体；位于基片处理腔下方的第二壳体，气体通道的端口朝向第二壳体；位于第二壳体内的抽真空装置，抽真空装置用于使基片处理腔内为真空环境；位于第二壳体下方的抽气装置，抽气装置用于将第一气体从第二壳体周围抽走。所述等离子体处理设备的性能较好。
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公开(公告)号：CN112916506B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201911241881.5
申请日：2019-12-06
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种涡轮泵清洗装置及清洗方法、真空处理装置，所述涡轮泵清洗装置包括隔绝装置、通气管路和吸尘装置，通过对涡轮泵设置外部清洗设备，与涡轮泵进行连接，采用隔绝装置将涡轮泵与其所在工艺腔体之间进行气体隔绝，使得涡轮泵内形成封闭腔体，然后通过通气管路为封闭腔体通入气体，气体在涡轮泵内流动，对涡轮泵内部实施清扫，然后通过吸尘装置将清扫后的气体吸走，完成对涡轮泵的清洗。由于所述涡轮泵清洗装置使用时，仅需要与涡轮泵进行连接即可，从而能够在一定时间段内对涡轮泵进行清洗，无需通过拆卸涡轮泵实施清洗，而当清洗一段时间后，再采用拆卸方式进行涡轮泵的清洗，从而避免了多次拆卸，造成的人力、成本的浪费。
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公开(公告)号：CN112916506A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201911241881.5
申请日：2019-12-06
Applicant: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种涡轮泵清洗装置及清洗方法、真空处理装置，所述涡轮泵清洗装置包括隔绝装置、通气管路和吸尘装置，通过对涡轮泵设置外部清洗设备，与涡轮泵进行连接，采用隔绝装置将涡轮泵与其所在工艺腔体之间进行气体隔绝，使得涡轮泵内形成封闭腔体，然后通过通气管路为封闭腔体通入气体，气体在涡轮泵内流动，对涡轮泵内部实施清扫，然后通过吸尘装置将清扫后的气体吸走，完成对涡轮泵的清洗。由于所述涡轮泵清洗装置使用时，仅需要与涡轮泵进行连接即可，从而能够在一定时间段内对涡轮泵进行清洗，无需通过拆卸涡轮泵实施清洗，而当清洗一段时间后，再采用拆卸方式进行涡轮泵的清洗，从而避免了多次拆卸，造成的人力、成本的浪费。
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