清洗设备和清洗系统
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219052378U

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202223393535.9

    申请日:2022-12-17

    Abstract: 本实用新型涉及一种清洗设备和清洗系统。该清洗设备包括壳体、清洗座、清洗组件和驱动组件,清洗座可旋转设于壳体,清洗座用于放置具有容槽的工件。清洗组件设于壳体,且位于清洗座的上方,清洗组件用于供给清洗液。驱动组件设于壳体,且连接清洗座,驱动组件用于驱动清洗座摆动,而晃动工件的容槽内的清洗液。该清洗设备通过设置驱动组件,而驱动清洗座相对于壳体摆动,以晃动工件的容槽内的清洗液,更好地溶解了容槽内的污物或者残留物,而提高了工件的清洗效果,因此,该清洗设备实现了坩埚的自动清洗,无需人工操作,省时省力,保证了清洗质量,且清洗方式较为轻柔,不伤坩埚内壁。

    一种熔料炉
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219141457U

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202223148343.1

    申请日:2022-11-25

    Abstract: 本实用新型涉及熔炼设备技术领域,提供一种熔料炉,所述熔料炉包括熔料炉本体、坩埚、吊杆、压力传感器、报警装置,所述吊杆设置在所述熔料炉本体上方,以用于穿入所述熔料炉本体内部并悬吊所述坩埚;所述压力传感器设置在所述吊杆上,以用于实时监测所述坩埚内的熔料的重量;所述报警装置与所述压力传感器电连接,以用于对熔液泄漏做出示警动作。本实用新型提供的熔料炉通过压力传感器的设置,能及时检测出是否发生熔液泄漏,实现对熔料炉的实时监控,避免熔料炉发生熔液泄漏现象而造成经济损失和安全事故。其结构简单,安装、使用方便,具有良好的应用前景。

    一种晶体原料预处理装置

    公开(公告)号:CN218893767U

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202223358155.1

    申请日:2022-12-14

    Abstract: 本实用新型公开了一种晶体原料预处理装置,包括:箱体、干燥管、旋转座和微波发生器,箱体内设置旋转座,干燥管通过夹持件固定在旋转座上随旋转座相对于箱体旋转,干燥管的顶部设置入料口,将晶体原料从入料口装入干燥管后,将入料口通过旋转接头与真空管道连接,将干燥管的内部腔体抽真空状态,箱体侧壁上设置的微波发生器产生微波,对干燥管内的晶体原料辐射加热,干燥管随旋转座旋转运动的过程中,均匀受到微波辐射,干燥更加均匀,此外,通过真空管道与干燥管连通,对干燥管的内腔进行抽真空处理,缩小抽真空的范围,降低能量的损耗,保证干燥充分性。

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