半导体装置的制造方法及半导体装置

    公开(公告)号:CN119032415A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202380034012.3

    申请日:2023-02-22

    Abstract: 一种半导体装置的制造方法,其包括:准备具有第1支撑基板、第1绝缘膜、设置于第1绝缘膜的第1凹部内的第1电极的第1基板的工序;准备具有第2支撑基板、第2绝缘膜、设置于第2绝缘膜的第2凹部内的第2电极的第2基板的工序;贴合第1基板的第1绝缘膜与第2基板的第2绝缘膜的工序;及接合第1基板的第1电极与第2基板的第2电极的的工序。第1绝缘膜包含有机绝缘膜。第1电极包含:第1电极主体,设置于第1凹部内;第1阻挡金属,设置于第1凹部的内面及底面中的至少一者且覆盖第1电极主体的一部分;及第2阻挡金属,在第1凹部的开口侧覆盖第1电极主体的表面。第1绝缘膜与第1阻挡金属的黏合强度为30MPa以上。

    半导体封装件及半导体装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118414698A

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202280083649.7

    申请日:2022-12-26

    Abstract: 一种半导体封装件,其具有:有机基板,其具有电路;半导体芯片,其搭载于所述有机基板的一个面的一部分,并与所述电路电连接;以及金属板,其粘接于所述有机基板的一个面中的、未搭载所述半导体芯片的区域的至少一部分,且未与所述电路电连接,构成所述金属板的金属的30~260℃的温度下的平均热膨胀率为3~15ppm/℃。

    半导体装置的制造方法及扩展带

    公开(公告)号:CN110637355B

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN201880033282.1

    申请日:2018-05-18

    Abstract: 本发明提供一种扩展带(1),其为在半导体装置的制造方法中使用的扩展带(1),所述半导体装置的制造方法具备带扩展工序,该带扩展工序中,通过对扩展带(1)一边加热一边进行拉伸,从而将固定在扩展带(1)上的、被制成单片的半导体芯片(2)的间隔从100μm以下扩大至300μm以上,其中,所述扩展带在所述带扩展工序的加热温度下的拉伸应力为10MPa以下,并且室温下的拉伸应力比所述加热温度下的拉伸应力高5MPa以上。

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