Abstract:
본 발명은 염료감응태양전지용 고분자전해질 및 이를 이용한 염료감응태양전지의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 종래의 액상전해질을 사용하는 염료감응태양전지의 최대 단점인 누액을 원천적으로 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 종래의 고분자전해질과 비교해 높은 광전환효율을 나타내고, 대면적의 염료감응태양전지나 플렉시블(flexible) 염료감응태양전지의 제조공정에 적용할 수가 있는 등의 우수한 염료감응태양전지용 고분자전해질 및 이를 이용한 염료감응태양전지의 제조방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 염료감응태양전지용 고분자전해질은 열경화형 에폭시수지, 이미다졸계 경화촉진제 및 금속염을 포함하는 것을 특징으로 하고, 염료감응태양전지용 고분자전해질을 이용한 염료감응태양전지의 제조방법은 상기 염료감응태양전지용 고분자전해질을 사용하되, 상기 염료감응태양전지용 고분자전해질을 작동전극과 상대전극간의 접착물로 이용하고 최종적인 접합의 형태가 고체상을 유지하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 전자부품 제조용 점착테이프에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 점착제 층이 상온에서 점착력을 가지지 않으나 가열 라미네이션 공정 중에만 점착력이 발현되어 리드프레임에 라미네이션을 가능하게 할 수 있고 점착제 층의 추가적인 광경화로 인한 부분적 상호침투망상구조를 형성하여 반도체 장치의 제조 공정 중에 점착 테이프가 노출되는 열이력에 대하여 향상된 내열성을 가지며 반도체 장치의 제조 중의 장치의 신뢰성 향상에 도움이 되고 봉지재료의 누출을 방지하며 공정 완료 후 테이프가 제거될 시에 리드프레임이나 봉지재료에 점착제의 전사를 방지할 수 있는전자부품 제조용 점착테이프에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 전자부품 제조용 점착테이프는 내열 기재와 상기 내열 기재 상에 점착제 조성물이 도포된 점착제 층을 포함하는 전자부품 제조용 점착테이프에 있어서, 상기 점착제 조성물은 페녹시 수지, 열경화제, 에너지선 경화형 아크릴 수지 및 광개시제를 포함하고, 상기 점착제 층은 열경화 및 에너지선에 의해 경화된 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 투명 기판용 접착제 조성물 및 이를 이용한 투명 기판용 접착 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 금속 혹은 금속 산화물로 이루어지는 도전막을 갖는 투명기판 상에 접착필름을 형성함에 있어서, 종래의 아크릴 중합체에 비해 수증기 투과율이 현저히 낮고, 투명성 및 방습성(내열발포성, 내습열안정성)이 우수하며, 금속 혹은 금속 산화물로 이루어진 도전막의 부식을 방지할 수 있는 투명 기판용 접착제 조성물 및 이를 이용한 투명 기판용 접착 필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 투명 기판용 접착제 조성물은 하기 화학식 1로 표현되는 선형 고분자 에폭시 수지로서, (화학식 1)
이고, 상기 n값은 2 내지 340인 선형 고분자 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름 및 이를 이용한 박막공정에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 웨이퍼의 박막화 공정에서 스핀 코터, 레이저 조사기, 자외선 조사기, 또는 세정장비 등의 별도의 장치가 필요 없고, 반도체 웨이퍼 사이즈에 따른 제한이 없으며, 이형력을 갖는 기재상에 아크릴계 점착제층의 코팅을 한 후 이를 리지드한 기재상에 아크릴계 점착제층을 간단한 라미네이터로 첩부하여 웨이퍼의 이동 중에 휨 현상이 없으며, 연삭수가 침투하지 못하며, 박리시에는 점착층이 회로면에 남지 않아 별도의 세정 공정이 필요 없어 복잡한 공정상에서 발생하는 반도체 웨이퍼의 손상과 회로면의 오염이 없는 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름 및 이를 이용한 박막공정에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름은 내열 점착제층과 상기 내열 점착제층의 적어도 한 면에 이형력을 갖는 기재가 도포된 것을 특징으로 한다. 웨이퍼 서포트 플레이트, 웨이퍼 서포트 필름, 리지드한 기재, 이형력을 갖는 기재, 아크릴계 공중합체, 에너지선 경화형 아크릴계 올리고머
Abstract:
본 발명은 (i) (a) 3차 에스터 결합을 포함하는 에폭시 수지 또는 (b) 경화 후 3차 에스터 결합을 생성할 수 있는 에폭시 수지를 포함하는 에폭시 수지, (ii) 경화제, (iii) 경화촉진제, (iv) 개질용 열가소성 수지 및(v) 전도성 입자를 포함하며, 상기 (i) (a) 3차 에스터 결합을 포함하는 에폭시 수지 또는 (b) 경화 후 3차 에스터 결합을 생성할 수 있는 에폭시 수지를 전체 에폭시 수지 100 중량부를 기준으로 40 내지 55 중량부 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐필름용 접착제 수지 조성물 및 이를 이용한 전자파 차폐필름을 제공한다. 본 발명의 목적은 간단한 열처리에 의하여 제거할 수 있는 전자파 차폐필름용 접착제 및 이를 이용한 전자파 차폐필름을 제공하는 것이다.
Abstract:
본 발명은 전자부품 제조용 점착테이프에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자부품 제조용 점착테이프를 밀봉 수지 봉지 공정 이후에 추가적인 가열 공정이 없이 상온에서 디테이핑이 가능하고, 또한 라미네이션 공정 조건의 요구 특성을 모두 만족시킬 수 있고 기존의 전자부품 제조 공정에 사용되어 온 점착테이프들의 점착제 잔사 및 밀봉 수지 누출의 한계를 개선할 수 있는 전자부품 제조용 점착테이프에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 전자부품 제조용 점착테이프는 내열 기재와 상기 내열 기재 상에 점착제 조성물이 도포된 점착제 층을 포함하는 전자부품 제조용 점착테이프로서, 상기 점착제 조성물은 페녹시 수지, 아크릴 수지, 열경화제, 에너지선 경화형 아크릴 수지 및 광개시제를 포함하고, 상기 점착제 층은 열경화 및 에너지선에 의해 경화된 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 팬 아웃형 웨이퍼 레벨 패키지의 제조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 보조장치에 점착테이프를 라미네이션하고 상기 점착테이프는 단면 또는 한 면의 점착력이 거의 없는 양면 형태로 구성하여 재조립(Reconstitution) 공정 상에서 캐리어에 상기 점착테이프를 라미네이션하여 수지봉지공정 후 가열공정과 같은 추가 박리공정을 하였던 기존 방식의 한계에서 벗어나 추가 공정 없이 캐리어에서 수직박리와 같은 형태로 쉽게 박리 가능하고 전단응력에 강한 점착층을 구성하여 치수안정성을 확보할 수 있는 팬 아웃형 웨이퍼 레벨 패키지의 제조 장치에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 팬 아웃형 웨이퍼 레벨 패키지의 제조 장치는 캐리어와 상기 캐리어 상에 지지되는 점착테이프와 상기 점착테이프 상에 상기 점착테이프와 라미네이션된 보조장치를 포함하고, 상기 점착테이프는 다이본딩면 점착층과 기재필름만으로 이루어진 단면 구조와 다이본딩면 점착층, 기재필름 및 캐리어면 점착층으로 이루어진 양면 구조 중에서 선택된 어느 하나의 구조인 것을 특징으로 한다.
Abstract:
PURPOSE: An adhesive tape for manufacturing electronic components is provided to make de-taping at room temperature possible without additional heating process after sealing resin process, satisfy the requested properties of lamination process, and improve the leakage of sealing resin and adhesive residue of existing adhesive tape. CONSTITUTION: An adhesive tape for manufacturing electronic components comprises a heat-resistant substrate and a pressure-sensitive adhesive layer on the heat-resistant substrate. The adhesive composition comprises a phenoxy resin, an acryl resin, thermosetting material, an energy beam cure type acrylic resin and a photoinitiator. The adhesive layer is formed by thermal hardening and hardening of energy beam. The thickness of heat-proof material is 5-100 micron, the glass transition temperature thereof is 110-450°C, the thermal expansion coefficient is 1-35 ppm/°C, and the elastic modulus at room temperature is 1-10 GPa.
Abstract:
본 발명은 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 웨이퍼의 박막화 공정에서 별도의 첩부 장치가 필요 없고, 반도체 웨이퍼 사이즈에 따른 제한이 없으며, 내열 기재상에 아크릴계 점착제층의 코팅을 통하여 연삭수가 침투하지 못하며, 박리시에는 점착층이 회로면에 남지 않아 별도의 세정 공정이 필요 없어 복잡한 공정상에서 발생하는 반도체 웨이퍼의 손상과 회로면의 오염이 없는 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 반도체 박막 웨이퍼 가공용 웨이퍼 서포트 점착필름은 내열기재 및 상기 내열 기재상에 도포된 내열 점착제층을 포함하되, 상기 내열 점착제층은 분자량이 500,000 ~ 3,000,000을 갖는 아크릴계 공중합체, 에너지선 경화형 아크릴계 올리고머 및 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 한다. 웨이퍼 서포트 플레이트, 웨이퍼 서포트 필름, 내열 기재, 아크릴계 공중합체, 에너지선 경화형 아크릴계 올리고머