公开(公告)号：KR1020050027076A

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：KR1020040072641

申请日：2004-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부

IPC: B05D1/26

Abstract: A coating method and coating equipment are provided to form a coating film with a constant thickness and no coating stain on a processed substrate, by always stabilizing the wet line proper to a long-shaped coating nozzle. The coating equipment includes: a coating nozzle(120), having a discharging hole in its lower end surface and formed in a long shape; a first coating liquid supplier, supplying the coating liquid to the coating nozzle(120); a substrate support, supporting the processed substrate nearly horizontally; a nozzle support, supporting the coating nozzle; a scanning member, moving relatively horizontally between the substrate support and the nozzle support so as to move the coating nozzle(120) relatively horizontally, that is, nearly vertically to the longitudinal direction of the nozzle; and a wet line background processing member(125), applying the coating liquid or diluted coating liquid on the lower end of a back side of the coating nozzle.

Abstract translation: 提供涂布方法和涂布设备，通过总是将湿线适当地延伸到长形涂布喷嘴来形成具有恒定厚度并且在加工的基底上没有涂层污渍的涂膜。 涂布设备包括：涂料喷嘴（120），其下端表面具有形成为长形状的排出孔; 第一涂料液体供应器，将涂布液体供应到涂布喷嘴（120）; 基板支撑件，几乎水平地支撑处理的基板; 喷嘴支撑，支撑喷嘴; 扫描构件，其在所述基板支撑件和所述喷嘴支撑件之间相对水平地移动，以使所述涂布喷嘴相对于所述喷嘴的纵向方向相对水平地移动; 和湿线背景处理部件（125），将涂布液或稀释涂布液涂布在涂布喷嘴后侧的下端。

公开(公告)号：KR1020050011708A

公开(公告)日：2005-01-29

申请号：KR1020040056807

申请日：2004-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  오쓰카요시타카

IPC: B05C5/02

CPC classification number: B05C5/02 ,  B05C13/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

Abstract: PURPOSE: Provided is a coating method which scans the nozzle in the upper side of the board or in the neighboring location of the board so that it allows the coating to be processed in a safe way. CONSTITUTION: In the coating method which supports the board at the first height location and scans the nozzle to move it horizontally against the board, in which the nozzles release coating solution in the neighboring location of the board, light beam with high orientation is scanned from a beam scanning part and crossed around the upper side of the board at the second height location before scanning nozzle with light beam received at a light reception part and converted to an electric signal. Based on the electric signal generated from the light reception part, the presence of obstacle is judged at the second height location to select execution, halt or break of the scanning.

Abstract translation: 目的：提供一种在板的上侧或板的相邻位置扫描喷嘴以使其能够以安全的方式进行涂布的涂布方法。 构成：在第一高度位置处支撑板的扫描方法中，扫描喷嘴将其水平地移动到板上，其中喷嘴在板的相邻位置释放涂层溶液，从而扫描具有高取向的光束 光束扫描部分，并且在用光接收部分接收的光束扫描喷嘴之前在第二高度位置处横过板的上侧交叉并转换成电信号。 基于从光接收部产生的电信号，在第二高度位置判断是否存在障碍物，以选择扫描的执行，停止或中断。

公开(公告)号：KR101057527B1

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：KR1020040056807

申请日：2004-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  오쓰카요시타카

IPC: B05C5/02

Abstract: 피처리기판의 상면 또는 피처리면에 근접하는 높이 위치에서 노즐의 주사시키는 도포동작을 안전하게 하는 것.
노즐장해모니터(168)는, 스테이지(132)상에 얹어놓은 기판(G)의 상면근방을 소정의 높이위치에서 Y방향으로 거의 수평으로 횡단하도록 레이저빔(LB)을 출사하는 레이저출사부(222)와, 스테이지(132)상의 기판(G)을 사이에 두고 Y방향에서 레이저출사부(222)와 대향하는 위치에 배치되는 수광부(224)를 가진다. 도포처리부(136)에 있어서 레지스트도포처리가 행하여질 때, 주사부(212)의 주사구동에 의해서 레지스트노즐(134)과 함께, 또한 그 앞쪽에서 노즐장해모니터(168)의 레이저빔(LB)도 기판(G)의 위쪽을 X방향으로 주사하여, 기판(G)의 상면 근방에 장해물이 있는지 없는지를 검사한다.

Abstract translation: 并且确保在靠近待处理的基板或待处理的基板的上表面的高度位置处喷射喷嘴的涂覆操作。

公开(公告)号：KR101076152B1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: 노즐부(156)에있어서, 주사방향(X-방향)의후방또는반대측을향하는면, 즉배면(160)에는노즐길이방향으로수평또는일직선으로이어지는단차부(162)가형성되어있다. 도포처리중, 기판(G) 상으로토출된레지스트액(R)이젖음현상에의해레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)에부착하여높이방향으로넓어져, 그정상위치는단차부(162)에서안정화내지고정된다. 이렇게해서, 레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)을적시는레지스트액(R)의정상라인, 즉웨트라인(WL)이단차부(162)에의해서일의적(一義的)으로결정된다.

公开(公告)号：KR100521701B1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：KR1019970063351

申请日：1997-11-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 도포막 형성장치는, LCD기판을 실질적으로 수평으로 유지하는 재치대(10)와, 기판의 한 쪽 끝단부로부터 다른쪽 끝단부까지 연장된 슬릿형상의 액토출구(21)를 갖는 노즐(20)과, 이 노즐에 레지스트액(50)을 공급하는 레지스트액 공급기구(126∼128)와, 액토출구가 기판과 일정간격을 유지하도록 노즐을 지지하고, 액토출구의 긴쪽에 직교하는 방향으로 노즐을 기판에 대하여 상대적으로 평행이동시키는 이동기구(130)를 구비한다. 이 노즐은, 레지스트액 공급기구로부터 레지스트액이 도입되는 입구(23a)와, 이 입구와 액토출구에 각각 연이어 통하고, 입구를 개재하여 도입된 레지스트액을 일시적으로 저장하여서 액토출구로 레지스트액을 송출하는 액저장부(22)와, 액토출구의 긴 쪽 방향 양 끝단부쪽에 설치되고, 액토출구의 긴 쪽방향 양 끝단부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력을 저감시키는 막두께 제어수단(40),(40A),(40B),(40C)을 구비한다. 이 막두께 제어수단에 의하여 액토출구의 긴 쪽 방향 양 끝단부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력을 액토출구의 중간부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력과 실질적으로 동등하게 하고, 이에 의하여 기판 상에 형성되는 레지스트도포막의 막두께를 균일화한다.

公开(公告)号：KR101065876B1

公开(公告)日：2011-09-19

申请号：KR1020040072641

申请日：2004-09-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부

IPC: B05D1/26

Abstract: 기다란 형태의 도포 노즐에 양호한 웨트라인을 항상 안정적으로 얻을 수 있도록 하여, 피처리기판상에 막두께가 일정하고 도포 얼룩이 없는 도포막을 형성한다.
웨트라인 바탕처리부(125)는, 앞면으로부터 레지스트액이 스며 나오도록 구성된 도포 패드(162)에 유틸리티 유니트(172)내의 레지스트액 공급부로부터 레지스트액 또는 희석레지스트액을 공급하면서, 유틸리티 유니트(172)내의 누름부에 의해 도포 패드(162)를 노즐부 배면(160)의 하반부에 소정의 압력으로 압착하면서, 직진구동부(176)의 직진구동에 의해 도포 패드(162)를 노즐길이 방향(Y방향)으로 레지스트 노즐(120)의 일끝단으로부터 다른 끝단까지 직선적으로 또한 한번에 미끄럼동작시킨다.

公开(公告)号：KR1020050017588A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided are coating nozzle and coating apparatus for forming even thickness of coating film without coating spots on substrate and stable wet line on constant level by adapting longitudinally extended profile. CONSTITUTION: The coating nozzle and the coating apparatus is applied to a coating and development system(10) installed in a clean-room, and useful for carrying out a series of treatment such as washing, resist coating, pre-baking, development and post-baking processes on LCD substrate. The system(10) comprises process station(P/S)(16) on middle portion while cassette station(C/S)(14) and interface station(I/F)(18) at both ends along length(X direction). Between process lines(A,B), an assistant delivery space(38) is located. A shuttle(40) for placing the substrate(G) by sheet unit moves along line(X direction) using driving device.

Abstract translation: 目的：提供涂层喷嘴和涂层设备，用于通过适应纵向延伸的轮廓，在基底上形成均匀厚度的涂膜，并在恒定水平上稳定的湿线。 构成：将涂布喷嘴和涂布装置应用于安装在清洁室中的涂布和显影系统（10），可用于进行洗涤，抗蚀涂层，预烘烤，显影和后处理等一系列处理 在LCD基板上的工艺。 系统（10）包括在中间部分的处理站（P / S）（16），同时沿着长度（X方向）两端的盒式站（C / S）（14）和接口站（I / F）（18） 。 在处理线（A，B）之间，设置辅助递送空间（38）。 通过片材单元放置基板（G）的梭子（40）使用驱动装置沿着线（X方向）移动。

公开(公告)号：KR1019980042825A

公开(公告)日：1998-08-17

申请号：KR1019970063351

申请日：1997-11-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 도포막 형성장치는, LCD기판을 실질적으로 수평으로 유지하는 재치대(10)와, 기판의 한 쪽 끝단부로부터 다른쪽 끝단부까지 연장된 슬릿형상의 액토출구(21)를 갖는 노즐(20)과, 이 노즐에 레지스트액(50)을 공급하는 레지스트액 공급기구(126∼128)와, 액토출구가 기판과 일정간격을 유지하도록 노즐을 지지하고, 액토출구의 긴쪽에 직교하는 방향으로 노즐을 기판에 대하여 상대적으로 평행이동시키는 이동기구(130)를 구비한다. 이 노즐은, 레지스트액 공급기구로부터 레지스트액이 도입되는 입구(23a)와, 이 입구와 액토출구에 각각 연이어 통하고, 입구를 개재하여 도입된 레지스트액을 일시적으로 저장하여서 액토출구로 레지스트액을 송출하는 액저장부(22)와, 액토출구의 긴쪽방향 양 끝단부쪽에 설치되고, 액토출구의 긴쪽방향 양 끝단부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력을 저감시키는 막두께 제어수단(40),(40A),(40B),(40C)을 구비한다. 이 막두께 제어수단에 의하여 액토출구의 긴쪽방향 양 끝단부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력을 액토출구의 중간부쪽으로부터 토출되는 레지스트액의 토출압력과 실질적으로 동등하게 하고, 이에 의하여 기판상에 형성되는 레지스트도포막의 막두께를 균일화한다.