公开(公告)号：KR100753757B1

公开(公告)日：2007-08-31

申请号：KR1020010051065

申请日：2001-08-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시 ,  미야자키가즈히토 ,  나카무라아키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판(G)을 유지하는 유지수단의 하나인 스핀척(41)과, 스핀척(41)에 유지된 기판(G)으로 소정의 현상액을 공급하는 현상액 공급기구를 구비한 현상처리장치 (24a∼24c)에 있어서, 현상액 공급기구는, 소정의 현상액을 토출하는 복수의 현상액 토출노즐, 예를 들면 퍼들형성용 노즐(80a·80b)과, 복수의 현상액 토출노즐을 유지하는 1개의 노즐유지아암(51)과, 복수의 현상액 토출노즐의 높이를 개별로 조절할 수 있는 승강기구(58a·58b)를 가진다.

公开(公告)号：KR101076152B1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: 노즐부(156)에있어서, 주사방향(X-방향)의후방또는반대측을향하는면, 즉배면(160)에는노즐길이방향으로수평또는일직선으로이어지는단차부(162)가형성되어있다. 도포처리중, 기판(G) 상으로토출된레지스트액(R)이젖음현상에의해레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)에부착하여높이방향으로넓어져, 그정상위치는단차부(162)에서안정화내지고정된다. 이렇게해서, 레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)을적시는레지스트액(R)의정상라인, 즉웨트라인(WL)이단차부(162)에의해서일의적(一義的)으로결정된다.

公开(公告)号：KR1020020016557A

公开(公告)日：2002-03-04

申请号：KR1020010051065

申请日：2001-08-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시 ,  미야자키가즈히토 ,  나카무라아키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: To provide development processing equipment and a development processing method, in which processing efficiency is improved by enabling continuous processing even when a plurality of kinds of developing solutions are used, development processing is equalized and a substrate having high quality can be obtained by reducing the residue of the developing solution. CONSTITUTION: In development processing equipment 24a-24c with spin chucks 41 as one of holding means, on which a substrate G is placed and held, and developing-solution feed mechanism feeding the substrate G held by the spin chucks 41 with a prescribed developing solution, the developing-solution feed mechanism has a plurality of developing-solution discharge nozzles discharging the prescribed developing solution such as nozzles 80a and 80b for forming paddles, one nozzle holding arm 51 holding a plurality of discharge nozzles and lifting-lowering mechanisms 58a and 58b capable of discretely adjusting the height of a plurality of discharge nozzles.

Abstract translation: 目的：为了提供开发加工设备和开发处理方法，即使在使用多种显影液的情况下，即使使用多种显影液也能够进行连续加工，能够提高加工效率，显影处理均等化，通过减少 显影液的残留物。 构成：在具有旋转卡盘41的开发加工设备24a-24c中，作为其上放置和保持基板G的保持装置之一，以及将由旋转卡盘41保持的基板G供给到规定的显影液的显影液供给机构 显影液供给机构具有排出规定的显影液的多个显影液排出喷嘴，例如用于形成桨叶的喷嘴80a和80b，一个保持多个排出喷嘴的喷嘴保持臂51和提升降低机构58a和58b 能够离散地调节多个排出喷嘴的高度。

公开(公告)号：KR101018963B1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020030082459

申请日：2003-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시

IPC: G02F1/13

Abstract: 회전컵(50)이 소정의 회전속도로 회전함으로써 저류조(貯溜槽)(52)에 저류된 세정액(21)이 원심력으로 바깥쪽에 흘러, 그 흐르는 힘에 의해 그대로 구멍(52a)에서 세정액이 위쪽으로 토출되어 비산한다. 구멍(52a)이 비스듬히 형성되어 있기 때문에, 세정액의 토출방향은 그 경사방향이 된다. 이에 따라, 덮개체(37)에 있어서 기판(G)의 바깥쪽 부근의 영역(부호 A에서 나타내는 파선보다 오른쪽의 영역)까지 세정액을 미칠 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000035528A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990051071

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A development processor is provided to remove a remaining resist perfectly and to recover a rinse solution efficiently. CONSTITUTION: A development processor comprises a rinse solution spray nozzle(47) which sprinkles a rinse solution of a high pressure on a substrate after a development process of the substrate. A cover(50) of a box shape has a side wall(50a) and an upper wall(50b) so as to surround a side direction and an upper part of the rinse solution spray nozzle(47). A predetermined gap(d) exists between a lower part of the cover(50) and the substrate(G). The cover(50) temporarily stores the rinse solution sprinkled from the rinse solution spry nozzle(47), and forms a film of the rinse solution on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供开发处理器以完全去除剩余的抗蚀剂，并有效地回收冲洗溶液。 构成：开发处理器包括在衬底的显影处理之后将高压冲洗溶液洒在衬底上的冲洗溶液喷嘴（47）。 盒状的盖（50）具有侧壁（50a）和上壁（50b），以便围绕冲洗液喷嘴（47）的侧面方向和上部。 在盖（50）的下部和基板（G）之间存在预定的间隙（d）。 盖（50）临时存储从冲洗溶液喷嘴（47）喷洒的漂洗溶液，并在基材上形成冲洗溶液的膜。

公开(公告)号：KR100853927B1

公开(公告)日：2008-08-25

申请号：KR1020020020643

申请日：2002-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰다요시타카 ,  사다데쓰야 ,  야마사키쓰요시 ,  안도다케후미

IPC: G02F1/13

Abstract: 대형 기판을 스핀회전시켜, 그 표면에 소정의 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성장치로서, 기판을 대략 수평으로 유지하는 유지 플레이트와, 상기 유지 플레이트를 스핀회전시키는 회전장치와, 상기 회전장치에 의해 스핀회전되는 유지 플레이트로부터 기판이 이탈하지 않도록, 상기 유지 플레이트로부터 전달되는 회전력을 이겨 기판을 상기 유지 플레이트에 흡착시키는 흡인력을 상기 유지 플레이트에 부여하는 감압흡인장치와, 상기 유지 플레이트에 흡착유지된 기판에 상기 소정의 도포액을 공급하는 도포액 공급기구를 구비하고, 상기 회전중심을 중심으로 하여 상기 유지 플레이트의 기판유지면에 대략 동심원형상으로 형성된 복수의 고리형상 홈과, 상기 감압흡인장치의 흡입측에 연통하여, 상기 고리형상 홈내에서 개구하는 복수의 흡인구멍을 구비한다.

公开(公告)号：KR100539188B1

公开(公告)日：2005-12-27

申请号：KR1019990051071

申请日：1999-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시

IPC: G02F1/13

Abstract: 기판(G)의 현상처리 후에, 린스액을 고압으로 기판에 분사하는 린스액 분사노즐(47)을 갖고, 또한, 이 린스액 분사노즐(47)의 측방향을 둘러쌈과 동시에 기판(G)과의 사이에 소정 간격(d)을 두고 배치되어, 린스액 분사노즐로부터 분사된 린스액을 일시적으로 저장하면서 기판상에 린스액의 막을 형성하는 커버(50)를 갖는다. 린스액의 린스액 분사노즐(47)로부터 기판(G)에 향하여 린스액을 고압으로 분사할 때, 박스상의 커버(50)에 의해 형성되는 린스액의 막의 완충작용에 의해 기판(G)의 손상을 방지하면서 기판상의 잔존레지스트를 제거한다.

公开(公告)号：KR1020050017588A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided are coating nozzle and coating apparatus for forming even thickness of coating film without coating spots on substrate and stable wet line on constant level by adapting longitudinally extended profile. CONSTITUTION: The coating nozzle and the coating apparatus is applied to a coating and development system(10) installed in a clean-room, and useful for carrying out a series of treatment such as washing, resist coating, pre-baking, development and post-baking processes on LCD substrate. The system(10) comprises process station(P/S)(16) on middle portion while cassette station(C/S)(14) and interface station(I/F)(18) at both ends along length(X direction). Between process lines(A,B), an assistant delivery space(38) is located. A shuttle(40) for placing the substrate(G) by sheet unit moves along line(X direction) using driving device.

Abstract translation: 目的：提供涂层喷嘴和涂层设备，用于通过适应纵向延伸的轮廓，在基底上形成均匀厚度的涂膜，并在恒定水平上稳定的湿线。 构成：将涂布喷嘴和涂布装置应用于安装在清洁室中的涂布和显影系统（10），可用于进行洗涤，抗蚀涂层，预烘烤，显影和后处理等一系列处理 在LCD基板上的工艺。 系统（10）包括在中间部分的处理站（P / S）（16），同时沿着长度（X方向）两端的盒式站（C / S）（14）和接口站（I / F）（18） 。 在处理线（A，B）之间，设置辅助递送空间（38）。 通过片材单元放置基板（G）的梭子（40）使用驱动装置沿着线（X方向）移动。

公开(公告)号：KR1020040047602A

公开(公告)日：2004-06-05

申请号：KR1020030082459

申请日：2003-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A substrate handling device is provided to reliably clean a container and a cover body for opening and shutting the container, in order to omit a working time for the corresponding cleaning process. CONSTITUTION: While a rotative cup(50) rotates at predetermined rotative speed, a cleaning solution(21) reserved in a reservoir container(52) flows out by a centrifugal force, so that the cleaning solution(21) is discharged upward from a hole(52a) by a flowing force as being dispersed. Since the hole(52a) is inclined, a discharge direction of the cleaning solution(21) is toward the inclined direction. The cleaning solution(21) influences up to an area outside a substrate in a cover body(37).

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，可靠地清洁容器和盖体，以打开和关闭容器，以省略相应清洁过程的工作时间。 构成：当旋转杯（50）以预定的旋转速度旋转时，保留在储存容器（52）中的清洁溶液（21）通过离心力流出，使得清洁溶液（21）从孔向上排出 （52a）通过分散的流动力。 由于孔（52a）倾斜，清洗液（21）的喷出方向朝向倾斜方向。 清洁溶液（21）影响到盖体（37）中的衬底外部的区域。

公开(公告)号：KR1020020081106A

公开(公告)日：2002-10-26

申请号：KR1020020020643

申请日：2002-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰다요시타카 ,  사다데쓰야 ,  야마사키쓰요시 ,  안도다케후미

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A device for forming coating film and spin chuck are provided to prevent radial transcription mark from being generated on a substrate and damage of the substrate by sticking the substrate securely. CONSTITUTION: A photo-resist coating/vacuum drying unit is one of the performing modes of a film forming device, and the film forming device employs a holding plate(40a) capable of sucking and holding a substrate(G) in a roughly horizontal state, a rotary device rotating the holding plate, a depression and suction device which makes the holding plate to suck and hold the substrate, and a photo-resist solution discharge nozzle to supply a photo-resist solution to the substrate which is held by the holding plate. On the surface of the holding plate, annular suction grooves(81a-81f) are formed concentrically. Linear suction grooves(84) are connected with the annular suction grooves, and formed non-radially.

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成涂膜和旋转卡盘的装置，以防止在基板上产生径向转录标记并且牢固地粘贴基板而损坏基板。 构成：光致抗蚀剂涂布/真空干燥装置是成膜装置的执行模式之一，成膜装置采用能够将基板（G）吸附并保持在大致水平状态的保持板（40a） 旋转装置，使保持板旋转的旋转装置，使保持板吸附和保持基板的凹陷和抽吸装置，以及光刻胶溶液排出喷嘴，将光刻胶溶液供给到由保持板保持的基板 盘子。 在保持板的表面上，同心地形成有环状的吸水槽（81a〜81f）。 线性抽吸槽（84）与环形抽吸槽连接，并且非径向地形成。