公开(公告)号：KR100696739B1

公开(公告)日：2007-03-19

申请号：KR1020010017343

申请日：2001-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  미야자키가즈히토 ,  야히로순이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 외 컵의 내벽에는, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 외 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재로서의 핀(fin)이 설치되어 있다. 마찬가지로, 내 컵의 내벽에도, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 내 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 3 의 안내부재로서의 핀이 설치되어 있다. 또, 외 컵 및 내 컵 하부에는, 외 컵 하부측과 내 컵 하부측을 걸치도록 하여 핀이 기립벽에 고정되어 있다. 이에 의해, 컵 내에서 비산된 미스트(mist)가 기판에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 外杯的内壁设置有作为第一引导构件的翼片，用于将由旋转基板的离心力散射的气氛引导至外杯的内壁。 类似地，内杯的内壁设置有作为第三引导构件的销，用于将由旋转基板的离心力散射的气氛引导至内杯的内壁。 销钉固定在外杯下方的直立壁和外杯下侧和内杯下侧下的内杯上。 由此，可以防止散落在杯子中的雾重新附着到基底。

公开(公告)号：KR101076152B1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: 노즐부(156)에있어서, 주사방향(X-방향)의후방또는반대측을향하는면, 즉배면(160)에는노즐길이방향으로수평또는일직선으로이어지는단차부(162)가형성되어있다. 도포처리중, 기판(G) 상으로토출된레지스트액(R)이젖음현상에의해레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)에부착하여높이방향으로넓어져, 그정상위치는단차부(162)에서안정화내지고정된다. 이렇게해서, 레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)을적시는레지스트액(R)의정상라인, 즉웨트라인(WL)이단차부(162)에의해서일의적(一義的)으로결정된다.

公开(公告)号：KR1020020016557A

公开(公告)日：2002-03-04

申请号：KR1020010051065

申请日：2001-08-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시 ,  미야자키가즈히토 ,  나카무라아키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: To provide development processing equipment and a development processing method, in which processing efficiency is improved by enabling continuous processing even when a plurality of kinds of developing solutions are used, development processing is equalized and a substrate having high quality can be obtained by reducing the residue of the developing solution. CONSTITUTION: In development processing equipment 24a-24c with spin chucks 41 as one of holding means, on which a substrate G is placed and held, and developing-solution feed mechanism feeding the substrate G held by the spin chucks 41 with a prescribed developing solution, the developing-solution feed mechanism has a plurality of developing-solution discharge nozzles discharging the prescribed developing solution such as nozzles 80a and 80b for forming paddles, one nozzle holding arm 51 holding a plurality of discharge nozzles and lifting-lowering mechanisms 58a and 58b capable of discretely adjusting the height of a plurality of discharge nozzles.

Abstract translation: 目的：为了提供开发加工设备和开发处理方法，即使在使用多种显影液的情况下，即使使用多种显影液也能够进行连续加工，能够提高加工效率，显影处理均等化，通过减少 显影液的残留物。 构成：在具有旋转卡盘41的开发加工设备24a-24c中，作为其上放置和保持基板G的保持装置之一，以及将由旋转卡盘41保持的基板G供给到规定的显影液的显影液供给机构 显影液供给机构具有排出规定的显影液的多个显影液排出喷嘴，例如用于形成桨叶的喷嘴80a和80b，一个保持多个排出喷嘴的喷嘴保持臂51和提升降低机构58a和58b 能够离散地调节多个排出喷嘴的高度。

公开(公告)号：KR1020150111872A

公开(公告)日：2015-10-06

申请号：KR1020150041436

申请日：2015-03-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키가즈히토 ,  가키노아키라

IPC: H01L51/56 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: G06T7/73 ,  G01B11/0616 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/37572 ,  G05B2219/45013 ,  G06T2207/30164

Abstract: 본발명은, 기판상에형성된뱅크내에도포재를정밀도좋게도포하는것을목적으로한다. 제1 촬상부는, 스테이지상에배치된기판을촬상한다. 제2 촬상부는, 제1 촬상부보다좁은화각및 높은분해능으로, 스테이지상에배치된기판을촬상한다. 제어부는, 기판상에형성된원형의프리얼라인먼트마크를제1 촬상부를이용하여촬상하고, 촬상된화상에기초하여이동기구및 회전기구를제어하여기판의위치맞춤을행하는프리얼라인먼트처리와, 프리얼라인먼트처리후, 기판상에형성된원형의파인얼라인먼트마크를제2 촬상부를이용하여촬상하고, 촬상된화상에기초하여이동기구및 회전기구를제어하여기판의위치맞춤을행하는파인얼라인먼트처리를실행한다.

Abstract translation: 本发明是将涂料精确地涂布到形成在基板上的堤的内部。 涂覆装置包括拍摄设置在台架上的基板的第一摄影单元; 第二摄影单元，以比第一拍摄单元更窄的视角和更高的分辨率拍摄设置在舞台上的衬底; 以及控制单元，其通过使用所述第一摄影者单元进行预处理处理以拍摄形成在所述基板上的圆形预对准标记，并且通过控制基于所述基板的移动机构和旋转机构来对所述基板进行位置拟合操作 在所拍摄的图像上，并且进行精细取向处理以在预对准处理之后通过使用第二摄影者单元拍摄在基板上形成的圆形微细对准标记，并且通过控制对基板进行位置拟合操作 移动机构和基于拍摄图像的旋转机构。

公开(公告)号：KR1020050017588A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided are coating nozzle and coating apparatus for forming even thickness of coating film without coating spots on substrate and stable wet line on constant level by adapting longitudinally extended profile. CONSTITUTION: The coating nozzle and the coating apparatus is applied to a coating and development system(10) installed in a clean-room, and useful for carrying out a series of treatment such as washing, resist coating, pre-baking, development and post-baking processes on LCD substrate. The system(10) comprises process station(P/S)(16) on middle portion while cassette station(C/S)(14) and interface station(I/F)(18) at both ends along length(X direction). Between process lines(A,B), an assistant delivery space(38) is located. A shuttle(40) for placing the substrate(G) by sheet unit moves along line(X direction) using driving device.

Abstract translation: 目的：提供涂层喷嘴和涂层设备，用于通过适应纵向延伸的轮廓，在基底上形成均匀厚度的涂膜，并在恒定水平上稳定的湿线。 构成：将涂布喷嘴和涂布装置应用于安装在清洁室中的涂布和显影系统（10），可用于进行洗涤，抗蚀涂层，预烘烤，显影和后处理等一系列处理 在LCD基板上的工艺。 系统（10）包括在中间部分的处理站（P / S）（16），同时沿着长度（X方向）两端的盒式站（C / S）（14）和接口站（I / F）（18） 。 在处理线（A，B）之间，设置辅助递送空间（38）。 通过片材单元放置基板（G）的梭子（40）使用驱动装置沿着线（X方向）移动。

公开(公告)号：KR1020160045012A

公开(公告)日：2016-04-26

申请号：KR1020150139667

申请日：2015-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키가즈히토 ,  미네요우스케 ,  미야자키후미히로

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00 ,  B05D7/00

Abstract: 본발명은액적토출장치에있어서의처리효율을향상시키면서상기액적토출장치의점유면적을작게하는것을과제로한다. 액적토출장치(1)는, 액적토출헤드(24)와, 워크스테이지(40)와, 플러싱유닛(50)과, 토출검사유닛(60)과, 토출검사카메라(31)와, 묘화검사카메라(32)를갖는다. 워크스테이지(40), 플러싱유닛(50) 및상기토출검사유닛(60)은주주사방향으로이 순서로배치된다. 토출검사카메라(31)와묘화검사카메라(32)는, 액적토출헤드(24)를사이에두고서주주사방향으로배치되고, 또한토출검사카메라(31)는플러싱유닛(50) 측에배치되며, 묘화검사카메라(32)는워크스테이지(40) 측에배치된다.

Abstract translation: 本发明的目的是在提高液体排放装置的处理效率的同时减少液体排出装置的占用面积。 液体排放装置（1）包括液体排放头（24），工作台（40），冲洗单元（50），排放监视单元（60），排放监控摄像机（31）和曝光监视 相机（32）。 工作台（40），冲洗单元（50）和排放监视单元（60）按顺序布置在水平扫描方向上。 放电监视摄像机（31）和曝光监视摄像机（32）在水平扫描方向上设置在喷墨头（24）之间，排出监视摄像机（31）位于冲洗单元（50）的一侧 ）。 曝光监视摄像机（32）设置在工作台（40）的一侧。

公开(公告)号：KR100753757B1

公开(公告)日：2007-08-31

申请号：KR1020010051065

申请日：2001-08-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키쓰요시 ,  미야자키가즈히토 ,  나카무라아키히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판(G)을 유지하는 유지수단의 하나인 스핀척(41)과, 스핀척(41)에 유지된 기판(G)으로 소정의 현상액을 공급하는 현상액 공급기구를 구비한 현상처리장치 (24a∼24c)에 있어서, 현상액 공급기구는, 소정의 현상액을 토출하는 복수의 현상액 토출노즐, 예를 들면 퍼들형성용 노즐(80a·80b)과, 복수의 현상액 토출노즐을 유지하는 1개의 노즐유지아암(51)과, 복수의 현상액 토출노즐의 높이를 개별로 조절할 수 있는 승강기구(58a·58b)를 가진다.

公开(公告)号：KR1020010095230A

公开(公告)日：2001-11-03

申请号：KR1020010017343

申请日：2001-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  미야자키가즈히토 ,  야히로순이치

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing a substrate is provided to prevent mist generated in a cup from being attached to the substrate again, by fixing a fin to a wall under inner and outer cups such that the fin is installed across portions under the inner and outer cups. CONSTITUTION: A maintaining and rotating unit maintains and rotates the substrate. A liquid supply unit supplies predetermined process liquid from the portion over the maintained substrate. The inner cup(58) is disposed to move up/down along the periphery of the substrate. A ventilating unit is installed under the inner cup. The outer cup(57) is disposed along the periphery of the inner cup. The frist guiding member(93) guides circumstances scattered by centrifugal force of a rotating substrate to a portion under the inner wall of the outer cup, installed in the inner wall of the outer cup. The second guiding member(95) guides the circumstances guided by the first guiding member to the inside of the inner cup by using the ventilating unit as a medium. An exhausting unit(66) exhausts the inside of the inner cup.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的装置，以防止在杯内产生的雾再次附着到基板上，通过将翅片固定在内杯和外杯之间的壁上，使得翅片安装在内外的部分 杯。 构成：维护和旋转单元保持和旋转基板。 液体供应单元从维持的基板上的部分供应预定的处理液。 内杯（58）设置成沿衬底的周边上/下移动。 一个通风单元安装在内杯下面。 外杯（57）沿着内杯的周边设置。 第一引导构件（93）将由旋转基板的离心力分散的情况引导到安装在外杯内壁中的外杯内壁下方的部分。 第二引导构件95通过使用通风单元作为介质，将由第一引导构件引导的环境引导到内杯的内部。 排气单元（66）排出内杯的内部。