公开(公告)号：KR100563698B1

公开(公告)日：2006-03-28

申请号：KR1020050052340

申请日：2005-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연이어 통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.

公开(公告)号：KR100513436B1

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：KR1019990047896

申请日：1999-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.

公开(公告)号：KR1020100031453A

公开(公告)日：2010-03-22

申请号：KR1020090072817

申请日：2009-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  모토마쓰가즈키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67703 ,  B65G49/065 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70716

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to secure the safety of a heating process and the stability of a substrate quality by preventing the interference between a substrate and a floating stage. CONSTITUTION: A first floating stage(82) is heated with a first temperature and float a substrate by the pressure of a gas. A second floating stage(84) is heated with a second temperature and floats the substrate by the pressure of a gas. The second temperature is higher than the first temperature. The starting end of the second floating stage is inclined. A flat transfer part transfers the substrate in the floating stage.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过防止基板和浮动台之间的干涉来确保加热工艺的安全性和基板质量的稳定性。 构成：第一浮动级（82）在第一温度下被加热，并通过气体的压力漂浮衬底。 第二浮动级（84）在第二温度下被加热，并通过气体的压力漂浮在衬底上。 第二温度高于第一温度。 第二个浮动阶段的起始阶段是倾斜的。 平面转印部分在浮动阶段转移衬底。

公开(公告)号：KR1020050017588A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided are coating nozzle and coating apparatus for forming even thickness of coating film without coating spots on substrate and stable wet line on constant level by adapting longitudinally extended profile. CONSTITUTION: The coating nozzle and the coating apparatus is applied to a coating and development system(10) installed in a clean-room, and useful for carrying out a series of treatment such as washing, resist coating, pre-baking, development and post-baking processes on LCD substrate. The system(10) comprises process station(P/S)(16) on middle portion while cassette station(C/S)(14) and interface station(I/F)(18) at both ends along length(X direction). Between process lines(A,B), an assistant delivery space(38) is located. A shuttle(40) for placing the substrate(G) by sheet unit moves along line(X direction) using driving device.

Abstract translation: 目的：提供涂层喷嘴和涂层设备，用于通过适应纵向延伸的轮廓，在基底上形成均匀厚度的涂膜，并在恒定水平上稳定的湿线。 构成：将涂布喷嘴和涂布装置应用于安装在清洁室中的涂布和显影系统（10），可用于进行洗涤，抗蚀涂层，预烘烤，显影和后处理等一系列处理 在LCD基板上的工艺。 系统（10）包括在中间部分的处理站（P / S）（16），同时沿着长度（X方向）两端的盒式站（C / S）（14）和接口站（I / F）（18） 。 在处理线（A，B）之间，设置辅助递送空间（38）。 通过片材单元放置基板（G）的梭子（40）使用驱动装置沿着线（X方向）移动。

公开(公告)号：KR1020010050025A

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1020000046104

申请日：2000-08-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카시노부 ,  가와구치요시히로

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A resist coating apparatus and a resist coating method is provided to be capable of evenly coating a resist solution in a small resist solution discharge amount to a substrate even if the resist solution is hardly dispersed. CONSTITUTION: Resist solution discharge nozzles(56a-56d) are attached to the tip end part of a nozzle arm(55) and a substrate(G) is set in a spin chuck. While the resist solution being discharged out any of the resist solution discharge nozzles(56a-56d) to the substrate(G) together with the nozzle arm(55), the resist solution discharge nozzles(56a-56d) are moved on the substrate by a nozzle transporting mechanism and, at the same time, together with the spin chuck the substrate(G) is rotated by a substrate rotating mechanism to cause relative scrolling movement between any of the resist solution discharge nozzle(56a-56d) and the substrate(G) and apply the resist solution to the substrate(G) in scrolls.

Abstract translation: 目的：提供抗蚀剂涂布装置和抗蚀剂涂布方法，即使抗蚀剂溶液难以分散，也能够将抗蚀剂溶液的均匀涂布在基板的较小的抗蚀剂溶液中。 构成：抵抗溶液排出喷嘴（56a-56d）附接到喷嘴臂（55）的末端部分，并且将基板（G）设置在旋转卡盘中。 当抗蚀剂溶液与喷嘴臂（55）一起排出任何抗蚀剂溶液排出喷嘴（56a-56d）到基板（G）时，抗蚀剂溶液排出喷嘴（56a-56d）在基板上通过 喷嘴输送机构，并且同时与旋转卡盘一起通过基板旋转机构旋转基板（G），以在抗蚀剂溶液排出喷嘴（56a-56d）和基板（56a-56d）中的任一个之间产生相对的滚动运动 G），并将抗蚀剂溶液以卷轴的形式施加到基板（G）上。

公开(公告)号：KR100696739B1

公开(公告)日：2007-03-19

申请号：KR1020010017343

申请日：2001-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  미야자키가즈히토 ,  야히로순이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 외 컵의 내벽에는, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 외 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재로서의 핀(fin)이 설치되어 있다. 마찬가지로, 내 컵의 내벽에도, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 내 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 3 의 안내부재로서의 핀이 설치되어 있다. 또, 외 컵 및 내 컵 하부에는, 외 컵 하부측과 내 컵 하부측을 걸치도록 하여 핀이 기립벽에 고정되어 있다. 이에 의해, 컵 내에서 비산된 미스트(mist)가 기판에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 外杯的内壁设置有作为第一引导构件的翼片，用于将由旋转基板的离心力散射的气氛引导至外杯的内壁。 类似地，内杯的内壁设置有作为第三引导构件的销，用于将由旋转基板的离心力散射的气氛引导至内杯的内壁。 销钉固定在外杯下方的直立壁和外杯下侧和内杯下侧下的内杯上。 由此，可以防止散落在杯子中的雾重新附着到基底。

公开(公告)号：KR100613968B1

公开(公告)日：2006-08-18

申请号：KR1020000046104

申请日：2000-08-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카시노부 ,  가와구치요시히로

IPC: H01L21/027

Abstract: (해결수단) 레지스트 토출 노즐이 노즐 암의 선단부에 설치되고, 기판은 스핀 척에 장착되어 있다. 이 레지스트 토출 노즐중 어느 하나로부터 기판에 레지스트액을 토출시키면서 노즐 이동기구에 의해 노즐 암과 함께 레지스트 토출 노즐을 기판 상으로 이동시킴과 동시에, 기판회전기구에 의해 스핀 척과 함께 기판을 회전시켜, 레지스트 토출 노즐의 어느 하나와 기판에 상대적인 스크롤 동작을 시키면서 레지스트액을 기판상에 스크롤 형상으로 도포한다. 이것에 의해, 레지스트액이 확산하기 어려운 경우라도, 적은 레지스트액 토출량으로 레지스트액을 기판상에 균일하게 도포 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000047577A

公开(公告)日：2000-07-25

申请号：KR1019990047896

申请日：1999-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for removing a thin film is provided to remove useless thin film covering the edge of the surface of the substrate by injecting solution on the edge. CONSTITUTION: An apparatus for removing a thin film includes a solution extractor(63,64), a solution delayer(65), an emission hole(67), and a solution supplier(71,73). The solution extractor(63,64) is aligned with the edge of the surface of the substrate. The solution delayer(65) is implemented in the solution extractor to delay the solution. The emission hole(67) is aligned with the solution delayer by opening toward the edge of the solution extractor. The solution supplier(71,73) according to the present invention supplies the solution in the solution delayer with a predetermined pressure. The solution is extracted from the emission hole to remove the useless thin film which covers the edge of the surface of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种去除薄膜的设备，通过将溶液注入边缘来除去覆盖基片表面边缘的无用薄膜。 构成：用于除去薄膜的装置包括溶液提取器（63,64），溶液延迟器（65），排放孔（67）和溶液供应器（71,73）。 溶液提取器（63,64）与衬底表面的边缘对齐。 溶液延迟器（65）在解决方案提取器中实现以延迟解决方案。 发射孔（67）通过向溶液提取器的边缘开口而与溶液延迟器对齐。 根据本发明的解决方案供应商（71,73）以预定压力将解决方案提供给解决方案延迟器。 从排放孔抽出溶液以除去覆盖基材表面边缘的无用薄膜。

公开(公告)号：KR1020050063761A

公开(公告)日：2005-06-28

申请号：KR1020050052340

申请日：2005-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연이어 통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.

公开(公告)号：KR1020010095230A

公开(公告)日：2001-11-03

申请号：KR1020010017343

申请日：2001-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  미야자키가즈히토 ,  야히로순이치

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing a substrate is provided to prevent mist generated in a cup from being attached to the substrate again, by fixing a fin to a wall under inner and outer cups such that the fin is installed across portions under the inner and outer cups. CONSTITUTION: A maintaining and rotating unit maintains and rotates the substrate. A liquid supply unit supplies predetermined process liquid from the portion over the maintained substrate. The inner cup(58) is disposed to move up/down along the periphery of the substrate. A ventilating unit is installed under the inner cup. The outer cup(57) is disposed along the periphery of the inner cup. The frist guiding member(93) guides circumstances scattered by centrifugal force of a rotating substrate to a portion under the inner wall of the outer cup, installed in the inner wall of the outer cup. The second guiding member(95) guides the circumstances guided by the first guiding member to the inside of the inner cup by using the ventilating unit as a medium. An exhausting unit(66) exhausts the inside of the inner cup.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的装置，以防止在杯内产生的雾再次附着到基板上，通过将翅片固定在内杯和外杯之间的壁上，使得翅片安装在内外的部分 杯。 构成：维护和旋转单元保持和旋转基板。 液体供应单元从维持的基板上的部分供应预定的处理液。 内杯（58）设置成沿衬底的周边上/下移动。 一个通风单元安装在内杯下面。 外杯（57）沿着内杯的周边设置。 第一引导构件（93）将由旋转基板的离心力分散的情况引导到安装在外杯内壁中的外杯内壁下方的部分。 第二引导构件95通过使用通风单元作为介质，将由第一引导构件引导的环境引导到内杯的内部。 排气单元（66）排出内杯的内部。