기판 냉각 부재, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
    1.
    发明公开
    기판 냉각 부재, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 无效
    基板冷却部件,基板加工装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:KR1020150082283A

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:KR1020157011800

    申请日:2013-10-25

    Abstract: 기판처리장치에있어서기판을냉각하기위한처리실의구성을간단하게한다. 웨이퍼(W)에플라즈마처리를실시하는플라즈마처리장치(10)에있어서, 플라즈마처리된웨이퍼(W)를로드록실(13)에반입하고, 웨이퍼(W)의표면에가스분사부재(25)로부터가스를분사하여웨이퍼(W)를냉각한다. 가스분사부재(25)는, 평판부재(31)의한쪽의평판면에복수의가스분사노즐(35)이형성된구조를가지며, 가스분사노즐(35)은, 원기둥형의와류생성실(41)과, 와류생성실(41)의바닥벽(52)에서개구하여가스를분사하는노즐구멍(42)을갖는다. 웨이퍼(W)의평판면과평판부재(31)에있어서가스분사노즐(35)이형성된평판면을소정간격으로평행하게배치하고, 노즐구멍(42)으로부터웨이퍼(W)를향해퍼지가스를분사하며, 분사한퍼지가스에소용돌이치는흐름을발생시킴으로써웨이퍼(W)를냉각함과동시에, 로드록실(13) 내를진공분위기로부터대기압분위기로전환한다.

    진공 배기용의 볼 밸브 및 진공 배기 장치
    2.
    发明公开
    진공 배기용의 볼 밸브 및 진공 배기 장치 无效
    真空排气阀和真空排气装置

    公开(公告)号:KR1020110097663A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:KR1020110015515

    申请日:2011-02-22

    CPC classification number: H01L21/67034 F16K5/06 F16L55/07

    Abstract: 본 발명은 간소한 구성으로 배기 유량을 소유량으로부터 대유량으로 전환할 수 있는 진공 배기용의 볼 밸브 및 진공 배기 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 흡기 포트(33)와 배기 포트(34) 사이가 상기 관통로(45)를 거쳐서 연통하는 전부 개방 상태와, 양 포트(33, 34)의 사이가 차단되는 폐지 상태와, 상기 관통로(45)의 일단이 배기 포트(34)의 개구부에 임하며 또한 상기 관통로(45)의 타단이 흡기 포트(33)의 개구부로부터 은폐되는 미소 개방 상태 중 하나가 되도록 볼 부재(41)를 회동 가능하게 마련함과 동시에, 상기 미소 개방 상태 때에 상기 관통로(45)와 흡기 포트(33) 사이를 미소한 간극에 의하여 연통시키기 위한 미소 연통로(48)를 상기 볼 부재(41)에 마련한다.

Patent Agency Ranking