公开(公告)号：KR101817391B1

公开(公告)日：2018-01-10

申请号：KR1020140134314

申请日：2014-10-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카바야시신지 ,  곤도게이스케 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/673 ,  B65D85/38

CPC classification number: H01L21/67772 ,  B65G2201/0297 ,  H01L21/67769

Abstract: 본발명은전유면적의증대를억제할수 있는기판반송실을제공하기위한것이다. 상기과제를달성하기위해서, 본발명은, 기판처리시스템(10)에있어서, 웨이퍼(W)를수용하는 FOUP(18)로부터웨이퍼(W)를반출하는로더모듈(15)은, 평면에서보아변형 6 각형의하우징형상의본체(21)와, FOUP(18)를본체(21)에접속하기위한용기접속기구로서의복수의로드포트(22)를구비하고, 복수의로드포트(22) 중하측로드포트(22a) 및상측로드포트(22b)는본체(21)의높이방향으로겹쳐서배치된다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够抑制总内部面积的增加的基板输送室。 为了实现上述目的，本发明提供一种基板处理系统10中，作为观察装载模块15取出从FOUP（18）的晶片（W）的用于接收晶片（W），在面内偏差 和主体六边形壳体形状的21，FOUP（18）的主体（21）的多个装载口22设置有多个装载口22作为容器连接机构，以及用于连接到一个负载侧杆 端口（22A）和上装载口（22B）被布置在主体21的高度方向卷起。

公开(公告)号：KR101333356B1

公开(公告)日：2013-11-28

申请号：KR1020110011989

申请日：2011-02-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시센쇼 ,  오자와마사히토 ,  사사키요시아키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/324 ,  B65G49/07 ,  B25J15/00

Abstract: 본 발명의 과제는 아암부 자체의 온도 상승을 억제하여 반송 정밀도를 높게 유지하는 것이 가능한 반송 기구를 제공하는 것이다. 처리 용기(56) 내에서 피처리체(W)에 열처리를 실시하는 처리 장치에 대해서 피처리체를 반출입시키는 반송 기구로서, 복수의 아암(94, 96, 98)을 가지고 굴신 및 선회가 가능하게 이루어진 아암부(36A, 36B)와, 아암부의 선단에 연결되어 피처리체를 유지하는 포크부(38A, 38B)와, 아암부 중에서 처리 용기 내로 침입하는 부분에 마련한 열차폐판(104)을 구비한다. 이것에 의해, 아암부 자체의 온도 상승을 억제하여 반송 정밀도를 높게 유지한다.

公开(公告)号：KR1020100138984A

公开(公告)日：2010-12-31

申请号：KR1020107021779

申请日：2009-03-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오야마신타로 ,  시모무라고우지 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/26

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: 피처리체W에 대해 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치에 있어서, 상기 피처리체를 수용 가능한 동시에 천장부를 갖는 처리용기(6)와, 피처리체W를 지지하는 지지 수단(38)과, 상기 처리용기의 상기 천장부에 마련된 제 1 조사창(26)과, 상기 제 1 조사창의 외측에 마련되고, 가열용의 열선을 발하는 제 1 가열 수단(28)과, 상기 처리용기에 마련되고, 상기 처리용기내에 소정의 가스를 공급하는 가스 공급 수단(12)과, 상기 처리용기에 마련되고, 상기 처리용기내의 분위기를 배기하는 배기 수단(20)과, 상기 지지 수단과 상기 제 1 조사창의 사이에 마련되고, 그 일부에 상기 열선의 일부 혹은 전부를 차단하기 위한 차광부(86)가 형성된 막 방착 부재(80)를 구비한다. 그리하여, 조사창에 흐릿함이 발생하는 것을 방지하면서 열처리 후에 있어서의 박막의 막두께의 면내 균일성을 높게 유지하는 것이 가능하다.

公开(公告)号：KR1019970060379A

公开(公告)日：1997-08-12

申请号：KR1019970001902

申请日：1997-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치다카시 ,  고바야시센쇼 ,  이토오마사히데 ,  고미히사시

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명의 배기 시스템은 유기금속 화합물의 기화가스를 이용하여 대상물에 성막(成膜)을 실시하는 성막처리 장치의 배기구에 접속된 배기관로와; 배기관로에 설치되어, 성막처리장치내의 가스를 배기 가스로써 배기관로를 통하여 압송하는 압송장치와; 압송장치에 설치되어, 유기금속 화합물의 열분해 온도보다 더 낮은 온도로 압송장치를 냉각함으로써 압송장치로 도입되는 배기가스중에 함유된 유기금속 화합물의 석출을 억제하는 냉각기구와; 압송장치보다 하류측의 배기관로의 부위에 설치되어, 배기관로를 통하여 도입되는 배기가스중에 함유된 유기금속 화합물을 제해(除害)하는 제해장치를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR1020150082283A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：KR1020157011800

申请日：2013-10-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와베아츠시 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32724 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/32816 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32899 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67201

Abstract: 기판처리장치에있어서기판을냉각하기위한처리실의구성을간단하게한다. 웨이퍼(W)에플라즈마처리를실시하는플라즈마처리장치(10)에있어서, 플라즈마처리된웨이퍼(W)를로드록실(13)에반입하고, 웨이퍼(W)의표면에가스분사부재(25)로부터가스를분사하여웨이퍼(W)를냉각한다. 가스분사부재(25)는, 평판부재(31)의한쪽의평판면에복수의가스분사노즐(35)이형성된구조를가지며, 가스분사노즐(35)은, 원기둥형의와류생성실(41)과, 와류생성실(41)의바닥벽(52)에서개구하여가스를분사하는노즐구멍(42)을갖는다. 웨이퍼(W)의평판면과평판부재(31)에있어서가스분사노즐(35)이형성된평판면을소정간격으로평행하게배치하고, 노즐구멍(42)으로부터웨이퍼(W)를향해퍼지가스를분사하며, 분사한퍼지가스에소용돌이치는흐름을발생시킴으로써웨이퍼(W)를냉각함과동시에, 로드록실(13) 내를진공분위기로부터대기압분위기로전환한다.

公开(公告)号：KR1020140004132A

公开(公告)日：2014-01-10

申请号：KR1020137018956

申请日：2012-01-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카바야시신지 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67703 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68771

Abstract: 본 발명은 복수의 진공 반송 기구를 갖는 진공 반송계의 반송 효율 및 스루풋을 향상시키는 것을 과제로 한다.
이 진공 처리 장치는, 2층으로 된 진공 반송실(10)의 주위에 4개의 프로세스 모듈(PM
1 , PM
2 , PM
3 , PM4) 및 4개의 로드록 모듈(LM
L1 , LM
L2 , LM
U1 , LM
U2 )을 클러스터형으로 배치하고 있다. 여기서, 진공 반송실(10)의 2층은 전부 제3 진공 반송 영역(TE
3 )으로 되어 있으며, 개구부(13)를 통해 제3 진공 반송 영역(TE
3 )이 2층에서 1층으로 내려가 제1 및 제2 진공 반송 영역(TE
1 , TE
2 ) 사이에 있게 된다. 제3 진공 반송 로봇(34)은 제3 진공 반송 영역(TE
3 )의 2층 부분에서 안길이 방향(X 방향)으로 직진 이동 가능한 좌측 및 우측의 수평 반송부(HR
1 , HR
2 )와, 제3 진공 반송 영역(TE
3 )의 개구부(13)에서 수직 방향(Z 방향)으로 직진 이동, 즉 승강 가능한 좌측 및 우측의 수직 반송부(VR
1 , VR
2 )를 갖는다.

公开(公告)号：KR101814856B1

公开(公告)日：2018-01-04

申请号：KR1020137024382

申请日：2012-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고바야시센쇼

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67703 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67201

Abstract: 기판을감압분위기하에서처리하는복수의처리실이근접하고, 상기처리실과의사이에서기판을반입반출하는반송기구를내부에갖는복수의진공반송실과, 상기복수의진공반송실의각 진공반송실에각각설치된하나또는그 이상의로드록실과, 외부로부터공급된기판을하나의상기로드록실에반송하는제1 대기반송기구와, 상기제1 대기반송기구로부터기판을수취하여, 수취한상기기판을다른상기로드록실에반송하는제2 대기반송기구를구비하고, 상기제2 대기반송기구를상기하나의로드록이설치되어있는진공반송실의상측또는하측에배치하고, 상기복수의진공반송실을, 상기제2 대기반송기구에의한기판의반송방향을따라서직렬로배치한다.

Abstract translation: 特写多个用于减压气氛下处理衬底的处理室，并具有衬底在其中一个传送机构，以分别处理室和之间进行，安装在多个真空，每个真空搬送室失望的传输的多个真空传送腔室的 接收一个或多个负载锁定腔室，和用于输送从外部供给的基板到锁定腔室的负载中的一个的第一空气输送机构，从第一空气输送装置的基板，接收hansanggi衬底到其他负载锁定腔室的 提供，所述第二空气传送机构，并把真空输送破碎上部或下部，所述负载锁的一个被提供，其中，所述第二空气输送多个真空转移室，用于传送第二空气输送系统的 通过该机构沿着基板的输送方向串联排列。

公开(公告)号：KR1020150040762A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：KR1020140134314

申请日：2014-10-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카바야시신지 ,  곤도게이스케 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/673 ,  B65D85/38

CPC classification number: H01L21/67772 ,  B65G2201/0297 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67742

Abstract: 본발명은전유면적의증대를억제할수 있는기판반송실을제공하기위한것이다. 상기과제를달성하기위해서, 본발명은, 기판처리시스템(10)에있어서, 웨이퍼(W)를수용하는 FOUP(18)로부터웨이퍼(W)를반출하는로더모듈(15)은, 평면에서보아변형 6 각형의하우징형상의본체(21)와, FOUP(18)를본체(21)에접속하기위한용기접속기구로서의복수의로드포트(22)를구비하고, 복수의로드포트(22) 중하측로드포트(22a) 및상측로드포트(22b)는본체(21)의높이방향으로겹쳐서배치된다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供能够抑制专属区域的增加的基板搬送室。 为此，本发明的结构使得在基板处理系统（10）中，从用于容纳晶片（W）的FOUP（18）传送晶片（W）的装载机模块（15）配备有 从平面观察的变形六角形壳体的形状的主体（21）和作为容器连接装置的多个负载口（22），并且在多个负载端口（22），下部负载端口（22a）和 上部装载口（22b）在主体（21）的高度方向上重叠。

公开(公告)号：KR100352379B1

公开(公告)日：2002-11-16

申请号：KR1019970001902

申请日：1997-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 호리우치다카시 ,  고바야시센쇼 ,  이토오마사히데 ,  고미히사시

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명의 배기 시스템은 유기 금속 화합물의 기화가스를 이용하여 대상물에 성막(成膜)을 실시하는 성막처리장치의 배기구에 접속된 배기관로와; 배기관로에 설치되어, 성막처리장치내의 가스를 배기 가스로써 배기관로를 통하여 압송하는 압송장치와; 압송장치에 설치되어, 유기 금속 화합물의 열분해 온도보다 더 낮은 온도로 압송장치를 냉각함으로써 압송장치로 도입되는 배기 가스중에 함유된 유기 금속 화합물의 석출을 억제하는 냉각기구와; 압송장치보다 하류측의 배기관로의 부위에 설치되어, 배기관로를 통하여 도입되는 배기 가스중에 함유된 유기 금속 화합물을 제거하는 유해물질제거 장치를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR101744372B1

公开(公告)日：2017-06-07

申请号：KR1020137018956

申请日：2012-01-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와카바야시신지 ,  고바야시센쇼

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67703 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742

Abstract: 본발명은복수의진공반송기구를갖는진공반송계의반송효율및 스루풋을향상시키는것을과제로한다. 이진공처리장치는, 2층으로된 진공반송실(10)의주위에 4개의프로세스모듈(PM, PM, PM, PM4) 및 4개의로드록모듈(LM, LM, LM, LM)을클러스터형으로배치하고있다. 여기서, 진공반송실(10)의 2층은전부제3 진공반송영역(TE)으로되어있으며, 개구부(13)를통해제3 진공반송영역(TE)이 2층에서 1층으로내려가제1 및제2 진공반송영역(TE, TE) 사이에있게된다. 제3 진공반송로봇(34)은제3 진공반송영역(TE)의 2층부분에서안길이방향(X 방향)으로직진이동가능한좌측및 우측의수평반송부(HR, HR)와, 제3 진공반송영역(TE)의개구부(13)에서수직방향(Z 방향)으로직진이동, 즉승강가능한좌측및 우측의수직반송부(VR, VR)를갖는다.