公开(公告)号：KR101426665B1

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.

公开(公告)号：KR101228773B1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：KR1020100018876

申请日：2010-03-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다끼구찌야스시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

Abstract: 본 발명의 과제는 상하로 분할되어 상측의 컵이 승강 가능한 컵 내에서 기판을 회전시키면서 액처리를 행하는 액처리 장치에 있어서, 상하의 컵 사이로부터 미스트가 외부로 비산하는 것을 방지할 수 있는 액처리 장치를 제공하는 것이다.
웨이퍼(W)를 흡착 유지하는 스핀 척(1)과, 웨이퍼(W)에 현상액을 공급하는 현상액 노즐(14) 및 세정액을 공급하는 세정액 노즐(15)과, 스핀 척(1)의 측방을 덮도록 설치되어, 하부 컵(4)과, 승강 가능한 상부 컵(3)을 조합하여 구성된 컵체(2)와, 상부 컵(3)이 상승했을 때에 하부 컵의 굴곡부(42)가 끼워 넣어지도록 전체 둘레에 걸쳐서 형성되고, 세정액을 저류하기 위한 홈부(32)와, 웨이퍼(W)의 회전에 의해 떨쳐내어진 세정액을 홈부(32)로 안내하는 액 수용조(34) 및 관통 구멍(38)을 구비하고, 홈부(32)에 저류된 세정액에 의해, 하부 컵(4)과 상부 컵(3) 사이를 기밀하게 시일하여 컵체(2)로부터 미스트가 누출되는 것을 방지한다.

公开(公告)号：KR1020130032365A

公开(公告)日：2013-04-01

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.

公开(公告)号：KR1020100100643A

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：KR1020100018876

申请日：2010-03-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  다끼구찌야스시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67028 ,  G03F7/162 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70908 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to prevent liquid from leaking toward the outside of cups by hermetically sealing the cups. CONSTITUTION: A spin chuck(1) absorbs and maintains a substrate(W). A liquid nozzle supplies liquid toward the substrate which is placed on a substrate maintaining unit. A cup body(2) is installed to cover the lateral side of the substrate maintaining unit. A lower cup and an elevatable upper cup form the cup body. A drain port(43) through which wasted liquid is drained is installed on the bottom side of the lower cup. An engaging part(42) is installed to storing the liquid.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过密封杯来防止液体向杯子外部泄漏。 构成：旋转卡盘（1）吸收并维持基底（W）。 液体喷嘴向放置在基板保持单元上的基板供给液体。 安装杯体（2）以覆盖基板保持单元的侧面。 下杯和可升降的上杯形成杯体。 在下杯的底侧安装有排出废液的排水口（43）。 安装接合部分（42）以储存液体。

公开(公告)号：KR101670095B1

公开(公告)日：2016-10-27

申请号：KR1020110079911

申请日：2011-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시무라고오끼 ,  다끼구찌야스시 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명의과제는액 처리장치에있어서, 상기처리액노즐에부착된처리액으로부터의석출물에의해기판이오염되는것을방지하여, 수율의저하를방지하는것이다.컵체의중에기판을수평으로보유지지하는기판보유지지부를설치하여구성되는액 처리부와, 처리액노즐과, 상기컵체의외측에설치되고, 상기처리액노즐을대기시키기위한대기부와, 상기액 처리부의각각의상방영역과, 대기부사이에서처리액노즐을이동시키기위한이동수단과, 상기대기부에설치되고, 처리액노즐에세정액을공급하여세정하는세정액공급수단과, 상기대기부에설치되고, 당해대기부에서대기하는처리액노즐로부터매달린상기세정액의액적에접촉하여, 당해액적을처리액노즐로부터제거하는액 제거부를구비하도록장치를구성하고, 석출물을씻어내고, 또한사용한세정액의액적을제거한다.

公开(公告)号：KR1020120016011A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：KR1020110079911

申请日：2011-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시무라고오끼 ,  다끼구찌야스시 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus and method, and storage media are provided to prevent yield drop due to the generation of a watermark by supplying washing solution to a processing liquid nozzle and eliminating attachment of the processing liquid nozzle. CONSTITUTION: A processing liquid nozzle supplies processing liquid to a substrate. The processing liquid nozzle is placed in a standby part(66). A transfer means transfers the processing liquid nozzle between the upper side of a liquid treatment part and the standby part. A washing solution supplying means supplies washing solution to the processing liquid nozzle. A liquid delete part(101) contacts to droplet of the washing solution and eliminates the droplet from the processing liquid nozzle. The liquid delete part comprises a corn-shaped part(102) and liquid exhausting part(103).

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和方法以及存储介质，以通过将洗涤溶液供应到处理液喷嘴并消除处理液喷嘴的附着而防止由于产生水印而产生的产量下降。 构成：处理液喷嘴向处理液供给处理液。 处理液喷嘴被放置在备用部分（66）中。 转印装置将处理液喷嘴在液体处理部件的上侧和待机部件之间传送。 洗涤液供给装置将洗涤液供给到处理液喷嘴。 液体清除部（101）与洗涤液的液滴接触，并从处理液喷嘴中除去液滴。 液体删除部分包括玉米形部分（102）和排液部分（103）。