公开(公告)号：KR1020130032365A

公开(公告)日：2013-04-01

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.

公开(公告)号：KR101426665B1

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：KR1020137001638

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다끼구찌야스시 ,  야마모또다로 ,  야마하따쯔또무 ,  후지모또아끼히로 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027 ,  B05D1/40 ,  B05C11/08

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은, 컵 체내에서 기판을 수평하게 보유 지지하고, 약액을 공급하여 기판에 대하여 액 처리를 행하는 데 있어서, 약액용의 노즐의 수를 억제하면서 높은 스루풋으로 처리할 수 있는 액 처리 장치를 제공하는 것이다.
액 처리로서 현상 처리를 예로 들면, 2가지 종류의 현상 처리 방식에 대응할 수 있도록 2종류의 현상 노즐을 준비하고, 양쪽 방식 중 노즐의 구속 시간이 긴 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 제1 액 처리 모듈(1, 2)에 대하여 개별적으로 설치하고, 노즐의 구속시간이 짧은 방식에 사용되는 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)에 대하여 공유화한다. 그리고 공유화한 현상 노즐에 대해서는, 양 모듈(1, 2)의 중간 위치에서 대기하도록 구성한다.