公开(公告)号：KR1019930020568A

公开(公告)日：1993-10-20

申请号：KR1019930003003

申请日：1993-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토 ,  다카야마나오키

IPC: H01L21/265

Abstract: 전자생성실내에서 방전가스가 부플라즈마로 되고, 이 부플라즈마 중의 전자가 이온생성실 내로 도입된다.
전자는, 이온생성실내에서 원료가스에 충돌하고, 주플라즈마를 발생시킨다. 이온은, 이온생성실에 형성된 개구부를 통하여 주플라즈마 중에서 인출된다. 전자석에 의하여 이온생성실 내에 플라즈마를 집중시키기 위한 자계가 형성된다. 사용이온의 종류에 따른 자계의 최적 강도를 얻기 위한 데이타를 스토어하는 제어부가 배설된다. 제어부는 사용이온의 종류에 따른 최적 자계강도를 형성하도록 전자석용의 전원의 전류를 조정한다.

公开(公告)号：KR100158234B1

公开(公告)日：1999-02-18

申请号：KR1019930003003

申请日：1993-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토 ,  다카야마나오키

IPC: H01L21/265

Abstract: 전자생성실 내에서 방전가스가 부플라즈마로 되고, 이 부플라즈마 중의 전자가 이온생성실 내로 도입된다.
전자는, 이온생성실내에서 원료가스에 충돌하고, 주플라즈마를 발생시킨다.
이온은, 이온생성실에 형성된 개구부를 통하여 주플라즈마 중에서 인출된다.
전자석에 의하여 이온생성실 내에 플라즈마를 집중시키기 위한 자계가 형성된다.
사용이온의 종류에 다른 자계의 최적 강도를 얻기 위한 데이타를 스토어하는 제어부가 배설된다.
제어부는 사용이온의 종류에 따른 최적 자계강도를 형성하도록 전자석용의 전원의 전류를 조정한다.

公开(公告)号：KR100210255B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019930000808

申请日：1993-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토

IPC: H01J37/08

CPC classification number: H01J27/04 ,  H01J2237/31701

Abstract: 이온원 장치는, 절연부재를 통하여 붙이고 떼기가 자유롭게 조합된 전자생성실과, 전자유인전극과, 이온생성실을 구비한다.
상기 전자생성실의 양 바깥쪽에는 훅이 배설되고, 상기 이온생성실의 이면에는 절연부재를 통하여 끼움판이 배설되며, 상기 끼움판 이면에 고정부재(23)가 배설된다. 이 고정부재(23)는 판스프링에 지지된 푸셔를 가지며, 이것은 상기 끼움판의 이면에 형성된 오목부에 삽입됨과 동시에 상기 오목부의 바닥면에 맞닿는다. 장치의 양측부를 따라 한쌍의 유지부재가 배설된다. 상기 유지부재의 상부는 훅에 붙이고 떼기가 자유롭게 걸어맞춤되고, 하부는 고정부재(23)에 붙이고 떼기가 자유롭게 걸어맞춤된다. 상기 전자생성실로부터 끼움판까지의 부재가 상기 유지부재를 통하여 훅과 푸셔의 사이에 끼워져서 고정된다.

公开(公告)号：KR100793453B1

公开(公告)日：2008-01-14

申请号：KR1020037000142

申请日：2001-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토 ,  이와미아키라 ,  오비아키라 ,  다하라가즈시 ,  가토시게아키

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G05B19/4067 ,  G05B2219/45031

Abstract: According to the present invention, as processing apparatus drive starts, the operating state of software used to drive the processing apparatus is monitored in real time to diagnose whether or not an abnormality has occurred (S110). If it is judged through the diagnosis performed in S110 that no abnormality has occurred, the workpiece processing is allowed to continue uninterrupted and then a decision is made as to whether or not the workpiece processing has been completed (S130). If the processing has been completed, the processing apparatus is stopped (S140). If, on the other hand, it is judged through the diagnosis performed in S110 that an abnormality has occurred, a log of the diagnosis item with regard to which the abnormality has occurred is recorded (S120). The processing apparatus is then stopped (S140).

公开(公告)号：KR1020030016372A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：KR1020037000142

申请日：2001-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토 ,  이와미아키라 ,  오비아키라 ,  다하라가즈시 ,  가토시게아키

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G05B19/4067 ,  G05B2219/45031

Abstract: 본 발명에 따르면, 장치의 구동이 시작되면, 장치를 구동하는 소프트웨어의 가동 상태를 실시간으로 감시하여, 이상이 발생하지 않고 있는지 진단한다(S110). S10의 진단으로 이상이 발생하지 않고 있다고 판단된 경우에는, 피(被)처리체에 대한 처리는 그대로 계속되어, 피처리체에 대한 처리가 완료되었는지 여부의 판단에 들어간다(S130). 처리가 완료된 경우에는 장치를 다운 처리한다(S140). S10의 진단으로 이상이 발생했다고 판단된 경우에는, 이상이 발생한 진단 항목에 대한 로그를 기록한다(S120). 그 후, 장치를 다운 처리한다(S140).

Abstract translation: 根据本发明，随着处理设备驱动开始，实时监控用于驱动处理设备的软件的操作状态，以诊断是否发生异常（S110）。 如果通过在S110中进行的诊断判断没有发生异常，则允许工件处理不间断地继续，然后判定工件处理是否已经完成（S130）。 如果处理已经完成，则处理装置停止（S140）。 另一方面，如果通过在S110中执行的诊断判断发生了异常，则记录发生异常的诊断项目的日志（S120）。 处理装置然后停止（S140）。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR1019930017098A

公开(公告)日：1993-08-30

申请号：KR1019930000808

申请日：1993-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히사토

IPC: H01J37/08

Abstract: 이온원 장치는, 절연부재를 통하여 붙이고 떼기가 자유롭게 조합된 전자생성실과, 전자유인전극과 이온생성실을 구비한다.
상기 전자생성실의 양 바깥쪽부에는 훅이 배설된다. 상기 이온생성실의 이면에는 절연부재를 통하여 끼움판이 배설된다. 상기 끼움판이면에 고정부재(23)가 배설된다. 상기 고정부재(23)는, 접시스프링에 지지된 푸셔를 가지며, 이것은, 상기 끼움판의 이면에 형성된 오목부에 삽입되어 있는 동시에 상기 오목부의 바닥면에 맞닿는다. 장치의 양측부를 따라 한 쌍의 유지부재가 배설된다. 상기 유지부재는 상부가 상기 훅에 붙이고 떼기가 자유롭게 걸어맞춤하고, 하부는 상기 고정부재(23)에 붙이고 떼기가 자유롭게 걸어맞춤한다. 상기 전자생성실로부터 상기 끼움판까지의 상기 부재가 유지부재를 통하여 상기 훅과 상기 푸셔와의 사이에 끼워져서 고정된다.