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公开(公告)号：KR1020140029289A
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020130103099
申请日：2013-08-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/02041 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32449 , H01J37/32862 , H01L21/02065
Abstract: The present invention relates to a plasma processing device comprising a processing vessel, a mounting tray, a remote plasma unit, a diffusion part, and an ion filter. The mounting tray is formed in the processing vessel. Excitation gas is generated by controlling the remote plasma unit to excite hydrogen containing gas. The exit of the excitation gas is formed at the remote plasma unit. The diffusion part is formed at the exit of the remote plasma unit and receives the excitation gas flowing from the exit for diffusing the active species of hydrogen with reduced amount of hydrogen ion. The ion filter is positioned between the diffusion part and the mounting tray and separated from the diffusion part. The ion filter traps hydrogen ion included in the active species of the hydrogen diffused by the diffusion part for passing the active species of the hydrogen with additionally reduced amount of the hydrogen ions. [Reference numerals] (26) Exhaustion device; (30) Direct current power circuit; (32) Heater power; (36) Cooler
Abstract translation: 等离子体处理装置技术领域本发明涉及一种等离子体处理装置，其包括处理容器，安装托盘，远程等离子体装置，扩散部件和离子过滤器。 安装托盘形成在处理容器中。 通过控制远程等离子体单元来激发含氢气体产生激发气体。 在远程等离子体单元处形成激发气体的出口。 扩散部分形成在远程等离子体单元的出口处，并接收从出口流出的激发气体，用于以减少量的氢离子扩散活性物质的氢。 离子过滤器位于扩散部分和安装托盘之间，并与扩散部分分离。 离子过滤器捕获由扩散部分扩散的氢的活性物质中包含的氢离子，用于使氢的活性物质进一步减少氢离子的量。 （附图标记）（26）耗尽装置; （30）直流电源电路; （32）加热器功率; （36）冷却器
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公开(公告)号：KR101676903B1
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：KR1020130103099
申请日：2013-08-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/02041 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32449 , H01J37/32862 , H01L21/02065
Abstract: 일실시형태의플라즈마처리장치는처리용기, 탑재대, 리모트플라즈마유닛, 확산부, 및이온필터를구비한다. 탑재대는처리용기내에마련되어있다. 리모트플라즈마유닛은수소함유가스를여기시켜여기가스를생성한다. 리모트플라즈마유닛에는여기가스의출구가형성되어있다. 확산부는리모트플라즈마유닛의출구에면하도록마련되어있고, 해당출구로부터흘러나오는여기가스를받아, 수소이온의양이감소된수소의활성종을확산시킨다. 이온필터는확산부와탑재대의사이에위치하고, 또한, 확산부로부터이간하도록마련되어있다. 이온필터는확산부에의해확산된수소의활성종에포함되는수소이온을포착하여, 수소이온의양이더욱감소된수소의활성종을통과시킨다.
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公开(公告)号：KR1020080071917A
公开(公告)日：2008-08-05
申请号：KR1020080009430
申请日：2008-01-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: C23C16/401 , C23C16/4401 , H01L21/3105 , H01L21/6719 , H01L21/67748
Abstract: A substrate processing apparatus is provided to simplify a composition thereof by forming a movable component with a cover-shaped member with a simple structure. An internal chamber(14) is mounted in an internal space(ES) of an external chamber(13). A gas supply unit(23) is adapted to supply a process gas into an internal space(IS) of the internal chamber. The pressure of the internal space of the external chamber is reduced or the internal space of the external chamber is filled with an inert gas. The internal chamber includes a movable component for defining the internal space of the internal chamber with another component. When a substrate is transferred by a transfer arm, the movable component is discharged from a movable region of the transfer arm.
Abstract translation: 提供一种基板处理装置，通过以简单的结构形成具有盖形部件的可移动部件来简化其组成。 内部室（14）安装在外部室（13）的内部空间（ES）中。 气体供应单元（23）适于将处理气体供应到内部室的内部空间（IS）中。 外部室的内部空间的压力减小或外部室的内部空间被惰性气体填充。 内部腔室包括可移动部件，用于利用另一部件限定内部腔室的内部空间。 当通过转移臂转移基板时，可移动部件从传送臂的可移动区域排出。
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公开(公告)号：KR100961007B1
公开(公告)日：2010-05-31
申请号：KR1020080009430
申请日：2008-01-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: C23C16/401 , C23C16/4401 , H01L21/3105 , H01L21/6719 , H01L21/67748
Abstract: 내부 챔버 내의 공간의 용량을 저감할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
기판 처리 장치(10)는 외부 챔버(13)와, 이 외부 챔버(13) 내의 공간(ES)에 수용되는 내부 챔버(14)와, 이 내부 챔버(14) 내의 공간(IS)에 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급부(23)를 구비하고, 외부 챔버(13) 내의 공간(ES)은 거의 진공으로 유지되고, 내부 챔버(14)는 이 내부 챔버(14) 내의 공간(IS)을, 스테이지 히터(17), 인클로저 기부(18)와 구획 형성하는 인클로저(19)를 갖고, 웨이퍼(W)를 반송하는 반송 암(12)에 의해 기판을 반출입할 때, 인클로저(19)는 반송 암(12)의 가동영역으로부터 퇴출되도록, 인클로저 기부(18)(스테이지 히터(17))로부터 이간된다.
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