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公开(公告)号：KR1020130049746A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020120123672
申请日：2012-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/302 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20 , H01L21/02008 , H01L21/0273 , H01L21/302
Abstract: PURPOSE: A substrate processing system, a substrate transferring method, and a computer storage medium are provided to reduce a load by cleaning the rear of a substrate before an exposure process. CONSTITUTION: A cleaning unit(100) cleans the rear of a wafer. An inspecting unit(101) inspects whether to expose the wafer before the wafer is inputted. A wafer transferring device(120,130) includes an arm to transfer a substrate. The wafer transferring device is installed in a housing.
Abstract translation: 目的：提供基板处理系统，基板转印方法和计算机存储介质，以在曝光处理之前清洁基板的后部来减小负载。 构成：清洁单元（100）清洁晶片的后部。 检查单元（101）检查在晶片输入之前是否暴露晶片。 晶片传送装置（120,130）包括用于传送基板的臂。 晶片转移装置安装在壳体中。
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公开(公告)号：KR102034344B1
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：KR1020170079084
申请日：2017-06-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/302
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公开(公告)号：KR101752513B1
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：KR1020120123672
申请日：2012-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/302 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20
Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.
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公开(公告)号：KR1020170077084A
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：KR1020170079084
申请日：2017-06-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/70691 , H01L21/02043 , H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67225 , H01L21/67242 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/67706 , H01L21/67748 , H01L21/6875 , H01L22/20
Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판처리의수율을향상시키고, 기판반송의부하를저감시킨다. 일양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는세정유닛(100)과, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는검사유닛(101)과, 각유닛(100, 101) 사이에서기판을반송하는아암을구비한웨이퍼반송기구(120, 130)와, 웨이퍼반송기구(120, 130)의동작을제어하는웨이퍼반송제어부를갖고있다. 웨이퍼반송제어부는, 검사결과, 웨이퍼의상태가세정유닛(100)에서의재세정에의해노광가능한상태로된다고판정되면, 당해웨이퍼를세정유닛(100)에다시반송하도록, 웨이퍼반송기구(120, 130)를제어한다. 다른양태에따르면, 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있다.
Abstract translation: 在具有在曝光之前执行衬底的背面清洁的功能的衬底处理系统中，衬底处理的成品率得到改善并且衬底传输的负载减小。 在一个实施方案中，该涂层和相对于所述接口站5显影具有清洁单元100，用于在处理系统中，清洗后的晶片的背表面，例如晶片的曝光的曝光装置导入晶片之前清洁至少晶片的背面 晶片传送机构120,130具有用于在每个单元100,101之间传送衬底的臂，用于在单元100,101之间传送衬底的晶片传送机构120（120） 并且用于控制晶片传送单元130的操作的晶片传送控制单元130， 晶片搬送控制部，测试的结果，如果判断出通过重新清洗曝光状态eseoui晶片清洁单元100中，晶片搬送机构（120，130，从而的状态，如本领域晶片EDA清洁单元期间传送（100） ）控制。 根据另一个方面，所述涂敷，显影接口站（5）是用于其中已清洗该晶片的晶片导入晶片在曝光装置中的处理系统的清洁部141，相对于背表面之前清洁至少所述晶片的背面表面的晶片 它有一个转印装置143，用于在曝光能够与晶片142用于检查是否在曝光装置之前的获取，携带晶片清洗部141和晶片142之间的晶片（W）。 晶圆清洁器141，晶圆检查单元142和传送单元143设置在壳体140内部。
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