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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100597286B1
公开(公告)日：2006-07-04
申请号：KR1020000046281
申请日：2000-08-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021
Abstract: 웨이퍼를 유지하는 웨이퍼 유지부의 상방 측에 정류부재를 배치하여, 이 정류부재의 천장판과 바닥판을, 각각의 통기공이 종방향으로 겹쳐지도록 위치시켜, 웨이퍼 표면에 현상액을 주입한다. 그 후의 정류부재의 바닥판을, 상기 통류공이 종방향으로 겹치지 않도록 횡방향으로 슬라이드 시켜 현상을 행한다. 이렇게 하면, 현상 시에는, 정류부재의 통류공이 종방향으로 좁아져 웨이퍼에의 기류가 차단되기 때문에, 웨이퍼에의 바람의 흐름이 원인이 된다. 웨이퍼의 면내에 있어서 현상액의 온도 분포의 발생이 억제되어져, 온도차에 의한 현상 얼룩의 발생이 억제되고, 균일한 현상처리를 행할 수 있다.
Abstract translation: 配置在上侧的晶片保持部用于保持晶片，所述顶板和底板上的流量调节部件，对每个通风孔的，以便在纵向位置重叠的调节元件，其被注入到显影溶液到晶片表面。 随后的流量调节部件的底板，和滑动在横向方向上，使得管ryugong在纵向方向上的重叠进行的现象。 以这种方式，在显影中，由于筒ryugong流动调节构件的时间变窄在晶片块的空气流的纵向方向上，并且使所述晶片的风的流动。 的显影剂的温度分布的产生在晶片的平面中被抑制，显影剂的不均匀性，由于温度差的产生可以被抑制，因此能够进行均匀的发展进程。
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公开(公告)号：KR1020010050036A
公开(公告)日：2001-06-15
申请号：KR1020000046281
申请日：2000-08-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021
Abstract: PURPOSE: A development device is provided to prevent strain caused by temperature difference and improve the uniformity of the process. CONSTITUTION: A current plate(6) is arranged above a wafer holder(2) to hold a wafer W, and the roof(62) and the bottom plate(63) of this plate(6) are set so that each circulation port(62a,63a) may lie over the other in vertical direction, and a developer(D) is heaped upon the surface of the wafer. Then, the bottom plate(63) of the plate(6) is slid laterally so that the the circulation ports(62a,63a) may not lie upon the other in vertical direction, prior to development. By doing it this way, at development, the circulation ports(62a,63a) of the plate(6) are blocked in vertical direction, which intercept the air current to the wafer(W), so the occurrence of the temperature distribution of the developer(D) within the surface of the wafer, which is caused by the flow of the air to the wafer, is suppressed, and the occurrence of the unevenness in development caused by temperature difference is suppressed, and equal development treatment can be performed.
Abstract translation: 目的：提供一种开发装置，以防止由温差引起的应变，并提高工艺的均匀性。 构成：当前板（6）布置在晶片保持器（2）上方以保持晶片W，并且该板（6）的顶板（62）和底板（63）被设置成使得每个循环端口 62a，63a）可以在垂直方向上彼此叠置，并且显影剂（D）堆积在晶片的表面上。 然后，板（6）的底板（63）横向滑动，使得循环口（62a，63a）在显影之前不能在垂直方向上位于另一个上。 通过这种方式，在显影时，板（6）的循环端口（62a，63a）在垂直方向上被阻挡，从而截断到晶片（W）的气流，从而发生温度分布 由晶片的空气流引起的晶片表面内的显影剂（D）被抑制，并且抑制由温度差引起的显影不均匀的发生，可以进行同样的显影处理。
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公开(公告)号：KR101633066B1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：KR1020110000820
申请日：2011-01-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/027
Abstract: 저온의처리액을이용한처리에서처리액노즐의결로의발생을방지하여, 처리를기판면내에서균일하게행한다. 현상처리장치(1)는기판을보지하는보지부재와, 기판상으로현상액, 린스액, 처리액을공급하는복합노즐체(42)와, 보지부재상에서퇴피한복합노즐체(42)를대기시키는노즐배스(44)를가지고있다. 노즐배스(44) 내에는복합노즐체(42)의선단부가수용된다. 노즐배스(44)는대기중인복합노즐체(42)를사이에두고설치되며, 당해복합노즐체(42)에서노즐배스(44)로부터노출된노출부를둘러싸도록수평방향으로연장되는한 쌍의퍼지가스노즐(93, 93)을가지고있다. 한쌍의퍼지가스노즐(93, 93)은복합노즐체(42)의노출부에대하여수분을포함하지않는퍼지가스를공급한다.
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公开(公告)号：KR1020160007392A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：KR1020150096662
申请日：2015-07-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715 , B01F3/0853 , B01F3/0861 , B01F5/0057 , B01F5/0071 , B01F7/00908 , B01F7/00916 , B01F15/00883 , B01F15/00889 , B01F2003/0896 , G03F7/3021
Abstract: 본발명은점도가비교적높은약액을배출하기위한약액배출기구에있어서, 그약액의배액로가차지하는높이를작게할 수있는기술을제공하는것을과제로한다. 약액이저류되는저류공간을구비한저류부와, 상기저류공간에, 상기약액의점도를낮추는희석액을공급하기위해개구된희석액공급구와, 상기희석액과상기약액을교반시키기위해상기저류공간에유체를공급하여, 그희석액및 약액에와류를형성하기위한와류형성부와, 교반이끝난상기희석액및 약액을, 상기희석액의공급에의해유입시켜상기저류공간으로부터배출하기위해, 그저류공간에있어서상기희석액공급구의상측으로개구된배액구를구비하도록배액기구를구성한다. 이러한구성에의해, 배액구로부터배출되는폐액의점도를저하시킬수 있고, 그배액구에접속되는배액로의수평면에대한기울기를크게할 필요가없어진다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于排出具有较高粘度的药液的化学液体排出机构，并且提供能够降低药液的液体排出路径所占的高度的技术。 所述化学液体排放机构包括：储存单元，其具有储存有化学液体的储存空间; 打开稀释剂供应口以提供用于降低化学液体的粘度的稀释剂; 涡流形成单元，其将流体供应到存储空间以将稀释剂与化学液体混合，并在稀释剂和化学液体中形成涡流; 以及液体排出口，其朝向储存空间中的稀释液供给口的上侧开放，使得混合稀释剂和药液通过稀释剂的供应被引入并从储存空间排出。 通过这样的结构，能够降低从排出口排出的废液的粘度，并且不必增加液体排出路径相对于与液体排出口连接的水平面的倾斜度 港口。
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公开(公告)号：KR1020110087212A
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：KR1020110000820
申请日：2011-01-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/302 , G03F1/60 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70583 , G03F7/70691 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A processing apparatus for processing a substrate, a processing method thereof, a program, and a computer storage device are provided to prevent a processing liquid nozzle from dew condensation using processing liquid with low temperature and uniformly process the inner side of a substrate. CONSTITUTION: A retention member is a processing unit which processes a substrate(G) using processing liquid with lower preset temperature than room temperature and holds the substrate. A processing liquid nozzle supplies processing liquid on a substrate. A nozzle bath(44) accepts the tip end part of the processing liquid nozzle, which is retreated in the upper part of the retention member, and makes the processing liquid nozzle wait. A pair of purge gas nozzles is arranged between the processing liquid nozzle, which waits in the nozzle bath, and is extended longer than the length of a horizontal direction in an exposed part which is exposed from the nozzle bath of the processing liquid nozzle. Purge gas which does not contain moisture is supplied to the exposed part.
Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的处理装置，其处理方法，程序和计算机存储装置，以防止处理液喷嘴使用低温处理液进行结露，并均匀地处理基板的内侧。 构成：保持构件是使用具有比室温低的预设温度的处理液处理基板（G）并保持基板的处理单元。 处理液喷嘴在基板上提供处理液。 喷嘴槽（44）接受在保持构件的上部退避的处理液喷嘴的前端部，使处理液喷嘴等待。 一对吹扫气体喷嘴布置在处理液喷嘴之间，该喷嘴在喷嘴槽中等待，并且在从处理液喷嘴的喷嘴槽露出的暴露部分中延伸长于水平方向的长度。 将不含有水分的吹扫气体供给到暴露部分。
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