公开(公告)号：KR3003290550000S

公开(公告)日：2003-07-23

申请号：KR3020020027572

申请日：2002-09-27

Applicant: 도시바 세라믹스 가부시키가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Designer： 콘토미오 ,  사이토노리히코 ,  시마누키카즈히코 ,  코바야시마사카즈 ,  세코스나오 ,  요코야마히데유키 ,  나카오켄 ,  사이토타카노리

公开(公告)号：KR101482039B1

公开(公告)日：2015-01-13

申请号：KR1020120033824

申请日：2012-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시이코지 ,  야마구치타츠야 ,  왕웬링 ,  사이토타카노리

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: 웨이퍼의 로드시에 있어서, 웨이퍼 온도를 확실하게 추정하여 웨이퍼에 대하여 신속한 열처리를 행한다.
열처리 장치(1)는, 보트(12)에 보유지지(holding)된 웨이퍼(w)를 처리하는 처리 용기(5)와, 처리 용기(5)를 가열하는 히터(3)와, 히터(3)로의 출력을 제어하는 제어부(35)를 구비하고 있다. 히터(3)와 처리 용기(5)와의 사이에 제1 온도 센서가 설치되고, 처리 용기(5) 내에 제2 온도 센서가 설치되고, 보트(12)와 함께 처리 용기(5) 내에 출납되는 제3 온도 센서가 설치되어 있다. 이들 온도 센서는 온도 예측부(34)에 접속되고, 온도 예측부(34)는, 어느 2개의 온도 센서, 예를 들면 제2 온도 센서 및 제3 온도 센서를 선택하여, 선택된 온도 센서로부터의 검출 온도를 각각 T
1 , T
2 로 했을 때, T＝T
1 ×(1－α)＋T
2 ×α, α＞1에 의해 웨이퍼 온도 T를 구한다.

公开(公告)号：KR1020130089586A

公开(公告)日：2013-08-12

申请号：KR1020130002791

申请日：2013-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시고로 ,  가사이타카히토 ,  사이토타카노리 ,  왕웬링 ,  요시이코지 ,  야마구치타츠야

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: G05B19/418 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67248

Abstract: PURPOSE: A heat processing apparatus and a controlling method thereof are provided to prevent the overshoot of a temperature by including a step of selecting a temperature control model. CONSTITUTION: A processing chamber receives an object. A heating unit heats the object. A memory unit memorizes two or more temperature control models. A temperature control unit (36) controls the temperature of the heating unit. A device control unit (100) controls the temperature control unit and the memory unit. [Reference numerals] (111,121) Model memory unit; (112) Recipe memory unit; (115,125) I/O port; (118) Operating panel; (28) Pressure control unit; (AA) Mass flow controller

Abstract translation: 目的：提供一种热处理装置及其控制方法，用于通过包括选择温度控制模型的步骤来防止温度过冲。 构成：处理室接收物体。 加热单元加热物体。 存储单元记忆两个或多个温度控制模型。 温度控制单元（36）控制加热单元的温度。 设备控制单元（100）控制温度控制单元和存储器单元。 （附图标记）（111,121）型号存储单元; （112）配方存储单元; （115,125）I / O口; （118）操作面板; （28）压力控制单元; （AA）质量流量控制器

公开(公告)号：KR1020130029009A

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：KR1020120094300

申请日：2012-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시이코지 ,  야마구치타츠야 ,  왕웬링 ,  사이토타카노리

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/463 ,  C23C16/481 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67757

Abstract: PURPOSE: A thermal treatment apparatus, a temperature control system, a thermal treatment method, a temperature control method, and a readable medium having a program for executing the thermal treatment method or the temperature control method are provided to save power consumption. CONSTITUTION: A substrate holding part(44) supports substrates at regular intervals. The substrates are arranged in a process chamber(65). A heating part(63) heats the process chamber. A feeding part(91) supplies gas. A cooling part(90) cools the process chamber.

Abstract translation: 目的：提供具有执行热处理方法或温度控制方法的程序的热处理装置，温度控制系统，热处理方法，温度控制方法和可读介质，以节省功耗。 构成：基板保持部（44）以规则的间隔支撑基板。 基板布置在处理室（65）中。 加热部件（63）加热处理室。 供给部（91）供给气体。 冷却部件（90）冷却处理室。

公开(公告)号：KR101617217B1

公开(公告)日：2016-05-02

申请号：KR1020130002788

申请日：2013-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시고로 ,  사이토타카노리 ,  왕웬링 ,  요시이코지 ,  야마구치타츠야

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: F27D19/00 ,  F27B17/0025 ,  F27D21/0014 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: (과제) 외란에의해열처리장치내부의온도가바뀐경우에, 열처리장치내부의온도를신속하게리커버리시킬수 있는열처리장치를제공하는것이다. (해결수단) 피(被)처리체를수납하는처리실과, 상기처리실에수납된피처리체를가열하는가열부와, 상기처리실내의온도를검출하는온도검출부와, 상기온도검출부에의해검출된온도가, 외란에의해, 미리설정된제1 설정온도보다낮아진경우에, 상기온도검출부에의해검출된온도와동일한제2 설정온도를설정하고, 그리고, 상기제2 설정온도와상기제1 설정온도사이에있는제3 설정온도와, 상기온도검출부가검출한온도가동일해지도록상기가열부를제어하고, 그리고상기제3 설정온도와상기온도검출부가검출한온도가동일해진후에, 상기제1 설정온도와, 상기온도검출부가검출한온도가동일해지도록상기가열부를제어하는제어부를구비하는열처리장치.

公开(公告)号：KR101435547B1

公开(公告)日：2014-08-29

申请号：KR1020110079553

申请日：2011-08-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사이토타카노리 ,  나카지마마코토

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/46 ,  C30B25/08 ,  C30B25/10 ,  C30B29/06 ,  C30B33/02 ,  C30B35/002

Abstract: (과제) 진공 단열층 형성체의 외측 셸의 좌굴 강도를 향상시킨 열처리 장치를 제공한다.
(해결 수단) 열처리 장치(1)는 통 형상의 반응관(3)과, 웨이퍼(W)를 장전하여 보지하는 보트(5)와, 반응관(3)의 외주에 설치된 히터(2)와, 히터(2)의 외주에 형성된 진공 단열층 형성체(10)를 구비하고 있다. 진공 단열층 형성체(10)는, 내측 셸(11)과, 내측 셸(11)과의 사이에서 진공 단열층(10a)을 형성하는 외측 셸(12)을 갖고 있다. 외측 셸(12)은 박판으로 이루어지며, 소성 가공이 행해져 그의 단면이 파상으로 되어 있다.

公开(公告)号：KR1020130086162A

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：KR1020130002788

申请日：2013-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시고로 ,  사이토타카노리 ,  왕웬링 ,  요시이코지 ,  야마구치타츠야

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: F27D19/00 ,  F27B17/0025 ,  F27D21/0014 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: PURPOSE: A thermal treatment apparatus and a control method thereof are provided to be able to rapidly recover the inner temperature of the thermal treatment apparatus in case that the inner temperature of the thermal treatment apparatus has changed. CONSTITUTION: A heating portion (52) heats a subject accepted in a treatment chamber (4). A temperature detection part detects the temperature inside the treatment chamber. A control unit (70) sets up a second pre-set temperature identical to the temperature detected by the temperature detection part in case that the temperature detected by the temperature detection part is lower than a first pre-set temperature. The control unit controls the heating portion so that a third pre-set temperature becomes identical to the temperature detected by the temperature detection part. The control unit controls the heating portion so that the first pre-set temperature becomes identical to the temperature detected by the temperature detection part. [Reference numerals] (AA) Exhaust

Abstract translation: 目的：提供一种热处理装置及其控制方法，以便能够在热处理装置的内部温度变化的情况下迅速恢复热处理装置的内部温度。 构成：加热部分（52）加热处理室（4）中接受的受试者。 温度检测部检测处理室内的温度。 在由温度检测部检测到的温度低于第一预设温度的情况下，控制单元（70）设定与由温度检测部检测出的温度相同的第二预设温度。 控制单元控制加热部，使得第三预设温度与由温度检测部检测到的温度相同。 控制单元控制加热部，使得第一预设温度与由温度检测部检测到的温度相同。 （附图标记）（AA）排气

公开(公告)号：KR1020120112131A

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：KR1020120031613

申请日：2012-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시이코지 ,  야마구치타츠야 ,  왕웬링 ,  사이토타카노리

IPC: H01L21/22 ,  H01L21/316 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109 ,  G05D23/1931 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67248

Abstract: PURPOSE: A heat treatment control system and a heat treatment control method are provided to rapidly and precisely perform thermal treatment for a processed object by controlling a heating part using the temperature of a processed object which is estimated by a temperature estimating part. CONSTITUTION: A heating portion(18A) is formed on an inner surface of a furnace body(5). A cover body(10) seals a lower opening of a treatment basin(3). The cover body is installed to be elevated by a lifting mechanism(13A). A temperature sensor(50) detects the temperature in the treatment basin. A temperature estimating part(51A) estimates the temperature of a processed object(W) based on a detection signal from the temperature sensor. [Reference numerals] (AA) From 80; (BB) From 81,82; (CC) From 83

Abstract translation: 目的：提供热处理控制系统和热处理控制方法，通过使用由温度估计部估计的加工对象的温度来控制加热部，对被处理物进行快速且精确地进行热处理。 构成：在炉体（5）的内表面上形成加热部（18A）。 盖体（10）密封处理池（3）的下部开口。 盖主体安装成由提升机构（13A）升高。 温度传感器（50）检测处理池中的温度。 温度推定部（51A）基于来自温度传感器的检测信号来估计被处理物体（W）的温度。 （标号）（AA）80; （BB）81,82; （CC）从83

公开(公告)号：KR101654631B1

公开(公告)日：2016-09-06

申请号：KR1020130002791

申请日：2013-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시고로 ,  가사이타카히토 ,  사이토타카노리 ,  왕웬링 ,  요시이코지 ,  야마구치타츠야

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: G05B19/418 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67248

Abstract: (과제) 소망하는열처리조건에따라서, 최적의온도특성을실현가능한, 열처리장치를제공하는것이다. (해결수단) 피(被)처리체를승온하거나또는정온(定溫)에서열처리하는열처리장치로서, 상기피처리체를수납하는처리실과, 상기처리실에수납된상기피처리체를가열하기위한가열부와, 미리작성된 2개또는그 이상의온도제어모델을기억하는기억부와, 상기가열부의온도를제어하는온도제어부와, 상기온도제어부및 상기기억부를제어하는장치제어부를갖고, 상기장치제어부는, 소망하는열처리조건에따라서, 상기 2개또는그 이상의온도제어모델로부터온도제어모델을선정하고, 상기온도제어부는, 상기의선정된온도제어모델을상기기억부로부터판독하여, 상기가열부를제어하는열처리장치.

公开(公告)号：KR1020120042627A

公开(公告)日：2012-05-03

申请号：KR1020110079553

申请日：2011-08-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사이토타카노리 ,  나카지마마코토

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/46 ,  C30B25/08 ,  C30B25/10 ,  C30B29/06 ,  C30B33/02 ,  C30B35/002

Abstract: PURPOSE: A heating treatment apparatus improves buckling strength of an outer shell by installing a reinforcing rib on the outer shell of an evacuated thermal insulation layer formation part. CONSTITUTION: A cylindrical reaction tube(3) comprises a flange on a lower end apt. A boat is stored inside of the reaction rube by mounting a wafer. A heater(2) heats inside of the reaction tube. An evacuated thermal insulation layer formation part comprises an inner shell(11) and an outer shell(12) which forms an evacuated thermal insulation layer(10a) between the inner cell and the evacuated thermal insulation layer. The inner shell and the outer shell respectively include a cylindrical body and a ceiling plate which covers the upper part of the cylindrical body.

Abstract translation: 目的：加热处理装置通过在真空绝热层形成部分的外壳上安装加强筋来提高外壳的弯曲强度。 构成：圆柱形反应管（3）包括下端的凸缘。 通过安装晶片将船存储在反应槽内。 加热器（2）在反应管内加热。 真空绝热层形成部分包括内壳（11）和外壳（12），其在内电池和抽空的绝热层之间形成抽真空的绝热层（10a）。 内壳和外壳分别包括圆筒体和覆盖圆柱体上部的顶板。