公开(公告)号：KR1020030044881A

公开(公告)日：2003-06-09

申请号：KR1020020075426

申请日：2002-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타노우에신야 ,  하야시마코토 ,  사카타토미히로

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: To check the influence upon and upstream processing section or a substrate to be processed to the minimum even when a process flow stagnates at a portion in a system. CONSTITUTION: In an upstream multistage unit section 44, heating units 52 and 54 and an adhesion unit 56 are piled up in a multiple stage on a path unit 50 and one or a plurality of buffer units 67(1)-67(3) is piled up in a multiple stage under the path unit 50. In a downstream multistage unit section 48, cooling units 62 and 64 and an adhesion unit 66 are piled up in a multiple stage on the path unit 50, and one or a plurality of buffer units 67(4)-67(6) is piled up in a multiple stage under a path unit 60. A transporting mechanism 46 carries a substrate in and out of an arbitrary unit in the multistage unit sections 44 and 48 adjoining the mechanism 46 on both sides of the mechanism 46 by performing access to the unit by vertically moving or rotating.

Abstract translation: 目的：即使当过程流程停滞在系统的一部分时，检查影响和上游处理部分或要处理的基板的最小值。 构成：在上游多段单元部分44中，加热单元52和5​​4以及粘附单元56堆叠在路径单元50上的多级中，并且一个或多个缓冲单元67（1）-67（3）是 在路径单元50的多级下堆积。在下游多级单元部分48中，冷却单元62和64以及粘附单元66堆叠在路径单元50上的多级中，并且一个或多个缓冲器 单元67（4）-67（6）在路径单元60下的多级堆积。传送机构46将邻近机构46的多段单元部分44和48中的任意单元中的基板输入和移出 通过垂直移动或旋转来访问单元，机构46的两侧。

公开(公告)号：KR101229609B1

公开(公告)日：2013-02-04

申请号：KR1020060017953

申请日：2006-02-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카에리야마타케오 ,  사타케준 ,  이와사키타츠야 ,  사카타토미히로 ,  사카이미츠히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 처리시스템에 관한 것으로서 반입유닛트 (IN 120) 및 세정 프로세스부 (25)에는 봉형상의 회전자 (160)을 소정의 피치로 배치하여 이루어지는 제 1 반송로 (162)가 설치되어 있다. 반입 유닛트 (IN 120)에는 반송유닛트 (20)의 반송기구 (22)로부터 한번에 2매의 기판 (G
i ; G
i
+1 )을 수평 상태에서 동시에 수취하여 일시적으로 지지하는 일시 지지부 (168)와 이 일시 지지부 (168)로부터 기판 (G
i ; G
i+1 )을 차례로 1매씩 반송로 (162)상의 소정위치에 로딩하는 이재기구 (170)가 설치되어 있는 카셋트 스테이션과 프로세스 스테이션의 사이에서 반송기구를 개재하여 기판 취급을 행하는 시스템에 있어서 택트 타임의 대폭개선을 실현하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR100912280B1

公开(公告)日：2009-08-17

申请号：KR1020020075426

申请日：2002-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타노우에신야 ,  하야시마코토 ,  사카타토미히로

IPC: G02F1/13

Abstract: 카세트스테이션에서 외부의 노광장치까지의 사이를 왕복하는 패스라인에 따라 복수의 기판을 순차적으로 반송하여 처리하는 기판처리시스템에 있어서, 상기 패스라인에 따라 상류측에 설치된 제 1 처리부 및 하류측에 설치된 제 2 처리부를 갖는 복수의 처리유니트군과, 상기 패스라인에 따라 반송되는 기판을 상기 제 1 처리부에서 받아들이는 제 1 패스유니트과, 제 1 패스유니트보다도 하류측에 배치되고, 상기 제 1 패스유니트을 통과한 기판을 상기 제 2 처리부로 내보내는 제 2 패스유니트과, 상기 제 1 및 제 2 패스유니트중에 적어도 한쪽의 상방에 설치된 열처리부와, 상기 제 1 및 제 2 패스유니트중 적어도 한쪽의 하방에 설치되고, 상기 패스라인상에서의 기판끼리의 충돌을 회피하기 위해, 기판을 일시적으로 체류하게 하는 적어도 하나의 버퍼유니트과, 상기 제 1 및 제 2 패스유니트과 상기 버퍼유니트간에 기판을 반송하는 수수 아암기구를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020060094488A

公开(公告)日：2006-08-29

申请号：KR1020060017953

申请日：2006-02-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카에리야마타케오 ,  사타케준 ,  이와사키타츠야 ,  사카타토미히로 ,  사카이미츠히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 처리시스템에 관한 것으로서 반입유닛트 (IN 120) 및 세정 프로세스부 (25)에는 봉형상의 회전자 (160)을 소정의 피치로 배치하여 이루어지는 제 1 반송로 (162)가 설치되어 있다. 반입 유닛트 (IN 120)에는 반송유닛트 (20)의 반송기구 (22)로부터 한번에 2매의 기판 (G
i ; G
i
+1 )을 수평 상태에서 동시에 수취하여 일시적으로 지지하는 일시 지지부 (168)와 이 일시 지지부 (168)로부터 기판 (G
i ; G
i+1 )을 차례로 1매씩 반송로 (162)상의 소정위치에 로딩하는 이재기구 (170)가 설치되어 있는 카셋트 스테이션과 프로세스 스테이션의 사이에서 반송기구를 개재하여 기판 취급을 행하는 시스템에 있어서 택트 타임의 대폭개선을 실현하는 기술을 제공한다.