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公开(公告)号:KR100560867B1
公开(公告)日:2006-03-13
申请号:KR1020010023353
申请日:2001-04-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/316
Abstract: 수산기 활성종 및 산소 활성종을 생성하는 처리용기내에서 진공분위기로 소정의 온도로 가열된 피처리체의 표면을 산화하는 산화방법이다. 수산기 활성종 및 산소 활성종은 처리용기내의 피처리체의 표면을 산화한다. 산화막의 막내 두께 균일성 및 품질이 개선되며, 산화율이 비교적 높은 수준으로 유지된다.
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公开(公告)号:KR1020030062366A
公开(公告)日:2003-07-23
申请号:KR1020037007373
申请日:2001-12-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/31
CPC classification number: H01L21/02046 , C30B33/00 , H01L21/02238 , H01L21/02255 , H01L21/02301 , H01L21/02312 , H01L21/31138 , H01L21/31662 , H01L21/67109
Abstract: 열처리장치(1)는 승온용 히터(12)를 갖아, 유기물이 부착한 웨이퍼(10)를 수용하는 반응관(2)과, 반응관(2)내에 산소가스를 공급하는 제 1 가스도입관(13)과, 수소가스를 공급하는 제 2 가스도입관(14)을 구비하고 있다. 제 1 가스도입관(13)에 의해 산소가스, 제 2 가스도입관(14)에 의해 수소가스가 반응관(2)내에 공급되어, 승온용 히터(12)에 의해 반응관(2)이 산소가스 및 수소가스가 활성화가능한 온도로 가열된다. 그리고, 반응관(2)내에서 연소반응이 일어나, 웨이퍼(10)에 부착한 유기물이 산화, 분해하여, 제거된다.
Abstract translation: 热处理装置1包括:用于容纳被有机物污染的晶片10的反应管2,该反应管2具有能够加热反应管的加热器12; 用于将氧气输送到反应管2中的第一气体供给管13; 和用于将氢气输送到反应管2中的第二气体供给管14.将氧气和氢气分别通过第一气体供给管13和第二气体供给管14供给到反应管2中,并且将加热器12 在能够活化氧气和氢气的温度下加热反应管2。 在反应管2中发生燃烧反应,从而附着在晶片10上的有机物质被氧化,分解并除去。 <图像>
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公开(公告)号:KR100886997B1
公开(公告)日:2009-03-04
申请号:KR1020037007373
申请日:2001-12-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/31
CPC classification number: H01L21/02046 , C30B33/00 , H01L21/02238 , H01L21/02255 , H01L21/02301 , H01L21/02312 , H01L21/31138 , H01L21/31662 , H01L21/67109
Abstract: 열처리장치(1)는 승온용 히터(12)를 갖아, 유기물이 부착한 웨이퍼(10)를 수용하는 반응관(2)과, 반응관(2)내에 산소가스를 공급하는 제 1 가스도입관(13)과, 수소가스를 공급하는 제 2 가스도입관(14)을 구비하고 있다. 제 1 가스도입관(13)에 의해 산소가스, 제 2 가스도입관(14)에 의해 수소가스가 반응관(2)내에 공급되어, 승온용 히터(12)에 의해 반응관(2)이 산소가스 및 수소가스가 활성화가능한 온도로 가열된다. 그리고, 반응관(2)내에서 연소반응이 일어나, 웨이퍼(10)에 부착한 유기물이 산화, 분해하여, 제거된다.
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公开(公告)号:KR1020010100932A
公开(公告)日:2001-11-14
申请号:KR1020010023353
申请日:2001-04-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/316
Abstract: 수산기 활성종 및 산소 활성종을 생성하는 처리용기내에서 진공분위기로 소정의 온도로 가열된 피처리체의 표면을 산화하는 산화방법이다. 수산기 활성종 및 산소 활성종은 처리용기내의 피처리체의 표면을 산화한다. 산화막의 막내 두께 균일성 및 품질이 개선되며, 산화율이 비교적 높은 수준으로 유지된다.
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