公开(公告)号：KR102039720B1

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：KR1020150108164

申请日：2015-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  제이에스알 가부시끼가이샤

Inventor： 아이바라메이토쿠 ,  요시다유키 ,  카와노히사시 ,  야마시타마사미 ,  칸노이타루 ,  모치다겐지 ,  시마모토유키

IPC: H01L21/02 ,  C11D11/00 ,  B08B3/08 ,  H01L21/67

公开(公告)号：KR1020160016671A

公开(公告)日：2016-02-15

申请号：KR1020150108164

申请日：2015-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  제이에스알 가부시끼가이샤

Inventor： 아이바라메이토쿠 ,  요시다유키 ,  카와노히사시 ,  야마시타마사미 ,  칸노이타루 ,  모치다겐지 ,  시마모토유키

IPC: H01L51/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02057 ,  B08B3/08 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 높은파티클제거성능을얻을수 있는것이다. 실시형태에따른기판세정방법은, 성막처리액공급공정과제거액공급공정을포함한다. 성막처리액공급공정은, 유기용매와, 불소원자를포함하고상기유기용매에가용인중합체를함유하는성막처리액을기판에공급한다. 제거액공급공정은, 성막처리액이기판상에서고화또는경화되어이루어지는처리막에대하여처리막을제거하는제거액을공급한다.

Abstract translation: 本发明可以获得高的除尘性能。 根据实施例的基板清洗方法包括成膜处理液体供给处理和去除液体供给处理。 成膜工艺液体供应工艺包括有机溶剂和氟原子，并将含有可溶于有机溶剂的聚合物的成膜工艺液体提供给基材。 去除液体供给过程将用于除去工艺膜的去除液提供给通过在基板上固化或固化成膜液而形成的处理膜。

公开(公告)号：KR1020160016667A

公开(公告)日：2016-02-15

申请号：KR1020150108099

申请日：2015-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이바라메이토쿠 ,  요시다유키 ,  카와노히사시 ,  야마시타마사미 ,  칸노이타루 ,  모치다겐지 ,  시마모토유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L51/00 ,  C07C69/00

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 높은파티클제거성능을얻는것이다. 실시형태에따른기판처리시스템은, 유지부와, 제거액공급부를구비한다. 유지부는, 유기용매와, 불소원자를포함하고유기용매에가용인중합체를함유하는처리막이형성된기판을유지한다. 제거액공급부는, 기판상의처리막에대하여처리막을제거하는제거액을공급한다.

Abstract translation: 本发明是为了获得高的除尘性能。 根据实施例，基板处理系统包括保持单元和去除溶液供应单元。 保持单元保持其上形成有处理膜的基板，其中处理膜包含有机溶剂和氟原子，并且含有可溶于有机溶剂的聚合物。 除去溶液供给单元将能够除去处理膜的去除溶液供给到基板上的处理膜。