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    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
    2.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 审中-实审
    已经记录了基板处理程序的基板处理设备基板处理方法和可计算机可读记录介质

    公开(公告)号：KR1020160143705A

    公开(公告)日：2016-12-14

    申请号：KR1020167029961

    申请日：2015-05-01

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 시노하라카즈요시 ,  요시다유키

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

    CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  F26B21/004 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

    Abstract: 기판처리장치는, 기판(3)을유지하면서회전시키는기판회전부(11)와, 기판에처리액을공급하는처리액공급부(13)와, 처리액공급부로부터공급된처리액과치환시키는치환액을기판에공급하는치환액공급부(14)를구비한다. 치환액공급부(14)가기판에치환액을공급하고있을때, 치환액공급부로부터공급되는치환액의기판상에대한공급위치보다기판의외주측의위치에처리액공급부(13)가처리액을공급하여처리액의액막을형성한다. 치환액의소비량을증대시키지않고, 기판의표면의전체가액막에의해덮인상태를유지할수 있다.

    Abstract translation: 基板处理装置包括：基板旋转单元11，被配置为保持和旋转基板3; 处理液供给部13，被配置为向所述基板供给处理液; 以及更换液体供给单元14，被配置为向所述基板供给更换从所述处理液供给单元供给的所述处理液的更换液体。 在替换液供给部14将更换液体供给到基板的情况下，处理液供给部13将处理液供给位于其位于其外周侧的基板上的位置，而不是更换液体的供给位置，形成液体 胶片处理液。 可以保持基板的整个表面被液膜覆盖而不增加更换液体的消耗量的状态。

    기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법
    3.
    发明公开
    기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 审中-实审
    液体加工设备和液体加工方法

    公开(公告)号：KR1020140148330A

    公开(公告)日：2014-12-31

    申请号：KR1020140074886

    申请日：2014-06-19

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 이노우에시게히사 ,  나가야마다이스케 ,  마츠키가츠후미 ,  마스즈미다쿠로 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠 ,  기요세히로미 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카 ,  고야마가즈야 ,  나가자와다카시

    IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683

    CPC classification number: B08B3/02 ,  H01L21/67051

    Abstract: An objective of the present invention is to provide an apparatus and a method of liquid processing a substrate, in which particles are suppressed from attaching to a substrate so that the substrate is satisfactorily processed. The liquid processing apparatus (1) of the present invention includes: a first processing liquid discharge unit (12) to discharge a first processing liquid in a form of liquid droplets, which contains pure water toward the surface of the substrate (13) ; and a second processing liquid discharge unit (13) to discharge a second processing liquid, which inverts a zeta electrical potential of a surface of the substrate (3) to a negative zeta potential, toward the surface of the substrate (3) processed by the first processing liquid in the form of the liquid droplets. For example, a pure water having carbon dioxide added is used as the first processing liquid and an SC-1 liquid is used as the second processing liquid.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理衬底的装置和方法，其中抑制颗粒附着到衬底上，使得衬底被令人满意地加工。 本发明的液体处理装置（1）包括：第一处理液体排出单元（12），其将含有纯水的液滴形式的第一处理液体朝向基板（13）的表面排出; 以及第二处理液体排出单元（13），用于将基板（3）的表面的ζ电位反转为负ζ电位的第二处理液朝向由所述基板（3）处理的基板（3）的表面 首先以液滴的形式处理液体。 例如，使用添加有二氧化碳的纯水作为第一处理液，使用SC-1液作为第二处理液。

    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
    7.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号：KR1020170017810A

    公开(公告)日：2017-02-15

    申请号：KR1020160099920

    申请日：2016-08-05

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가가와고지 ,  가와노히사시 ,  아이바라메이토쿠 ,  요시다유키

    IPC: H01L21/324 ,  H01L21/67 ,  H01L21/60 ,  H01L21/02

    CPC classification number: H01L21/0206 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67248

    Abstract: 본발명은, 요철패턴이표면에형성된기판으로부터, 요철패턴의오목부내에충전된, 승화성물질및 불순물을함유하는고형물을제거하고, 기판으로부터일단제거된승화성물질및 불순물의기판에의재부착을방지하는것을목적으로한다. 기판(W)의오목부내에충전된고형물이, 처리실(52) 내의분위기압력하, 제1 온도이상의온도에서승화하는고체상태의승화성물질과, 처리실(52) 내의분위기압력하, 제1 온도보다높은제2 온도이상의온도에서증발하는불순물을함유할때, 배기부(62) 및배기부(63) 중한쪽또는양쪽에의해처리실(52) 내의분위기를배출하면서, 기판가열부(57)에의해처리실(52) 내에배치된기판(W)을제2 온도이상의온도까지가열한다.

    Abstract translation: 为了从形成在基板的表面上的具有凹凸图案的基板上除去填充有凹凸图案的凹部的固体材料，并且通过使可升华物质溶液中的溶剂蒸发而形成 含有在等于或高于第一温度的温度升华的升华物质和在等于或高于第一温度的第二温度下蒸发的杂质，本发明提供了一种基板处理装置 以及将基板加热到等于或高于第二温度的温度的基板处理方法。

    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
    8.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 그리고 기판 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 审中-实审
    基板处理装置，基板处理方法和计算机可读存储介质基板处理程序

    公开(公告)号：KR1020140143700A

    公开(公告)日：2014-12-17

    申请号：KR1020140064547

    申请日：2014-05-28

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가와부치요스케 ,  카와노히사시 ,  다나카사토루 ,  스즈키히로유키 ,  오오이시코타로 ,  시노하라카즈요시 ,  요시다유키

    IPC: H01L21/302 ,  H01L21/08 ,  H01L21/00

    CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715

    Abstract: 기판 처리에서의 스루풋의 향상과 런닝 코스트의 저감을 도모하는 것이다. 본 발명에서는, 기판(3)을 처리액으로 처리한 후에 상기 기판(3)을 건조시키는 기판 처리 장치(1)에 있어서, 상기 기판(3)을 회전시키는 기판 회전 기구(22)와, 상기 기판(3)에 대하여 처리액을 토출하는 처리액 토출부(13)와, 상기 기판(3)에 대하여 상대적으로 이동하면서, 상기 기판(3) 상의 처리액과 치환되는 치환액을 상기 기판(3)을 향해 토출하는 치환액 토출부(14)와, 상기 기판(3)에 대하여 상기 치환액 토출부(14)와는 상이한 방향으로 이동하면서 불활성 가스를 상기 기판(3)의 상방으로부터 상기 기판(3)에 대하여 외주 방향으로 비스듬하게 토출하는 불활성 가스 토출부(15)를 가지는 것으로 했다.

    Abstract translation: 提供本发明以提高处理基板的通过量并降低其运行成本。 一种用处理液处理基板（3）并干燥基板（3）的基板处理装置（1）包括：基板旋转装置（22），其构造成使基板（3）旋转; 处理液体排出单元（13），被配置为将处理液体朝向基板（3）排出; 置换液体排出单元（14），被配置为在衬底（3）上将由处理液体取代的取代液体朝向衬底3排出，同时相对于衬底（3）相对移动; 以及惰性气体排出单元（15），其构造成在与所述基板（3）的移动方向不同的方向上移动时，向所述基板（3）的周边部朝向所述基板（3）的上方沿着倾斜方向排出惰性气体， 放电单元（14）。

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