公开(公告)号：KR101300329B1

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：KR1020080003813

申请日：2008-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지마루슈조 ,  야마모토겐세이

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67276

Abstract: 본 발명은 트러블이 발생하였을 때에 도포 현상 처리 장치 내에 있는 웨이퍼를, 조기에 또한 간단한 제어로 재처리하는 것을 목적으로 한다.
트러블이 발생하여 도포 현상 처리 장치의 동작이 정지되었을 때에, 그 때의 도포 현상 처리 장치 내에 있는 웨이퍼의 위치와 처리 상황의 웨이퍼 정보(I)를 기억한다. 그 후, 도포 현상 처리 장치의 전원이 끊긴다. 그 후, 도포 현상 처리 장치가 재기동되었을 때에, 도포 현상 처리 장치 내에 있는 웨이퍼를 카세트 내에 회수한다. 그 후, 카세트 내의 웨이퍼를, 트러블 발생 전과 동일한 반송 레시피(H)에 따라서 소정의 복수의 처리 유닛으로 순차 반송하고, 상기 웨이퍼 정보(I)에 기초하여 이미 처리가 종료되어 있는 처리 유닛에서는 그 웨이퍼의 처리를 행하지 않으며, 아직 처리가 행해지고 있지 않는 처리 유닛에서는 그 웨이퍼의 처리를 행하여, 상기 소정의 처리 레시피(P)의 나머지의 기판 처리를 행한다.

公开(公告)号：KR1020080087644A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：KR1020080003813

申请日：2008-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지마루슈조 ,  야마모토겐세이

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G03F7/70483

Abstract: A substrate processing method, a substrate processing apparatus, and a computer readable recording medium are provided to perform a residual treatment process of a substrate within a substrate processing apparatus. A data storage process is performed to memorize a position of a substrate within a substrate processing apparatus and substrate information of processing states when an operation of the substrate processing apparatus is stopped by a trouble(Q1,Q2). The substrate is transferred from the substrate processing apparatus to a substrate reception unit when the power of the substrate processing apparatus is interrupted and the substrate processing apparatus is operated again(Q3,Q4). The substrate is collected from the substrate processing apparatus(Q6). The wafer is transferred and the residual process is executed by using a carrier recipe(Q7).

Abstract translation: 提供基板处理方法，基板处理装置和计算机可读记录介质，以执行基板处理装置内的基板的残留处理工艺。 执行数据存储处理以在基板处理装置的操作由于故障（Q1，Q2）停止时存储基板处理装置内的基板的位置和处理状态的基板信息。 当衬底处理装置的电力中断并且衬底处理装置再次操作时，衬底从衬底处理装置转移到衬底接收单元（Q3，Q4）。 从基板处理装置（Q6）收集基板。 传送晶片，通过使用载体配方（Q7）执行残留处理。

公开(公告)号：KR101177602B1

公开(公告)日：2012-08-27

申请号：KR1020080034634

申请日：2008-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다이세이 ,  하야시다야스시 ,  미야타아키라 ,  야마모토겐세이 ,  야마모토유이치 ,  마츠시타미치아키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67769 ,  Y10S414/139

Abstract: 본 발명은 도포 현상 처리 시스템에서 웨이퍼의 처리 효율을 향상시키는 것을 과제로 한다.
도포 현상 처리 시스템의 반입출 블록에, 카세트 대기 블록(6)이 접속된다. 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110)와, 카세트 대기부(111)와, 카세트 전달부(112)와, 웨이퍼 처리부(113)가 설치된다. 또한, 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110), 카세트 대기부(111) 및 카세트 전달부(112) 사이에서 카세트(C)를 반송하는 카세트 반송 장치(120)와, 카세트 대기부(111)의 카세트(C)와 웨이퍼 처리부(113) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송 장치(121)가 설치된다. 각 카세트 대기부(111)에는, 카세트(C)의 도어 오프너(115)가 설치된다.
웨이퍼, 도포 현상 처리 시스템, 기판, 매엽식, 처리 블록

公开(公告)号：KR1020090004452A

公开(公告)日：2009-01-12

申请号：KR1020080034634

申请日：2008-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다이세이 ,  하야시다야스시 ,  미야타아키라 ,  야마모토겐세이 ,  야마모토유이치 ,  마츠시타미치아키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67769 ,  Y10S414/139

Abstract: A substrate processing system is provided to improve the process efficiency of the substrate by using the latency time of substrate. A cassette standby block(6) is connected to a carrying block of the coating and developing processing system. A cassette carrying port(110), a cassette standby unit(111), and a cassette conveying section(112) and a wafer processing unit(113) are installed at the cassette standby block. The cassette carrying port, and a cassette return device(120) and a wafer carrying apparatus(121) are installed at the cassette standby block. The cassette(C) is returned by the cassette return device between the cassette standby unit and the cassette conveying section. The wafer is returned by the wafer carrying apparatus between the cassette standby unit and the wafer processing unit.

Abstract translation: 提供了一种衬底处理系统，通过使用衬底的延迟时间来提高衬底的工艺效率。 盒式备用块（6）连接到涂层和显影处理系统的承载块。 盒式磁带承载端口（110），盒式备用单元（111）和盒式磁带传送部分（112）和晶片处理单元（113）安装在盒式备用块上。 盒式磁带携带端口和盒式磁带返回装置（120）和晶片承载装置（121）安装在磁带备用块上。 盒式磁带（C）由磁带盒备用单元和磁带盒传送部分之间的磁带盒返回装置返回。 晶片由晶片承载装置返回到盒备用单元和晶片处理单元之间。