中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

8 records (took 0.027 seconds)

    기판 유지 부재
    1.
    实用新型
    기판 유지 부재 有权
    衬底支持成员

    公开(公告)号：KR200485625Y1

    公开(公告)日：2018-02-01

    申请号：KR2020130010095

    申请日：2013-12-06

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 모토이고우지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다스구루 ,  도요다야스노리 ,  기야마히데카즈

    IPC: H01L21/677 ,  B25J15/00

    Abstract: 본발명은기판유지아암에부착되는기판유지부재의교환에요하는시간의단축, 작업자간차이의시정및 교환에요하는비용을억제할수 있는기판유지부재를제공하는것을목적으로한다. 기판유지아암(11)의일부를구성하는프레임부(100)에부착되는기판유지부재(12)는, 프레임부에부착되는토대부(20)와, 토대부(20) 상에부착되는가이드부(30)를구비하고, 토대부(20)와가이드부(30)는서로감합하는토대부와가이드부에형성된위치결정오목부(22)와위치결정볼록부(32)를통해착탈가능하게연결된다.

    Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种基板保持部件，该基板保持部件能够缩短更换安装在基板保持臂上的基板保持部件所需的时间，并且能够修正并替换作业人员之间的差异。 附接到构成基板保持臂11的一部分的框架部分100的基板保持构件12包括附接到框架部分的带齿部分20和引导部分 脚趾部分20和引导部分30通过形成在引导部分中的定位凹槽22和定位凸部32可拆卸地连接 。

    기판 처리 시스템
    4.
    发明授权
    기판 처리 시스템 有权
    基板加工系统

    公开(公告)号：KR101177602B1

    公开(公告)日：2012-08-27

    申请号：KR1020080034634

    申请日：2008-04-15

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 우에다이세이 ,  하야시다야스시 ,  미야타아키라 ,  야마모토겐세이 ,  야마모토유이치 ,  마츠시타미치아키

    IPC: H01L21/027 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

    CPC classification number: H01L21/67769 ,  Y10S414/139

    Abstract: 본 발명은 도포 현상 처리 시스템에서 웨이퍼의 처리 효율을 향상시키는 것을 과제로 한다.
    도포 현상 처리 시스템의 반입출 블록에, 카세트 대기 블록(6)이 접속된다. 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110)와, 카세트 대기부(111)와, 카세트 전달부(112)와, 웨이퍼 처리부(113)가 설치된다. 또한, 카세트 대기 블록(6)에는, 카세트 반입출부(110), 카세트 대기부(111) 및 카세트 전달부(112) 사이에서 카세트(C)를 반송하는 카세트 반송 장치(120)와, 카세트 대기부(111)의 카세트(C)와 웨이퍼 처리부(113) 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송 장치(121)가 설치된다. 각 카세트 대기부(111)에는, 카세트(C)의 도어 오프너(115)가 설치된다.
    웨이퍼, 도포 현상 처리 시스템, 기판, 매엽식, 처리 블록

    기판 처리 시스템
    5.
    发明公开
    기판 처리 시스템 有权
    基板加工系统

    公开(公告)号：KR1020090004452A

    公开(公告)日：2009-01-12

    申请号：KR1020080034634

    申请日：2008-04-15

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 우에다이세이 ,  하야시다야스시 ,  미야타아키라 ,  야마모토겐세이 ,  야마모토유이치 ,  마츠시타미치아키

    IPC: H01L21/027 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

    CPC classification number: H01L21/67769 ,  Y10S414/139

    Abstract: A substrate processing system is provided to improve the process efficiency of the substrate by using the latency time of substrate. A cassette standby block(6) is connected to a carrying block of the coating and developing processing system. A cassette carrying port(110), a cassette standby unit(111), and a cassette conveying section(112) and a wafer processing unit(113) are installed at the cassette standby block. The cassette carrying port, and a cassette return device(120) and a wafer carrying apparatus(121) are installed at the cassette standby block. The cassette(C) is returned by the cassette return device between the cassette standby unit and the cassette conveying section. The wafer is returned by the wafer carrying apparatus between the cassette standby unit and the wafer processing unit.

    Abstract translation: 提供了一种衬底处理系统，通过使用衬底的延迟时间来提高衬底的工艺效率。 盒式备用块（6）连接到涂层和显影处理系统的承载块。 盒式磁带承载端口（110），盒式备用单元（111）和盒式磁带传送部分（112）和晶片处理单元（113）安装在盒式备用块上。 盒式磁带携带端口和盒式磁带返回装置（120）和晶片承载装置（121）安装在磁带备用块上。 盒式磁带（C）由磁带盒备用单元和磁带盒传送部分之间的磁带盒返回装置返回。 晶片由晶片承载装置返回到盒备用单元和晶片处理单元之间。

    기판 지지 장치 및 기판 지지 방법
    6.
    发明授权
    기판 지지 장치 및 기판 지지 방법 有权
    基板支持设备和基板支持方法

    公开(公告)号：KR101534357B1

    公开(公告)日：2015-07-06

    申请号：KR1020100027568

    申请日：2010-03-26

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다스구루 ,  모리카와가츠히로

    IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/68

    CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707

    Abstract: 본발명은기판과의접촉에의한마모및 기판을통한약품에의한부식에의해기판을정상적으로지지할수 없게되는것을저지할수 있는기판지지장치를제공한다. 기판의이면을지지하는이면지지부를구비한지지부재와, 이지지부재에설치되고, 상기이면지지부에지지된기판의측면을둘러싸며, 기판의위치를규제하는위치규제부를포함하고, 상기이면지지부및 상기위치규제부중 하나이상은, 기재와, 이기재를피복하며, 그마모및 화학적침식중 하나이상을저지하기위한보호막을포함하는기판지시장치를구성한다. 이기판지지장치는, 예컨대상기지지부재를지지하는기체와, 상기기체에대하여지지부재를이동시키기위한구동기구를더 포함하고, 기판반송장치로서구성된다. 또한상기지지부재는, 예컨대기판을가열또는냉각하기위한온도조정판으로서구성된다.

    기판 보지 부재, 기판 반송 암 및 기판 반송 장치
    8.
    发明公开
    기판 보지 부재, 기판 반송 암 및 기판 반송 장치 有权
    基板保持构件，基板转移臂和基板传送装置

    公开(公告)号：KR1020100117021A

    公开(公告)日：2010-11-02

    申请号：KR1020100029764

    申请日：2010-04-01

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다수구루 ,  모리카와카츠히로

    IPC: H01L21/677 ,  B25J15/08 ,  B65G49/07

    CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/009 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/6875 ,  Y10S414/141

    Abstract: PURPOSE: A substrate supporting unit, a substrate transferring arm, and a substrate transferring unit are provided to reduce the abrasion of the substrate supporting unit and the contamination of a substrate by including a cross-section contact part with an R-shaped part and an overhang part. CONSTITUTION: A rear side supporting unit(5) supports a substrate by being in contact with the rear side of the substrate. A cross-section contact part is in contact with the cross-section of the substrate. An R-shaped part(8) is formed into an R-shape and is in contact with the cross-section of the substrate in order to prevent the substrate from being escaped. An overhang part(81) is installed over the R-shaped part.

    Abstract translation: 目的：提供基板支撑单元，基板转印臂和基板转印单元，以通过将截面接触部分包括R形部分和/或基板支撑单元的横截面接触部分来减少基板支撑单元的磨损和基板的污染 突出部分。 构成：后侧支撑单元（5）通过与基板的后侧接触来支撑基板。 横截面接触部分与衬底的横截面接触。 R形部分（8）形成为R形并且与衬底的横截面接触以防止衬底逸出。 突出部分（81）安装在R形部分上。

Patent Agency Ranking